Susceptor de barril para epitaxia en fase líquida LPE

Susceptor de barril para epitaxia en fase líquida LPE

EPI (Epitaxe)é un proceso crítico na fabricación de semicondutores avanzados. Implica a deposición de capas finas de material sobre un substrato para crear estruturas de dispositivos complexas. Os susceptores de barril de grafito recubertos de SiC para EPI úsanse habitualmente como susceptores en reactores EPI debido á súa excelente condutividade térmica e resistencia a altas temperaturas. ConRevestimento CVD-SiC, faise máis resistente á contaminación, á erosión e ao choque térmico. Isto resulta nunha maior vida útil do susceptor e nunha mellora da calidade da película.

Vantaxes do noso susceptor de barril para epitaxia en fase líquida LPE:
Contaminación reducida:A natureza inerte do SiC impide que as impurezas se adhiran á superficie do susceptor, o que reduce o risco de contaminación das películas depositadas.
Maior resistencia á erosión:O SiC é significativamente máis resistente á erosión que o grafito convencional, o que leva a unha maior vida útil do susceptor.
Mellora da estabilidade térmica:O SiC ten unha excelente condutividade térmica e pode soportar altas temperaturas sen distorsións significativas.
Calidade de película mellorada:A mellora da estabilidade térmica e a redución da contaminación dan lugar a películas depositadas de maior calidade con uniformidade e control do grosor mellorados.