TaC قاپلاش دېگەن نېمە؟

تېز تەرەققىي قىلىۋاتقان يېرىم ئۆتكۈزگۈچ كەسپىدە ئىقتىدار ، چىداملىق ۋە ئۈنۈمنى ئاشۇرىدىغان ماتېرىياللار ئىنتايىن مۇھىم. بۇنداق يېڭىلىقلارنىڭ بىرى Tantalum Carbide (TaC) سىر ، گرافت زاپچاسلىرىغا قوللىنىلغان ئالدىنقى قاتاردىكى قوغداش قەۋىتى. بۇ بىلوگ TaC سىرنىڭ ئېنىقلىمىسى ، تېخنىكىلىق ئەۋزەللىكى ۋە يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياساشتىكى ئۆزگىرىشچان قوللىنىشچان پروگراممىلىرى ئۈستىدە ئىزدىنىدۇ.

Ⅰ. TaC قاپلاش دېگەن نېمە؟

TaC قەۋىتى گرافت يۈزىگە قويۇلغان تانتال كاربون (تانتال ۋە كاربوننىڭ بىرىكمىسى) دىن تەركىب تاپقان يۇقىرى ئىقتىدارلىق ساپال قەۋەت. بۇ سىر ئادەتتە خىمىيىلىك ھور چۆكۈش (CVD) ياكى فىزىكىلىق ھور چۆكۈش (PVD) تېخنىكىسى ئارقىلىق قوللىنىلىپ ، قويۇق ، دەرىجىدىن تاشقىرى ساپ توساق ھاسىل قىلىپ ، گرافتنى ئىنتايىن ناچار شارائىتتىن قوغدايدۇ.

TaC سىرنىڭ ئاساسلىق خۇسۇسىيىتى

●يۇقىرى تېمپېراتۇرا مۇقىملىقى: تېمپېراتۇرا 2200 سېلسىيە گرادۇستىن ئېشىپ ، كرېمنىي كاربون (SiC) غا ئوخشاش ئەنئەنىۋى ماتېرىياللاردىن ئېشىپ ، 1600 سېلسىيە گرادۇستىن تۆۋەنلەيدۇ.

●خىمىيىلىك قارشىلىق: يېرىم ئۆتكۈزگۈچ پىششىقلاپ ئىشلەش مۇھىتىدا ئىنتايىن مۇھىم بولغان ھىدروگېن (H₂) ، ئاممىياك (NH₃) ، كرېمنىي ھور ۋە ئېرىتىلگەن مېتاللارنىڭ چىرىشىگە قارشى تۇرىدۇ.

●دەرىجىدىن تاشقىرى يۇقىرى ساپلىق: كەچ سائەت 5 دىن تۆۋەن بولغان ساپلىق دەرىجىسى ، خرۇستال ئۆسۈش جەريانىدىكى بۇلغىنىش خەۋپىنى ئەڭ تۆۋەن چەككە چۈشۈرۈش.

●ئىسسىقلىق ۋە مېخانىكىلىق چىداملىق: گرافتقا كۈچلۈك چاپلىشىش ، تۆۋەن ئىسسىقلىق كېڭىيىش (6.3 × 10⁻⁶ / K) ، قاتتىقلىق (~ 2000 HK) ئىسسىقلىق ۋېلىسىپىت ئاستىدا ئۇزۇن ئۆمۈر كۆرۈشكە كاپالەتلىك قىلىدۇ.

Ⅱ. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياساشتىكى TaC قاپلاش: ئاچقۇچلۇق قوللىنىشچان پروگراممىلار

ئىلغار يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياساشتا TaC بىلەن قاپلانغان گرافت زاپچاسلىرى كەم بولسا بولمايدۇ ، بولۇپمۇ كرېمنىي كاربون (SiC) ۋە گاللىي نىترىد (GaN) ئۈسكۈنىلىرىدە. تۆۋەندە ئۇلارنىڭ ھالقىلىق ئىشلىتىش ئەھۋاللىرى:

1. SiC يەككە خرۇستال ئۆسۈش

ئېلېكترون مەھسۇلاتلىرى ۋە ئېلېكتر ماتورلۇق ماشىنىلار ئۈچۈن SiC ۋافېر ئىنتايىن مۇھىم. TaC بىلەن قاپلانغان گرافت كرېست ۋە سېزىمچان ماددىلار فىزىكىلىق ھور توشۇش (PVT) ۋە يۇقىرى تېمپېراتۇرا CVD (HT-CVD) سىستېمىسىدا ئىشلىتىلىدۇ:

