U materiale preferitu per e parti di precisione di e macchine di fotolitografia
In u campu di i semiconduttori,ceramica di carburu di siliciuI materiali sò principalmente aduprati in l'attrezzature chjave per a fabricazione di circuiti integrati, cum'è u tavulinu di travagliu in carburo di siliciu, e guide,riflettori, mandrinu di aspirazione in ceramica, bracci, dischi di smerigliatura, dispositivi di fissaggio, ecc. per macchine litografiche.
Parti ceramiche di carburo di siliciuper apparecchiature semiconduttori è ottiche
● Discu di smerigliatura ceramica in carburo di siliciu. Sè u discu di smerigliatura hè fattu di ghisa o d'acciaio à u carbone, a so durata di vita hè corta è u so coefficientu di dilatazione termica hè grande. Durante a trasfurmazione di e cialde di siliciu, in particulare durante a smerigliatura o a lucidatura à alta velocità, l'usura è a deformazione termica di u discu di smerigliatura rendenu difficiule d'assicurà a planarità è u parallelisimu di a cialde di siliciu. U discu di smerigliatura fattu di ceramica in carburo di siliciu hà una durezza elevata è una bassa usura, è u coefficientu di dilatazione termica hè basicamente u listessu chè quellu di e cialde di siliciu, dunque pò esse smerigliatu è lucidatu à alta velocità.
● Apparecchiu ceramicu in carburo di siliciu. Inoltre, quandu si producenu wafer di siliciu, devenu esse sottumessi à un trattamentu termicu à alta temperatura è sò spessu trasportati cù apparecchi di carburo di siliciu. Sò resistenti à u calore è micca distruttivi. U carbone simile à u diamante (DLC) è altri rivestimenti ponu esse applicati nantu à a superficia per migliurà e prestazioni, alleviare i danni à i wafer è impedisce a diffusione di a contaminazione.
● Tavola di travagliu in carburo di siliciu. Pigliendu cum'è esempiu a tavola di travagliu in a macchina litugrafica, a tavola di travagliu hè principalmente rispunsevule di cumpletà u muvimentu di esposizione, chì richiede un muvimentu di ultra precisione à alta velocità, à grande corsa, à sei gradi di libertà à nano livelli. Per esempiu, per una macchina litugrafica cù una risoluzione di 100 nm, una precisione di sovrapposizione di 33 nm è una larghezza di linea di 10 nm, a precisione di pusizionamentu di a tavola di travagliu hè necessaria per ghjunghje à 10 nm, e velocità di scansione è di passu simultanee maschera-wafer di siliciu sò rispettivamente di 150 nm/s è 120 nm/s, è a velocità di scansione di a maschera hè vicina à 500 nm/s, è a tavola di travagliu hè necessaria per avè una precisione è una stabilità di muvimentu assai elevate.
Schema di a tavula di travagliu è di a tavula di micromovimentu (sezione parziale)
● Specchiu quadratu ceramicu in carburo di siliciu. I cumpunenti chjave in l'equipaggiamenti di circuiti integrati chjave cum'è e macchine litugrafiche anu forme cumplesse, dimensioni cumplesse è strutture leggere cave, chì rendenu difficiule a preparazione di tali cumpunenti ceramici in carburo di siliciu. Attualmente, i principali pruduttori internaziunali di apparecchiature di circuiti integrati, cum'è ASML in i Paesi Bassi, NIKON è CANON in Giappone, utilizanu una grande quantità di materiali cum'è u vetru microcristallinu è a cordierite per preparà specchi quadrati, i cumpunenti principali di e macchine litugrafiche, è utilizanu ceramica in carburo di siliciu per preparà altri cumpunenti strutturali ad alte prestazioni cù forme simplici. Tuttavia, l'esperti di l'Istitutu di Ricerca di Materiali di Custruzzione Cinese anu utilizatu una tecnulugia di preparazione pruprietaria per ottene a preparazione di specchi quadrati ceramici in carburo di siliciu di grande dimensione, di forma cumplessa, assai leggeri, cumpletamente chjusi è altri cumpunenti ottici strutturali è funziunali per e macchine litugrafiche.
Data di publicazione: 10 ottobre 2024