O le gaosiga o masini semiconductor e aofia ai masini tuʻueseese, matagaluega tuʻufaʻatasi ma a latou faiga e afifiina ai.
E mafai ona vaevaeina le gaosiga o le semiconductor i ni vaega se tolu: gaosiga o meafaitino o le tino oloa, gaosiga o oloafalaoa manifinifigaosiga ma le fa'apipi'iina o masini. O se tasi o ia mea, o le fa'aleagaina sili ona ogaoga o le la'asaga lea o le gaosiga o le wafer oloa.
E tele lava ina vaevaeina mea fa'aleagaina i otaota vai, kasa otaota ma otaota malo.
Faiga o le gaosiga o chip:
Pa'u silicona maeʻa ona oloina i fafo - faʻamamāina - faʻaʻokeseneina - teteʻe tutusa - ata vali - atinaʻeina - etching - faʻasalalauina, faʻapipiʻiina o le ion - faʻaputuina o le ausa faʻakemikolo - faʻapulusaina faʻakemikolo - faʻametalaina, ma isi mea faapena.
Vai otaota
E tele le vai otaota e gaosia i la'asaga ta'itasi o le gaosiga o semiconductor ma le su'ega o afifiina, tele lava vai otaota e iai le acid-base, vai otaota e iai le ammonia ma vai otaota e fa'aola.
1. Vai otaota o loʻo i ai le fluorine:
O le hydrofluoric acid e avea ma vailaʻau autū e faʻaaogaina i faiga o le oxidation ma le etching ona o ona uiga e oxidative ma elle. O le vai otaota o loʻo i ai le fluorine i le faiga e mafua mai i le faiga o le diffusion ma le faiga o le polishing kemikale i le faiga o le chip. I le faiga o le faamamaina o silicon wafers ma isi mea faigaluega e fesoʻotaʻi i ai, e tele taimi e faʻaaogaina ai le hydrochloric acid. O nei faiga uma e faʻamaeʻaina i totonu o tane etching poʻo masini faʻamama, o lea e mafai ai ona faʻasaʻolotoina tutoʻatasi vai otaota o loʻo i ai le fluorine. E tusa ai ma le malosi, e mafai ona vaevaeina i vai otaota o loʻo i ai le fluorine e maualuga le malosi ma vai otaota o loʻo i ai le ammonia e maualalo le malosi. I se tulaga lautele, o le malosi o vai otaota o loʻo i ai le ammonia e maualuga le malosi e mafai ona oʻo atu i le 100-1200 mg/L. O le tele o kamupani e toe faʻaaogaina lenei vaega o vai otaota mo faiga e le manaʻomia ai le maualuga o le lelei o le vai.
2. Vai otaota e fa'avae i le 'āsi:
Toetoe lava o faiga uma i le gaosiga o le integrated circuit e manaʻomia ai le faʻamamaina o le chip. I le taimi nei, o le sulfuric acid ma le hydrogen peroxide o vai faʻamama e masani ona faʻaaogaina i le gaosiga o le integrated circuit. I le taimi lava e tasi, o loʻo faʻaaogaina foʻi vailaʻau faʻavae-acid e pei o le nitric acid, hydrochloric acid ma le vai ammonia.
O le vai otaota o le acid-base o le faagasologa o le gaosiga e mafua mai i le faagasologa o le faamamaina i le faagasologa o le gaosiga o le chip. I le faagasologa o le afifiina, e togafitia le chip i le vailaau acid-base i le taimi o le electroplating ma le auiliiliga o vailaau. A maeʻa le togafitiga, e manaʻomia ona fufuluina i le vai mama e maua ai le vai otaota o le acid-base. E le gata i lea, o mea faʻapitoa o le acid-base e pei o le sodium hydroxide ma le hydrochloric acid e faʻaaogaina foi i le nofoaga o le vai mama e toe faʻafouina ai le anion ma le cation resins e maua ai le vai otaota o le acid-base. O le vai fufulu e gaosia foi i le taimi o le faagasologa o le fufuluina o le kesi otaota o le acid-base. I kamupani gaosi eletise tuufaatasi, e matua tele lava le aofaʻi o le vai otaota o le acid-base.
3. Vai otaota fa'alenatura:
Ona o le eseese o faiga o gaosiga, e matuā eseese lava le aofaʻi o vailaʻau faʻaola e faʻaaogaina i le alamanuia semiconductor. Peitaʻi, i le avea ai ma mea faʻamamā, o loʻo faʻaaogaina pea vailaʻau faʻaola i le tele o vaega o afifiina o gaosiga. O nisi vailaʻau e avea ma otaota faʻaola.
4. Isi vai otaota:
O le faagasologa o le etching o le faagasologa o le gaosiga o semiconductor o le a faʻaaogaina ai le tele o le ammonia, fluorine ma le vai mama mo le faʻamamāina, ma faʻapea ona faʻatupuina ai le tele o otaota o loʻo i ai le ammonia.
