Si ئېپىتاكسىيال قىسىملىرى

كرېمنىي ئېپىتاكسىيەسى ئۈچۈن CVD SiC قاپلانغان زاپچاسلار (Si Epi)

بىر پارچە ۋافېرلىق ۋە تۈركۈملۈك كرېمنىي ئېپىتاكسىيال چۆكمە سىستېمىسى ئۈچۈن ئېنىق لايىھەلەنگەن CVD SiC قاپلانغان سېپتورلىرىمىز، سۈنئىي ھەمراھ دىسكىلىرىمىز ۋە ئىسسىقلىق مەيدانى زاپچاسلىرىمىز ئالاھىدە ئىسسىقلىق بىردەكلىكى ۋە نۆل گاز چىقىرىشنى تەمىنلەيدۇ. يۇقىرى زىچلىقتىكى كۇب β-SiC قاپلاش قەۋىتى يۇقىرى ساپلىقتىكى گرافىت ئاساسىي قەۋىتىنى تولۇق ئوراپ، رېئاكتىپ گازنىڭ (SiH₄، SiH₂Cl₂، HCl) ئويۇلۇشىنىڭ ئالدىنى ئالىدۇ ھەمدە يۇقىرى تېمپېراتۇرىدا Si Epi پىششىقلاپ ئىشلەش جەريانىدا (1000°C - 1200°C) ئىنتايىن تۆۋەن مېتال ئارىلاشما سەۋىيەسىنى (< 5 ppm) كاپالەتلەندۈرىدۇ.

ئىسسىقلىق مەيدانىنىڭ بىردەكلىكى

كونترول قىلىنىدىغان نۇر چىقىرىش مىقدارى ۋافېرنىڭ چېتىدىن مەركەزگىچە بولغان پىلاستىنكا قېلىنلىقىنىڭ ئېنىق مۇقىملىقىنى كاپالەتلەندۈرىدۇ.

HCl نىڭ ئېچىلىشقا قارشىلىق كۆرسىتىشى

ئورنىدىكى كامېر تازىلاش خىمىيىلىك ماددىلار ۋە ئىسسىقلىق سوقۇلۇشلىرىدىن كۈچلۈك قوغداش بىلەن تەمىنلەيدۇ.

OEM سىستېمىسىنىڭ ماسلىشىشى

ئاساسىي ئېقىمدىكى 200mm/300mm يەككە ۋافېرلىق Epi قوراللىرىغا (قوللىنىشچان ماتېرىياللار، ASM) ماس كېلىدىغان ئېنىقلىقتىكى CNC پىششىقلاپ ئىشلەنگەن.

تېخنىكىلىق پارامېتىر ئۆلچەم قىممىتى ئۆلچەملىك / سىناق ئۇسۇلى
قاپلاش ماتېرىيالى CVD β-SiC (كۇب باسقۇچ) يۇقىرى زىچلىقتىكى كىرىستال قۇرۇلمىسى
ئاساسىي ماتېرىيال ئۇلترا ساپ ئىزوستاتىك گرافىت زىچلىقى: 1.82 - 1.88 گرام/cm³
خىمىيىلىك ساپلىق ئومۇمىي ئارىلاشمىلار < 5 ppm GDMS سىنىقىدىن ئۆتتى
قاپلاش قېلىنلىقى 80 مىكرومېتىر - 150 مىكرومېتىر بىردەكلىك ≤ ±5%
WhatsApp توردا پاراڭلىشىش!