Kaydinta uumiga kiimikada(CVD)waa tiknoolajiyada ugu isticmaalka badan warshadaha semiconductor-ka ee lagu kaydiyo agabyo kala duwan, oo ay ku jiraan noocyo badan oo agab dahaadh ah, inta badan agabka birta iyo agabka birta ah.
CVD waa tignoolajiyad dhaqameed oo loogu talagalay diyaarinta filim khafiif ah. Mabda'eedu waa in la isticmaalo horgalayaasha gaaska si loo burburiyo qaybo gaar ah oo ku jira horudhaca iyada oo loo marayo falgallada kiimikada ee u dhexeeya atamka iyo molecules-ka, ka dibna la sameeyo filim khafiif ah oo ku yaal substrate-ka. Astaamaha aasaasiga ah ee CVD waa: isbeddellada kiimikada (falgallada kiimikada ama kala-goynta kulaylka); dhammaan walxaha ku jira filimka waxay ka yimaadaan ilo dibadeed; falgalayaasha waa inay ka qaybqaataan falgalka qaabka marxaladda gaaska.
Kaydinta uumiga kiimikada ee cadaadiska hooseeya (LPCVD), Kaydinta uumiga kiimikada ee la xoojiyay ee balaasmaha (PECVD) iyo Kaydinta uumiga kiimikada ee balaasmaha ee cufnaanta sare leh (HDP-CVD) waa saddex tiknoolajiyadood oo caadi ah oo CVD ah, kuwaas oo leh farqi weyn oo ku saabsan dhigista agabka, shuruudaha qalabka, xaaladaha habka, iwm. Kuwa soo socda waa sharraxaad fudud iyo isbarbardhigga saddexdan tiknoolajiyadood.
1. LPCVD (CVD Cadaadis Hoose)
Mabda': Habka CVD ee xaaladaha cadaadiska hooseeya. Mabda'iisu waa in gaaska falcelinta lagu shubo qolka falcelinta iyadoo la adeegsanayo jawi faakiyuum ama cadaadis hooseeya, la burburiyo ama la falgalo gaaska heerkul sare, lana sameeyo filim adag oo lagu shubo dusha sare ee substrate-ka. Maadaama cadaadiska hooseeya uu yareeyo isku dhaca gaaska iyo jahwareerka, isku-dhafka iyo tayada filimka ayaa la hagaajiyaa. LPCVD waxaa si weyn loogu isticmaalaa silicon dioxide (LTO TEOS), silicon nitride (Si3N4), polysilicon (POLY), phosphosilicate galaaska (BSG), borophosphosilicate galaaska (BPSG), polysilicon la duray, graphene, nanotubes kaarboon iyo filimaan kale.
Astaamaha:
▪ Heerkulka habka: badanaa inta u dhaxaysa 500 ~ 900°C, heerkulka habka waa mid aad u sarreeya;
▪ Kala duwanaanshaha cadaadiska gaaska: jawi cadaadis hooseeya oo ah 0.1~10 Torr;
▪ Tayada filimka: tayo sare leh, isku mid ahaanshaha wanaagsan, cufnaanta wanaagsan, iyo cillado yar;
▪ Heerka dhigista: heerka dhigista oo gaabis ah;
▪ Midnimo: ku habboon substrate-ka cabbirka weyn, dhigaalka isku midka ah;
Faa'iidooyinka iyo khasaarooyinka:
▪ Waxay dhigi kartaa filimaan aad u siman oo cufan;
▪ Si fiican ayuu ugu shaqeeyaa substrate-yada waaweyn, oo ku habboon wax soo saarka ballaaran;
▪ Kharash yar;
▪ Heerkul sare, oo aan ku habboonayn walxaha xasaasiga u ah kulaylka;
▪ Heerka dhigista ayaa gaabis ah, wax soo saarkuna waa hooseeyaa.
2. PECVD (CVD-ga Balaasmaha oo la xoojiyay)
Mabda': Isticmaal balaasmaha si aad u dhaqaajiso falgallada marxaladda gaaska heerkulka hooseeya, u kala firdhi ion oo u burburi molecules-ka gaaska falgalka, ka dibna ku shub filimaan khafiif ah dusha sare ee substrate-ka. Tamarta balaasmaha waxay si weyn u yareyn kartaa heerkulka looga baahan yahay falgalka, waxayna leedahay codsiyo badan. Filimada birta ah ee kala duwan, filimada aan dabiiciga ahayn iyo filimada dabiiciga ah ayaa la diyaarin karaa.
