SiC ծածկույթ, գրաֆիտ, MOCVD վաֆլի կրիչներ, ընկալիչներ

SiC ծածկույթ Գրաֆիտ MOCVD Վաֆլի կրիչներ Սուսեպտորներ Ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն՝

VET Energy SiC ծածկույթով MOCVD ընկալիչը էպիտաքսիալ աճի համար բարձր արդյունավետությամբ արտադրանք է, որը նախագծված է երկար ժամանակահատվածում կայուն և հուսալի աշխատանք ապահովելու համար: Այն ունի գերլավ ջերմակայունություն և ջերմային միատարրություն, բարձր մաքրություն, էրոզիայի դիմադրություն, ինչը այն դարձնում է վաֆլիների մշակման կիրառությունների համար կատարյալ լուծում:

Ուղարկեք մեզ էլ. նամակ Ներբեռնել որպես PDF

Ապրանքի մանրամասներ

Ապրանքի պիտակներ

SiC ծածկույթով գրաֆիտ MOCVD Վաֆլի կրիչներ/ընկալիչներ

Մեր բոլոր սուսեպտորները պատրաստված են բարձր ամրության իզոստատիկ գրաֆիտից: Օգտվեք մեր գրաֆիտների բարձր մաքրությունից, որոնք մշակվել են հատկապես բարդ գործընթացների համար, ինչպիսիք են էպիտաքսիան, բյուրեղների աճեցումը, իոնային իմպլանտացիան և պլազմային փորագրությունը, ինչպես նաև LED չիպերի արտադրության համար:

Մեր արտադրանքի առանձնահատկությունները՝

1. Բարձր ջերմաստիճանի օքսիդացման դիմադրություն մինչև 1700℃:
2. Բարձր մաքրություն և ջերմային միատարրություն
3. Գերազանց կոռոզիոն դիմադրություն. թթու, ալկալի, աղ և օրգանական ռեակտիվներ:
4. Բարձր կարծրություն, կոմպակտ մակերես, նուրբ մասնիկներ։
5. Ավելի երկար ծառայության ժամկետ և ավելի դիմացկուն

Սրտանոթային հիվանդություն SiC薄膜基本物理性能 CVD SiC-ի հիմնական ֆիզիկական հատկություններըծածկույթ
性质 / Գույք	典型数值 / Տիպիկ արժեք
晶体结构 / Բյուրեղային կառուցվածք	FCC β փուլ多晶，主要为（111):
密度 / Խտություն	3.21 գ/սմ³
硬度 / Կարծրություն	2500 գրամ (500 գ բեռ)
晶粒大小 / Հացահատիկի չափս	2~10 մկմ
纯度 / Քիմիական մաքրություն	99.99995%
热容 / Ջերմային հզորություն	640 Ջ·կգ^-1·Կ^-1
升华温度 / Սուբլիմացիայի ջերմաստիճան	2700℃
抗弯强度 / Ճկման ամրություն	415 ՄՊա RT 4-կետանոց
杨氏模量 / Յանգի մոդուլը	430 Gpa 4pt ծռում, 1300℃
导热系数 / ԹերմալՀաղորդականություն	300 Վտ·մ^-1·Կ^-1
热膨胀系数 / Ջերմային ընդարձակում (CTE)	4.5×10^-6K^-1

VET Energy-ն գրաֆիտի և սիլիցիումի կարբիդային արտադրանքի իրական արտադրող է, որն ունի տարբեր ծածկույթներ, ինչպիսիք են SiC ծածկույթը, TaC ծածկույթը, ապակեածխածնային ծածկույթը, պիրոլիտիկ ածխածնային ծածկույթը և այլն, և կարող է մատակարարել տարբեր պատվերով պատրաստված մասեր կիսահաղորդչային և ֆոտովոլտային արդյունաբերության համար։

Մեր տեխնիկական թիմը գալիս է առաջատար տեղական հետազոտական հաստատություններից, կարող է ձեզ համար ապահովել ավելի պրոֆեսիոնալ նյութական լուծումներ:

Մենք անընդհատ մշակում ենք առաջադեմ գործընթացներ՝ ավելի առաջադեմ նյութեր ապահովելու համար, և մշակել ենք բացառիկ արտոնագրված տեխնոլոգիա, որը կարող է ծածկույթի և հիմքի միջև կապը դարձնել ավելի ամուր և պակաս հակված լինել անջատմանը։

Ջերմորեն ողջունում ենք ձեզ այցելել մեր գործարան, եկեք հետագա քննարկում ունենանք։