Графітове покриття SiC, носії пластин MOCVD, сусцептори

Покриття SiC Графіт MOCVD Носії пластин Сусцептори Зображення

Короткий опис:

Сусцептор VET Energy MOCVD з покриттям SiC для епітаксіального росту – це високопродуктивний продукт, розроблений для забезпечення стабільної та надійної роботи протягом тривалого періоду. Він має надзвичайно добру термостійкість та термічну однорідність, високу чистоту та стійкість до ерозії, що робить його ідеальним рішенням для обробки пластин.

Надіслати нам електронного листа Завантажити як PDF

Деталі продукту

Теги продукту

Графітове покриття SiC MOCVD Носії пластин/сусцептор

Усі наші токоприймачі виготовлені з високоміцного ізостатичного графіту. Скористайтеся перевагами високої чистоти наших графітів, розроблених спеціально для складних процесів, таких як епітаксія, вирощування кристалів, іонна імплантація та плазмове травлення, а також для виробництва світлодіодних чіпів.

Особливості нашої продукції:

1. Стійкість до окислення за високих температур до 1700℃.
2. Висока чистота та термічна однорідність
3. Відмінна корозійна стійкість: кислоти, луги, солі та органічні реагенти.
4. Висока твердість, щільна поверхня, дрібні частинки.
5. Довший термін служби та більша довговічність

серцево-судинних захворювань SiC薄膜基本物理性能 Основні фізичні властивості CVD SiCпокриття
性质 / Нерухомість	典型数值 / Типове значення
晶体结构 / Кристалічна структура	β-фаза ГЦК多晶，主要为（111）取向
密度 / Щільність	3,21 г/см³
硬度 / Твердість	2500 维氏硬度 (завантаження 500 г)
晶粒大小 / Розмір зерна	2~10 мкм
纯度 / Хімічна чистота	99,99995%
热容 / Теплоємність	640 Дж·кг^-1·К^-1
升华温度 / Температура сублімації	2700℃
抗弯强度 / Міцність на згин	415 МПа RT 4-точковий
杨氏模量 / Модуль Юнга	430 ГПа, вигин 4 пт, 1300℃
导热系数 / ТермалПровідність	300 Вт·м^-1·К^-1
热膨胀系数 / Теплове розширення (КТР)	4,5×10^-6K^-1

VET Energy є справжнім виробником виробів з графіту та карбіду кремнію на замовлення з різними покриттями, такими як покриття SiC, покриття TaC, скловуглецеве покриття, піролітичне вуглецеве покриття тощо, і може постачати різноманітні деталі на замовлення для напівпровідникової та фотоелектричної промисловості.

Наша технічна команда складається з провідних вітчизняних дослідницьких установ і може запропонувати вам більш професійні матеріальні рішення.

Ми постійно розробляємо передові процеси для створення ще досконаліших матеріалів і розробили ексклюзивну запатентовану технологію, яка може зробити зчеплення між покриттям і основою міцнішим і менш схильним до відшаровування.

Щиро вітаємо вас відвідати наш завод, давайте обговоримо це далі!