Susceptor de barril para epitaxia de fase líquida LPE

Susceptor de barril para epitaxia em fase líquida LPE

EPI (Epitaxia)é um processo crítico na fabricação de semicondutores avançados. Envolve a deposição de finas camadas de material sobre um substrato para criar estruturas de dispositivos complexas. Susceptores cilíndricos de grafite revestidos com SiC para EPI são comumente usados ​​como susceptores em reatores de EPI devido à sua excelente condutividade térmica e resistência a altas temperaturas.Revestimento CVD-SiC, torna-se mais resistente à contaminação, erosão e choque térmico. Isso resulta em uma vida útil mais longa para o susceptor e em uma melhor qualidade do filme.

Vantagens do nosso suporte cilíndrico para epitaxia em fase líquida (LPE):
Contaminação reduzida:A natureza inerte do SiC impede que impurezas se adiram à superfície do suporte, reduzindo o risco de contaminação dos filmes depositados.
Maior resistência à erosão:O SiC é significativamente mais resistente à erosão do que o grafite convencional, resultando em uma vida útil mais longa para o susceptor.
Estabilidade térmica aprimorada:O SiC possui excelente condutividade térmica e pode suportar altas temperaturas sem distorção significativa.
Qualidade de imagem aprimorada:A melhoria na estabilidade térmica e a redução da contaminação resultam em filmes depositados de maior qualidade, com melhor uniformidade e controle de espessura.