E manaʻomia le faiga o le electroplating i le faiga o le afifiina o semiconductor. E manaʻomia ona faʻamamāina le chip pe a uma ona electroplating, ma o le a faʻatupuina ai le vai otaota mai le electroplating i lenei faiga. Talu ai o nisi uʻamea e faʻaaogaina i le electroplating, o le a iai ni faʻasaʻolotoga uʻamea i totonu o le vai otaota mai le electroplating, e pei o le apamemea, apamemea, tisiketi, zinc, alumini, ma isi mea faapena.
Kesi otaota
Talu ai ona e matuā manaʻomia lava e le faiga o le semiconductor le mamā o le potu taotoga, e masani ona faʻaaogaina ili e aveese ai ituaiga eseese o kasa otaota e faʻapuna i le taimi o le faiga. O le mea lea, o kasa otaota e faʻasalalauina i le pisinisi semiconductor e iloga i le tele o le asu ma le maualalo o le faʻasalalauina. O kasa otaota e faʻasalalauina foʻi e tele lava ina faʻapuna.
O nei kasa otaota e mafai ona vaevaeina i ni vaega e fa: kasa 'āsi, kasa alkaline, kasa otaota fa'anatura ma kasa oona.
1. Kasa otaota fa'avae-'aisa:
O le kesi otaota fa'avae-acid e mafua mai i le sosolo o le vai,CVD, CMP ma faiga o le etching, lea e faʻaaogaina ai le vailaʻau faʻamamā acid-base e faʻamamā ai le wafer.
I le taimi nei, o le vailaʻau faʻamamā e masani ona faʻaaogaina i le gaosiga o semiconductor o se faʻafefiloi o le hydrogen peroxide ma le sulfuric acid.
O kasa otaota e mafua mai i nei faiga e aofia ai kasa 'o'ona e pei o le sulfuric acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, nitric acid ma le phosphoric acid, ma o le kasa alkaline o le ammonia lava ia.
2. Kasa otaota fa'alenatura:
O le kesi otaota fa'aola e tele lava ina sau mai faiga e pei o le photolithography, development, etching ma le diffusion. I nei faiga, o le vaila'au fa'aola (e pei o le isopropyl alcohol) e fa'aaogaina e fa'amamā ai le fogā'ele'ele o le wafer, ma o le kesi otaota e mafua mai i le volatilization o se tasi lea o puna o le kesi otaota fa'aola;
I le taimi lava e tasi, o le photoresist (photoresist) e faʻaaogaina i le faagasologa o le photolithography ma le etching o loʻo i ai ni solvents organic volatile, e pei o le butyl acetate, lea e volatilizes i le ea i le taimi o le faagasologa o le wafer processing, o le isi lea punaoa o kesi otaota organic.
3. Kasa otaota oona:
O kasa otaota oona e tele lava ina sau mai faiga e pei o le crystal epitaxy, dry etching ma le CVD. I nei faiga, e fa'aaogaina ai le tele o kasa fa'apitoa e maualuga le mama e fa'agaoioia ai le wafer, e pei o le silicon (SiHj), phosphorus (PH3), carbon tetrachloride (CFJ), borane, boron trioxide, ma isi. O nisi kasa fa'apitoa e oona, fa'amomoi ma fa'aleagaina.
I le taimi lava e tasi, i le faiga o le eliina ma le faamamaina mago pe a uma ona fa'aputuina le ausa vaila'au i le gaosiga o semiconductor, e mana'omia ai le tele o le kesi oxide atoa (PFCS), e pei o le NFS, C2F&CR, C3FS, CHF3, SF6, ma isi. O nei vaila'au perfluorinated e malosi le mitiia i le vaega o le malamalama infrared ma tumau i le ea mo se taimi umi. E masani ona manatu i ai o le puna autu lea o le aafiaga o le greenhouse i le lalolagi atoa.
4. Fa'agasologa o le afifiina o le kesi otaota:
Pe a faʻatusatusa i le faiga o le gaosiga o semiconductor, o le kasa otaota e mafua mai i le faiga o afifiina o semiconductor e faigofie lava, e tele lava le kasa 'aisa, epoxy resin ma le efuefu.
O le kesi otaota 'o'ona e tele lava ina gaosia i faiga e pei o le electroplating;
E gaosia le kesi otaota o le tao i le faagasologa o le taoina pe a uma ona faapipii ma faamaufaailogaina le oloa;
E fa'atupuina e le masini taisi ni kasa otaota o lo'o i ai sina pefu silicon i le taimi o le tipiina o le wafer.
Fa'afitauli o le fa'aleagaina o le siosiomaga
Mo faʻafitauli o le faʻaleagaina o le siosiomaga i totonu o le alamanuia semiconductor, o faʻafitauli autu e manaʻomia ona foia o:
· Fa'asa'olotoina tele o mea leaga i le ea ma mea fa'aolaola feololo (VOCs) i le fa'agasologa o le photolithography;
· Fa'asa'olotoina o vaila'au fa'asusu (PFCS) i le fa'a'ofuina o le plasma ma le fa'agasologa o le fa'aputuina o le ausa vaila'au;
· Faʻaaogāina tele o le malosi ma le vai i le gaosiga ma le puipuiga o le saogalemu o tagata faigaluega;
· Toe fa'aaogāina ma le mata'ituina o le fa'aleagaina o oloa e maua mai ai;
· Faʻafitauli o le faʻaaogaina o vailaʻau matautia i faiga o afifiina.
