Пакрыццё SiC Графіт MOCVD Носьбіты пласцін Сусцэптары

Пакрыццё SiC Графіт MOCVD Носьбіты пласцін Сусцэтары Выява

Кароткае апісанне:

Сусцэтар VET Energy MOCVD з пакрыццём SiC для эпітаксіяльнага росту - гэта высокапрадукцыйны прадукт, прызначаны для забеспячэння стабільнай і надзейнай працы на працягу доўгага перыяду. Ён мае выдатную цеплаўстойлівасць і аднастайнасць тэмпературы, высокую чысціню і ўстойлівасць да эрозіі, што робіць яго ідэальным рашэннем для апрацоўкі пласцін.

Дашліце нам ліст Спампаваць у фармаце PDF

Падрабязнасці прадукту

Тэгі прадукту

Графіт з пакрыццём SiC, MOCVD, носьбіты/сусцэптар пласцін

Усе нашы сусцэптары выраблены з высокатрывалага ізастатычнага графіту. Скарыстайцеся перавагамі высокай чысціні нашых графітаў, распрацаваных спецыяльна для складаных працэсаў, такіх як эпітаксія, вырошчванне крышталяў, іённая імплантацыя і плазменнае травленне, а таксама для вытворчасці святлодыёдных чыпаў.

Асаблівасці нашай прадукцыі:

1. Высокатэмпературная ўстойлівасць да акіслення да 1700℃.
2. Высокая чысціня і цеплавая аднастайнасць
3. Выдатная каразійная ўстойлівасць: кіслоты, шчолачы, солі і арганічныя рэагенты.
4. Высокая цвёрдасць, кампактная паверхня, дробныя часціцы.
5. Больш працяглы тэрмін службы і больш трывалы

ССЗ SiC薄膜基本物理性能 Асноўныя фізічныя ўласцівасці CVD SiCпакрыццё
性质 / Нерухомасць	典型数值 / Тыповае значэнне
晶体结构 / Крышталічная структура	β-фаза FCC多晶，主要为（111) 取向
密度 / Шчыльнасць	3,21 г/см³
硬度 / Цвёрдасць	2500 维氏硬度（загрузка 500 г）
晶粒大小 / Памер зерня	2~10 мкм
纯度 / Хімічная чысціня	99,99995%
热容 / Цеплаёмістасць	640 Дж·кг^-1·К^-1
升华温度 / Тэмпература сублімацыі	2700℃
抗弯强度 / Трываласць на выгіб	415 МПа RT 4-кропкавы
杨氏模量 / Модуль Юнга	430 Gpa, выгіб 4pt, 1300℃
导热系数 / ТэрмалПраводнасць	300 Вт·м^-1·К^-1
热膨胀系数 / Цеплавое пашырэнне (КТР)	4,5×10^-6K^-1

VET Energy з'яўляецца сапраўдным вытворцам вырабаў з графіту і карбіду крэмнію на заказ з рознымі пакрыццямі, такімі як пакрыццё SiC, пакрыццё TaC, пакрыццё са шкловугляроду, пакрыццё з піролітычнага вугляроду і г.д., і можа пастаўляць розныя дэталі на заказ для паўправадніковай і фотаэлектрычнай прамысловасці.

Наша тэхнічная каманда складаецца з вядучых айчынных навукова-даследчых устаноў і можа прапанаваць вам больш прафесійныя матэрыяльныя рашэнні.

Мы пастаянна распрацоўваем перадавыя працэсы для стварэння больш дасканалых матэрыялаў і распрацавалі эксклюзіўную запатэнтаваную тэхналогію, якая дазваляе зрабіць сувязь паміж пакрыццём і падкладкай больш трывалай і менш схільнай да адслойвання.

Шчыра запрашаем вас наведаць наш завод, давайце абмяркуем гэта далей!