লেজার প্রযুক্তি সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেট প্রক্রিয়াকরণ প্রযুক্তির রূপান্তরে নেতৃত্ব দিচ্ছে।

 

১. সংক্ষিপ্ত বিবরণসিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটপ্রক্রিয়াকরণ প্রযুক্তি

বর্তমানসিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেট প্রক্রিয়াকরণের ধাপগুলোর মধ্যে রয়েছে: বাইরের বৃত্ত গ্রাইন্ডিং, স্লাইসিং, শ্যাফারিং, গ্রাইন্ডিং, পলিশিং, ক্লিনিং ইত্যাদি। সেমিকন্ডাক্টর সাবস্ট্রেট প্রক্রিয়াকরণে স্লাইসিং একটি গুরুত্বপূর্ণ ধাপ এবং ইনগটকে সাবস্ট্রেটে রূপান্তর করার একটি মূল ধাপ। বর্তমানে, কাটিংসিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটএর প্রধান কাজ হলো তার কাটা। বর্তমানে মাল্টি-ওয়্যার স্লারি কাটিং হলো তার কাটার সর্বোত্তম পদ্ধতি, কিন্তু এতেও কাটার নিম্নমান এবং ব্যাপক অপচয়ের মতো সমস্যা রয়েছে। সাবস্ট্রেটের আকার বাড়ার সাথে সাথে তার কাটার অপচয়ও বৃদ্ধি পায়, যা সহায়ক নয়।সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটউৎপাদনকারীদের ব্যয় হ্রাস এবং দক্ষতা বৃদ্ধি অর্জনের জন্য। কাটার প্রক্রিয়ায়৮-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটওয়্যার কাটিংয়ের মাধ্যমে প্রাপ্ত সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠের আকৃতি দুর্বল হয় এবং WARP ও BOW-এর মতো সাংখ্যিক বৈশিষ্ট্যগুলো ভালো থাকে না।

0

সেমিকন্ডাক্টর সাবস্ট্রেট উৎপাদনে স্লাইসিং একটি গুরুত্বপূর্ণ ধাপ। এই শিল্পে ক্রমাগত নতুন নতুন কাটিং পদ্ধতি, যেমন ডায়মন্ড ওয়্যার কাটিং এবং লেজার স্ট্রিপিং, চেষ্টা করা হচ্ছে। সম্প্রতি লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তির ব্যাপক চাহিদা দেখা যাচ্ছে। এর প্রযুক্তিগত নীতি অনুসারে, এই প্রযুক্তির প্রবর্তন কাটিং লস কমায় এবং কাটিং দক্ষতা বাড়ায়। লেজার স্ট্রিপিং সলিউশনের জন্য অটোমেশনের উচ্চ স্তরের প্রয়োজন হয় এবং এর সাথে থিনিং প্রযুক্তির সমন্বয় প্রয়োজন, যা সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেট প্রক্রিয়াকরণের ভবিষ্যৎ উন্নয়নের দিকের সাথে সঙ্গতিপূর্ণ। প্রচলিত মর্টার ওয়্যার কাটিংয়ের স্লাইস ইল্ড সাধারণত ১.৫-১.৬। লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তির প্রবর্তনের মাধ্যমে স্লাইস ইল্ড প্রায় ২.০ পর্যন্ত বাড়ানো সম্ভব (DISCO ইকুইপমেন্ট দেখুন)। ভবিষ্যতে, লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তির পরিপক্কতা বাড়ার সাথে সাথে স্লাইস ইল্ড আরও উন্নত হতে পারে; একই সাথে, লেজার স্ট্রিপিং স্লাইসিংয়ের দক্ষতাও ব্যাপকভাবে বাড়াতে পারে। বাজার গবেষণা অনুসারে, এই শিল্পের শীর্ষস্থানীয় প্রতিষ্ঠান DISCO প্রায় ১০-১৫ মিনিটে একটি স্লাইস কাটে, যা বর্তমান মর্টার ওয়্যার কাটিংয়ের প্রতি স্লাইসে ৬০ মিনিটের তুলনায় অনেক বেশি কার্যকর।