Astaamaha:
▪ Heerkulka habka: badanaa inta u dhaxaysa 200 ~ 400°C, heerkulku waa hooseeyaa;
▪ Kala duwanaanshaha cadaadiska gaaska: badanaa boqolaal mTorr ilaa dhowr Torr;
▪ Tayada filimka: inkastoo isku mid ahaanshaha filimku uu wanaagsan yahay, cufnaanta iyo tayada filimku ma ahan kuwo wanaagsan sida LPCVD sababtoo ah cillado laga yaabo inay soo bandhigaan balaasmaha;
▪ Heerka dhigista: heer sare, hufnaan wax soo saar oo sare;
▪ Midnimo: wax yar ka hooseeya LPCVD oo ku yaal substrate-yada cabbirka weyn;
Faa'iidooyinka iyo khasaarooyinka:
▪ Filimada khafiifka ah waxaa lagu kaydin karaa heerkul hoose, oo ku habboon walxaha xasaasiga u ah kulaylka;
▪ Xawaaraha kaydinta degdega ah, oo ku habboon wax soo saar hufan;
▪ Hab-socod dabacsan, sifooyinka filimka waxaa lagu xakameyn karaa iyadoo la hagaajinayo xuduudaha balaasmaha;
▪ Balaasmadu waxay keeni kartaa cillado filim sida godad biin ah ama aan isku mid ahayn;
▪ Marka la barbardhigo LPCVD, cufnaanta filimka iyo tayada ayaa waxoogaa ka sii daran.
3. HDP-CVD (CVD-ga Balaasmaha Cufnaanta Sare)
Mabda': Tiknoolajiyadda PECVD gaar ah. HDP-CVD (oo sidoo kale loo yaqaan ICP-CVD) waxay soo saari kartaa cufnaanta balaasmaha iyo tayada oo ka sarreysa qalabka PECVD dhaqameed heerkul hoose oo dhigista ah. Intaa waxaa dheer, HDP-CVD waxay bixisaa ku dhawaad madax-bannaan qulqulka ion iyo xakamaynta tamarta, iyadoo hagaajinaysa awoodaha buuxinta godka ama daloolka si loogu baahdo dhigista filimka, sida dahaarka ka hortagga milicsiga, dhigista walxaha dielectric-ka ee hooseeya, iwm.
Astaamaha:
▪ Heerkulka habka: heerkulka qolka ilaa 300℃, heerkulka habka aad ayuu u hooseeyaa;
▪ Kala duwanaanshaha cadaadiska gaaska: inta u dhaxaysa 1 iyo 100 mTorr, ka hooseeya PECVD;
▪ Tayada filimka: cufnaanta sare ee balaasmaha, tayada filimka oo sareysa, isku midnimo wanaagsan;
▪ Heerka dhigista: heerka dhigista wuxuu u dhexeeyaa LPCVD iyo PECVD, wax yar ayuu ka sarreeyaa LPCVD;
▪ Midnimo: sababtoo ah balaasmaha cufnaanta sare leh, isku-dhafka filimku waa mid aad u fiican, oo ku habboon dusha sare ee qaabaysan ee isku dhafan;
Faa'iidooyinka iyo khasaarooyinka:
▪ Awood u leh inuu filimada tayada sare leh ku shubo heerkul hoose, aad ugu habboon agabka xasaasiga u ah kulaylka;
▪ Midnimo filim oo aad u fiican, cufnaan iyo siman dusha sare;
▪ Cufnaanta sare ee balaasmaha waxay hagaajinaysaa isku-dhafka dhigista iyo sifooyinka filimka;
▪ Qalab adag iyo kharash sare;
▪ Xawaaraha kala-soocidda waa gaabis, tamar badan oo balaasmaha ahna waxay keeni kartaa waxyeello yar.
Ku soo dhawoow macaamiil kasta oo ka kala yimid daafaha dunida si ay noo soo booqdaan si aan u yeelano dood dheeraad ah!
https://www.vet-china.com/
https://www.facebook.com/people/Ningbo-Miami-Advanced-Material-Technology-Co-Ltd/100085673110923/
https://www.linkedin.com/company/100890232/admin/page-posts/published/
https://www.youtube.com/@user-oo9nl2qp6j
Waqtiga boostada: Diseembar-03-2024