Gaosiga mamā
E mafai ona faʻaleleia atili le tekinolosi gaosiga mama o masini semiconductor mai itu o mea mata, faʻagasologa ma le puleaina o faʻagasologa.
Fa'aleleia atili o mea mata ma le malosi
Muamua, e tatau ona matuā pulea lelei le mama o meafaitino ina ia faʻaitiitia ai le faʻaofiina o mea leaga ma fasi mea.
Lua, e tatau ona faia ni suʻega eseese e iloa ai le vevela, iloa o le tafe, tetete, teʻi eletise maualuga ma isi suʻega i vaega o loʻo oʻo mai poʻo oloa e leʻi maeʻa ona gaosia aʻo leʻi tuʻuina atu i le gaosiga.
E le gata i lea, e tatau ona matuā pulea lelei le mamā o mea fesoasoani. E tele naua tekinolosi e mafai ona faʻaaogaina mo le gaosiga mamā o le malosi.
Fa'aleleia atili le fa'agasologa o le gaosiga
O le pisinisi semiconductor lava ia e taumafai e faʻaitiitia lona aʻafiaga i le siʻosiʻomaga e ala i le faʻaleleia atili o tekinolosi o faʻagasologa.
Mo se faʻataʻitaʻiga, i le vaitau o le 1970, o vailaʻau faʻaola sa faʻaaogaina tele e faʻamamā ai wafers i le tekinolosi faʻamamāina o le matagaluega tuʻufaʻatasi. I le vaitau o le 1980, o vailaʻau ʻasi ma alkali e pei o le sulfuric acid sa faʻaaogaina e faʻamamā ai wafers. Seʻia oʻo i le vaitau o le 1990, sa atiaʻe ai le tekinolosi faʻamamāina o le plasma oxygen.
I tulaga o afifiina, o le tele o kamupani o loʻo faʻaaogaina le tekinolosi electroplating, lea e mafua ai le faʻaleagaina o le siosiomaga ona o uʻamea mamafa.
Peitaʻi, ua lē toe faʻaaogaina e fale gaosi afifi i Shanghai le tekinolosi o le electroplating, o lea e leai se aafiaga o uʻamea mamafa i le siosiomaga. E mafai ona iloa o loʻo faʻaitiitia malie e le pisinisi semiconductor lona aafiaga i le siosiomaga e ala i le faʻaleleia atili o faiga ma le suia o vailaʻau i lana lava faiga atinaʻe, lea e mulimulitaʻi foʻi i le aga masani o atinaʻe o le lalolagi o loʻo lagolagoina ai le mamanuina o faiga ma oloa e faʻavae i luga o le siosiomaga.
I le taimi nei, o loʻo faʻatinoina nisi faʻaleleiga i faiga faʻalotoifale, e aofia ai:
·Suia ma fa'aitiitia le kesi PFCS uma-ammonium, e pei o le fa'aaogaina o le kesi PFCs e maualalo le aafiaga o le greenhouse e sui ai le kesi e maualuga le aafiaga o le greenhouse, e pei o le fa'aleleia atili o le tafe o le fa'agasologa ma le fa'aitiitia o le aofa'i o le kesi PFCS e fa'aaogaina i le fa'agasologa;
·Fa'aleleia le fa'amamāina o le tele o apameme (multi-wafer) i le tasi le apameme (single-wafer) e fa'aitiitia ai le aofa'i o vaila'au fa'amamā e fa'aaoga i le fa'agasologa o le fa'amamāina.
·Pulea malosi o le faagasologa:
a. Fa'atinoina o le otometi o le faiga o gaosiga, lea e mafai ona fa'atinoina ai le fa'agasologa sa'o ma le gaosiga o le tele o vaega, ma fa'aitiitia ai le maualuga o le fua fa'atatau o mea sese o le fa'agaioiga lima;
e. O mea tau si'osi'omaga o le faiga e matua mama lava, e tusa ma le 5% pe itiiti ifo o le gau o le fua e mafua mai i tagata ma le si'osi'omaga. O mea tau si'osi'omaga o le faiga e matua mama lava e aofia ai le mama o le ea, vai mama maualuga, ea fa'apipi'i, CO2, N2, vevela, susū, ma isi mea. O le tulaga mama o se fale faigaluega mama e masani ona fuaina e le aofa'i maualuga o vaega e fa'atagaina i le iunite voluma o le ea, o lona uiga, o le aofa'i o vaega;
c. Fa'amalosia le iloa, ma filifili vaega autu talafeagai mo le iloa i nofoaga faigaluega e tele ai otaota i le taimi o le gaosiga.
Talia soʻo se tagata faʻatau mai le lalolagi atoa e asiasi mai ia i matou mo nisi talanoaga!
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Taimi na lafoina ai: Aokuso-13-2024