০-১
সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটের প্রচলিত ওয়্যার কাটিং প্রক্রিয়ার ধাপগুলো হলো: ওয়্যার কাটিং-রুক্ষ গ্রাইন্ডিং-সূক্ষ্ম গ্রাইন্ডিং-রুক্ষ পলিশিং এবং সূক্ষ্ম পলিশিং। লেজার স্ট্রিপিং প্রক্রিয়া ওয়্যার কাটিং-এর স্থান নেওয়ার পর, গ্রাইন্ডিং প্রক্রিয়ার পরিবর্তে থিনিং প্রক্রিয়া ব্যবহার করা হয়, যা স্লাইসের ক্ষতি কমায় এবং প্রক্রিয়াকরণের দক্ষতা বাড়ায়। সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটের কাটিং, গ্রাইন্ডিং এবং পলিশিং-এর লেজার স্ট্রিপিং প্রক্রিয়াটি তিনটি ধাপে বিভক্ত: লেজার সারফেস স্ক্যানিং-সাবস্ট্রেট স্ট্রিপিং-ইনগট ফ্ল্যাটেনিং: লেজার সারফেস স্ক্যানিং হলো অতি দ্রুতগতির লেজার পালস ব্যবহার করে ইনগটের পৃষ্ঠকে প্রক্রিয়াজাত করে এর ভিতরে একটি পরিবর্তিত স্তর তৈরি করা; সাবস্ট্রেট স্ট্রিপিং হলো ভৌত পদ্ধতির মাধ্যমে পরিবর্তিত স্তরের উপরের সাবস্ট্রেটকে ইনগট থেকে আলাদা করা; ইনগট ফ্ল্যাটেনিং হলো ইনগটের পৃষ্ঠের সমতলতা নিশ্চিত করার জন্য এর উপর থেকে পরিবর্তিত স্তরটি অপসারণ করা।
সিলিকন কার্বাইড লেজার স্ট্রিপিং প্রক্রিয়া

০ (১)

 

২. লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তিতে আন্তর্জাতিক অগ্রগতি এবং শিল্পে অংশগ্রহণকারী সংস্থাসমূহ

লেজার স্ট্রিপিং প্রক্রিয়াটি সর্বপ্রথম বিদেশী কোম্পানিগুলো গ্রহণ করে: ২০১৬ সালে, জাপানের ডিস্কো (DISCO) কাবরা (KABRA) নামে একটি নতুন লেজার স্লাইসিং প্রযুক্তি উদ্ভাবন করে, যা ইনগটকে ক্রমাগত লেজার রশ্মি দিয়ে বিকিরিত করে একটি বিভাজন স্তর তৈরি করে এবং একটি নির্দিষ্ট গভীরতায় ওয়েফারগুলোকে পৃথক করে, যা বিভিন্ন ধরণের SiC ইনগটের জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে। ২০১৮ সালের নভেম্বরে, ইনফিনিওন টেকনোলজিস (Infineon Technologies) ১২৪ মিলিয়ন ইউরোর বিনিময়ে ওয়েফার কাটিং স্টার্টআপ সিলটেক্ট্রা জিএমবিএইচ (Siltectra GmbH)-কে অধিগ্রহণ করে। সিলটেক্ট্রা জিএমবিএইচ কোল্ড স্প্লিট (Cold Split) প্রক্রিয়াটি উদ্ভাবন করেছিল, যা পেটেন্টকৃত লেজার প্রযুক্তি ব্যবহার করে বিভাজন পরিসীমা নির্ধারণ করে, বিশেষ পলিমার উপাদানের প্রলেপ দেয়, সিস্টেম কুলিং দ্বারা সৃষ্ট চাপ নিয়ন্ত্রণ করে, নির্ভুলভাবে উপাদান বিভক্ত করে এবং ওয়েফার কাটিং সম্পন্ন করার জন্য গ্রাইন্ড ও পরিষ্কার করে।

