Høy renhet 8-tommers silisiumskive

Kort beskrivelse:

VET Energys 8-tommers silisiumskiver med høy renhet er det ideelle valget for halvlederproduksjon. Disse skivene er laget med avansert teknologi og har utmerket krystallkvalitet og flat overflate, noe som gjør dem egnet for produksjon av en rekke mikroelektroniske enheter.


Produktdetaljer

Produktetiketter

VET Energys 8-tommers silisiumskiver er mye brukt i kraftelektronikk, sensorer, integrerte kretser og andre felt. Som en leder innen halvlederindustrien er vi forpliktet til å tilby Si Wafer-produkter av høy kvalitet for å møte kundenes økende behov.

I tillegg til Si-wafer tilbyr VET Energy også et bredt spekter av halvledersubstratmaterialer, inkludert SiC-substrat, SOI-wafer, SiN-substrat, Epi-wafer, osv. Produktlinjen vår dekker også nye halvledermaterialer med bredt båndgap som galliumoksid Ga2O3 og AlN-wafer, noe som gir sterk støtte til utviklingen av neste generasjons kraftelektroniske enheter.

VET Energy har avansert produksjonsutstyr og et komplett kvalitetsstyringssystem for å sikre at hver wafer oppfyller strenge industristandarder. Produktene våre har ikke bare utmerkede elektriske egenskaper, men har også god mekanisk styrke og termisk stabilitet.

VET Energy tilbyr kundene tilpassede waferløsninger, inkludert wafere i forskjellige størrelser, typer og dopingkonsentrasjoner. I tillegg tilbyr vi også profesjonell teknisk støtte og ettersalgsservice for å hjelpe kundene med å løse ulike problemer som oppstår under produksjonsprosessen.

第6页-36
第6页-35

SPESIFIKASJONER FOR VAFFERING

*n-Pm=n-type Pm-kvalitet, n-Ps=n-type Ps-kvalitet, Sl=Halvisolerende

Punkt

8-tommers

6-tommers

4-tommers

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

TTV (GBIR)

≤6um

≤6um

Bue(GF3YFCD) – Absolutt verdi

≤15 μm

≤15 μm

≤25 μm

≤15 μm

Varp (GF3YFER)

≤25 μm

≤25 μm

≤40 μm

≤25 μm

LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm

<2 μm

Waferkant

Avfasing

OVERFLATEFINISH

*n-Pm=n-type Pm-kvalitet, n-Ps=n-type Ps-kvalitet, Sl=Halvisolerende

Punkt

8-tommers

6-tommers

4-tommers

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

Overflatebehandling

Dobbeltsidig optisk polering, Si-Face CMP

Overflateruhet

(10µm x 10µm) Si-FaceRa≤0,2nm
C-Face Ra≤ 0,5 nm

(5umx5um) Si-Face Ra≤0,2nm
C-Face Ra≤0,5 nm

Kantbrikker

Ingen tillatt (lengde og bredde ≥0,5 mm)

Innrykk

Ingen tillatt

Riper (Si-Face)

Antall ≤5, Kumulativ
Lengde ≤0,5 × skivediameter

Antall ≤5, Kumulativ
Lengde ≤0,5 × skivediameter

Antall ≤5, Kumulativ
Lengde ≤0,5 × skivediameter

Sprekker

Ingen tillatt

Kantekskludering

3 mm

tech_1_2_size
下载 (2)

  • Tidligere:
  • Neste:

  • WhatsApp online chat!