● بۇلغىنىشنى بېسىڭ: TaC نىڭ تۆۋەن نىجاسەت تەركىبى (مەسىلەن ، بور <0.01 ppm بىلەن گرافتتا 1 ppm) SiC كىرىستاللىرىدىكى كەمتۈكلۈكنى ئازايتىپ ، ۋافېرنىڭ قارشىلىق دەرىجىسىنى ئۆستۈرىدۇ (يېپىشمىغان گرافتنىڭ 4.5 ئوم-سانتىمېتىر بىلەن 0.1 ئوم cm).

The ئىسسىقلىق باشقۇرۇشنى كۈچەيتىش: بىردەك تارقىلىشچانلىقى (° C 0.3 ° C 0.3) ئىزچىل ئىسسىقلىق تارقىتىشقا كاپالەتلىك قىلىپ ، خرۇستال سۈپىتىنى ئەلالاشتۇرىدۇ.

Epitaxial Growth (GaN / SiC)

مېتال ئورگانىك CVD (MOCVD) رېئاكتورلىرىدا ، ۋافېر توشۇغۇچى ۋە ئوكۇل ئۇرغۇچىغا ئوخشاش TaC قاپلانغان زاپچاسلار:

●تەبىئىي گازنىڭ ئالدىنى ئېلىش: 1400 سېلسىيە گرادۇسلۇق ئاممىياك ۋە ھىدروگېننىڭ سۈمۈرۈلۈشىگە قارشى تۇرىدۇ ، رېئاكتورنىڭ مۇكەممەللىكىنى ساقلايدۇ.

●ھوسۇلنى ياخشىلاش: گرافتتىن زەررىچە تۆكۈلۈشنى ئازايتىش ئارقىلىق ، CVD TaC سىر يېپىشقاق قەۋىتىدىكى كەمتۈكلۈكنى ئەڭ تۆۋەن چەككە چۈشۈرۈپ ، يۇقىرى ئىقتىدارلىق LED ۋە RF ئۈسكۈنىلىرى ئۈچۈن ئىنتايىن مۇھىم.

3. باشقا يېرىم ئۆتكۈزگۈچ قوللىنىشچان پروگراممىلىرى

●يۇقىرى تېمپېراتۇرا رېئاكتورى: GaN ئىشلەپچىقىرىشتىكى سۈمۈرگۈچ ۋە ئىسسىتقۇچ TaC نىڭ ھىدروگېن مول مۇھىتتىكى مۇقىملىقىدىن مەنپەئەتلىنىدۇ.

●Wafer Handling: ئۈزۈك ۋە قاپاق قاتارلىق سىرلانغان زاپچاسلار ۋافېر يۆتكەش جەريانىدا مېتالنىڭ بۇلغىنىشىنى ئازايتىدۇ

Ⅲ. نېمە ئۈچۈن TaC قاپلاش ئۇسۇلى تاللاشتىن ئېشىپ كېتىدۇ؟

ئادەتتىكى ماتېرىياللار بىلەن سېلىشتۇرۇش TaC نىڭ ئەۋزەللىكىنى گەۋدىلەندۈردى:

كەسىپ سېلىشتۇرۇشتىن كەلگەن سانلىق مەلۇماتلار

IV. نېمىشقا VET نى تاللايسىز؟

تېخنىكا تەتقىقاتى ۋە تەرەققىياتىغا ئۇدا مەبلەغ سالغاندىن كېيىن ،VET'Tantalum carbide (TaC) سىرلانغان زاپچاسلار ، مەسىلەنTaC سىرلانغان گرافت يېتەكچى ھالقىسى, CVD TaC قاپلانغان تەخسە سۈمۈرگۈچEpitaxy ئۈسكۈنىلىرىنىڭ TaC قاپلانغان سۈمۈرگۈچ ،تانتال كاربون سىرلانغان گرافت ماتېرىيالىۋەTaC سىر بىلەن Wafer سۈمۈرگۈچ، ياۋروپا ۋە ئامېرىكا بازارلىرىدا ناھايىتى ئالقىشقا ئېرىشكەن. VET سىزنىڭ ئۇزۇن مۇددەتلىك ھەمراھىڭىزغا ئايلىنىشىنى چىن دىلىمىزدىن ئۈمىد قىلىدۇ.