সাম্প্রতিক বছরগুলোতে কিছু দেশীয় কোম্পানিও লেজার স্ট্রিপিং সরঞ্জাম শিল্পে প্রবেশ করেছে: প্রধান কোম্পানিগুলো হলো হান'স লেজার, ডেলং লেজার, ওয়েস্ট লেক ইন্সট্রুমেন্ট, ইউনিভার্সাল ইন্টেলিজেন্স, চায়না ইলেকট্রনিক্স টেকনোলজি গ্রুপ কর্পোরেশন এবং চাইনিজ একাডেমি অফ সায়েন্সেসের ইনস্টিটিউট অফ সেমিকন্ডাক্টরস। এদের মধ্যে, তালিকাভুক্ত কোম্পানি হান'স লেজার এবং ডেলং লেজার দীর্ঘদিন ধরে পরিকল্পনাধীন রয়েছে এবং তাদের পণ্য গ্রাহকদের দ্বারা যাচাইকৃত, কিন্তু কোম্পানিটির অনেকগুলো পণ্য বিভাগ রয়েছে এবং লেজার স্ট্রিপিং সরঞ্জাম তাদের ব্যবসার মধ্যে মাত্র একটি। ওয়েস্ট লেক ইন্সট্রুমেন্টের মতো উদীয়মান তারকাদের পণ্য আনুষ্ঠানিক অর্ডার শিপমেন্ট অর্জন করেছে; ইউনিভার্সাল ইন্টেলিজেন্স, চায়না ইলেকট্রনিক্স টেকনোলজি গ্রুপ কর্পোরেশন, চাইনিজ একাডেমি অফ সায়েন্সেসের ইনস্টিটিউট অফ সেমিকন্ডাক্টরস এবং অন্যান্য কোম্পানিগুলোও তাদের সরঞ্জামের অগ্রগতির কথা প্রকাশ করেছে।

 

৩. লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তির বিকাশের চালিকাশক্তি এবং বাজারে প্রবেশের গতিপ্রকৃতি

৬-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটের মূল্য হ্রাস লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তির উন্নয়নে চালিকাশক্তি হিসেবে কাজ করছে: বর্তমানে, ৬-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটের দাম প্রতি পিস ৪,০০০ ইউয়ানের নিচে নেমে এসেছে, যা কিছু উৎপাদকের ক্রয়মূল্যের কাছাকাছি। লেজার স্ট্রিপিং প্রক্রিয়ার উৎপাদন হার বেশি এবং লাভজনকতাও শক্তিশালী, যা এই প্রযুক্তির প্রসারের হার বাড়াতে সাহায্য করছে।

৮-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটের পুরুত্ব হ্রাস লেজার স্ট্রিপিং প্রযুক্তির বিকাশে চালিকাশক্তি হিসেবে কাজ করছে: বর্তমানে ৮-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেটের পুরুত্ব ৫০০ মাইক্রোমিটার, এবং এটি ৩৫০ মাইক্রোমিটার পুরুত্বের দিকে অগ্রসর হচ্ছে। ৮-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড প্রক্রিয়াকরণে ওয়্যার কাটিং প্রক্রিয়া কার্যকর নয় (সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠতল ভালো না হওয়ায়), এবং এর BOW ও WARP মান উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস পেয়েছে। ৩৫০ মাইক্রোমিটার সিলিকন কার্বাইড সাবস্ট্রেট প্রক্রিয়াকরণের জন্য লেজার স্ট্রিপিংকে একটি অপরিহার্য প্রযুক্তি হিসেবে বিবেচনা করা হয়, যা এই প্রযুক্তির পেনিট্রেশন রেট বৃদ্ধিতে চালিকাশক্তি হিসেবে কাজ করছে।

বাজারের প্রত্যাশা: ৮-ইঞ্চি SiC-এর সম্প্রসারণ এবং ৬-ইঞ্চি SiC-এর মূল্য হ্রাসের ফলে SiC সাবস্ট্রেট লেজার স্ট্রিপিং সরঞ্জাম লাভবান হচ্ছে। বর্তমান শিল্পের সংকটময় মুহূর্তটি এগিয়ে আসছে এবং এই শিল্পের উন্নয়ন ব্যাপকভাবে ত্বরান্বিত হবে।


পোস্ট করার সময়: ০৮-০৭-২০২৪
হোয়াটসঅ্যাপ অনলাইন চ্যাট!