Cassetta e supporto per wafer in SiC

Cassetta e supporto per wafer in SiC

cassetta di wafer in carburo di silicioServe principalmente per supportare e trasportare i wafer nei processi termici ad alta temperatura dei wafer semiconduttori, come la diffusione, l'ossidazione e la ricottura. Le sue prestazioni influiscono direttamente sulla qualità del prodotto finito e sull'efficienza produttiva.

Progettazione strutturale della barca per wafer di carburo di silicio:
In genere presenta una struttura scanalata o a pettine;
Molteplici fessure per posizionare e separare i wafer;
Progettato tenendo conto della distribuzione del flusso di gas, garantendo un riscaldamento e un raffreddamento uniformi;
Adatto per forni verticali e forni orizzontali;
Progettato per wafer di diverse dimensioni, come 3 pollici, 4 pollici, 6 pollici, 8 pollici e 12 pollici.

Le vaschette per wafer in carburo di silicio di VET Energy sono realizzate utilizzando una tecnologia di sinterizzazione avanzata e sono specificamente progettate per soddisfare i rigorosi requisiti dei supporti di processo della produzione di semiconduttori avanzati. I loro superiori vantaggi tecnici si riflettono principalmente nei seguenti aspetti:

1. Massima purezza e contaminazione estremamente bassa.
Utilizzando materie prime di purezza elevatissima, garantiamo un contenuto di ioni metallici estremamente basso (inferiore a 1 ppm per Na, K, Fe e Ca). La minima precipitazione ad alte temperature previene efficacemente la contaminazione dei wafer, assicurando un'elevata resa e affidabilità dei chip, rendendoli la scelta ideale per chi punta alla perfezione del processo.
2. Eccellenti prestazioni e stabilità termica
Le nostre barchette per wafer in SiC possiedono una conduttività termica estremamente elevata e un'eccellente resistenza agli shock termici. Possono sopportare rapide fluttuazioni di temperatura dalla temperatura ambiente fino a 1600 °C senza incrinarsi o deformarsi, garantendo ripetibilità e uniformità del processo e riducendo significativamente i tempi di inattività imprevisti dovuti a problemi del supporto.
3. Straordinaria resistenza alla corrosione e robustezza meccanica
L'elevata durezza e la forte resistenza all'usura, unitamente all'eccezionale resistenza agli ambienti acidi e alcalini, superano di gran lunga quelle del quarzo e della grafite. La sua eccezionale resistenza meccanica previene efficacemente la formazione di particelle durante le frequenti manipolazioni automatizzate, prolungandone significativamente la durata e riducendo i costi operativi complessivi.
4. Progettazione di precisione ed eccellente uniformità
Grazie all'impiego di tecnologie di stampaggio e lavorazione all'avanguardia, garantiamo che ogni contenitore per wafer possieda dimensioni geometriche precise e un'eccellente accuratezza superficiale, assicurando una spaziatura uniforme dei wafer e un flusso d'aria stabile.

Pulizia e manutenzione della barca per wafer di SiC:
Richiede una pulizia regolare per rimuovere eventuali depositi;
Utilizza soluzioni e metodi di pulizia specializzati per evitare danni;