TheCVD TaC ObductumSusceptor laminaris a vet-china fabricatus est ad magnam efficaciam in processibus depositionis vaporis chemici (CVD). Hic susceptor robustam praebet...Tegumentum TaC (Tantalum Carbide), stabilitatem thermalem, resistentiam chemicam, et durabilitatem exceptionalem offerens, eam solutionem idealem ad fabricationem semiconductorum et applicationes altae temperaturae faciens.Obductio CVD TaCPraeclaram resistentiam oxidationi et detritioni praestat, permittens susceptori integritatem et functionem suam in condicionibus asperis conservare.
veterinarii-sinensisCVD TaC ObductumSusceptor Laminaris eminet facultate sua aequaliter calorem distribuendi per processus CVD, depositionem accuratam stratorum curans et efficientiam fabricationis semiconductorum augens. Obductio Ta-C praesidium additum contra corrosionem chemicam praebet, vitam susceptoris extendens et efficaciam generalem emendans. Cum combinatione technologiae susceptoris CVD provectae et obductionum chemicarum TaC altae qualitatis, hic susceptor est pars clavis industriis quae praecisionem et firmitatem in ambitu altae temperaturae requirunt.
Sive in productione semiconductorum sive in aliis applicationibus technologiae provectae adhibeatur,Laminae Susceptor TaC Obductae CVDAd postulata fabricationis modernae implenda destinatum est. Fama Semicerae de innovatione et qualitate sustentatum, hoc productum praebet praestantiam et diuturnam durabilitatem, ita ut sit electio fida pro processibus CVD.
Tegumentum TaC est genus tegumenti carburi tantalii (TaC) per technologiam depositionis vaporis physici praeparatum, sequentes proprietates habet:
1. Alta duritia: Alta duritia strati TaC est, plerumque ad 2500-3000HV pervenire potest, stratum durum optimum est.
2. Resistentia attritionis: Tegumentum TaC valde resistens est attritioni, quod efficaciter attritionem et damnum partium mechanicarum in usu minuere potest.
3. Bona resistentia altae temperaturae: Obductio TaC etiam excellentem functionem sub ambitu altae temperaturae conservare potest.
4. Bona stabilitas chemica: Obductio TaC bonam stabilitatem chemicam habet et multis reactionibus chemicis, ut acidis et basibus, resistere potest.
| 碳化钽涂层物理特性物理特性 Proprietates physicae TaC obductio | |
| 密度Densitas | 14.3 (g/cm³) |
| 比辐射率 / Emissivitas specifica | 0.3 |
| 热膨胀系数 / Coefficiens expansionis thermalis | 6.3 10-6/K |
| 努氏硬度/ Duritia (HK) | MM Hong Kongensis |
| 电阻 / Resistentia | 1×10-5 Ohm*cm |
| 热稳定性 / Stabilitas thermalis | <2500℃ |
| 石墨尺寸变化 / Mutationes magnitudinis graphiti | -10~-20um |
| 涂层厚度 Crassitudo strati | Valor typicus ≥20um (35um±10um) |
Societas Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd. est societas technologiae provectae, quae in productione et venditione materiarum provectarum incumbit, materias et technologiam graphitum, carburum silicii, ceramicas, tractationem superficierum, et cetera comprehendens. Producta late in photovoltaicis, semiconductoribus, energia nova, metallurgia, et cetera adhibentur.
Turma nostra technica ex summis institutis investigationis domesticis venit, quae solutiones materiales professionaliores tibi praebere potest.
Calidissime te invitamus ut officinam nostram visites, ulterius disseramus!
-
Dolium porosum tantali carburo obductum
-
Tubus Tantali Carbidi Altae Qualitatis pro Cristallino SiC...
-
Anulus ductor graphitaceus TaC obductus
-
Pars Semilunaris Graphica Superior et Inferior pro Si...
-
Magnae Magnitudinis Recrystallizatae Silicii Carbidi Wafer...
-
SiC Solidum CVD Altae Puritatis cum Base Graphitica




