Mamafa Maualuga CVD Solid SiC Tele

Ata Fa'aalia o le CVD Solid SiC Tele Mama Maualuga

Fa'amatalaga Pupuu:

O le vave tuputupu aʻe o tioata SiC taʻitasi e faʻaaogaina ai punaoa tetele o le CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition – SiC) o se metotia masani mo le sauniaina o mea tioata SiC taʻitasi e maualuga le tulaga lelei. O nei tioata taʻitasi e mafai ona faʻaaogaina i le tele o faʻaoga, e aofia ai masini eletise malolosi, masini optoelectronic, sensors, ma masini semiconductor.

Auina mai se imeli ia i matou La'u mai o se PDF

Fa'amatalaga o le oloa

Fa'ailoga o Oloa

E fa'aaogā e le VET Energy le mama maualuga telesilicon carbide (SiC)na faia e ala i le fa'aputuina o le ausa kemikolo(CVD)o se punaoa mo le tuputupu aʻeKirisitala SiCe ala i le felauaiga faaletino o le ausa (PVT). I le PVT, o le meafaitino autu e utaina i totonu o seogaumuma fa'a'a'e'e i luga o se kirisita fatu.

E manaʻomia se puna maualuga le mama e gaosia ai le tulaga leleiKirisitala SiC.

E fa'apitoa le VET Energy i le tu'uina atu o le SiC tele-particle mo le PVT auā e sili atu lona mafiafia nai lo mea laiti-particle na fausia e ala i le mu fa'afuase'i o kasa o lo'o i ai le Si ma le C. E le pei o le sintering solid-phase po'o le tali atu o le Si ma le C, e le mana'omia ai se ogaumu sintering fa'apitoa po'o se la'asaga sintering e tele ai le taimi i totonu o se ogaumu tuputupu a'e. O lenei mea tele-particle e toetoe lava a tutusa le fua fa'atatau o le fa'amamago, lea e fa'aleleia atili ai le tutusa o le tamo'e.

Fa'atomuaga:
1. Saunia le puna o le poloka CVD-SiC: Muamua, e manaʻomia ona e saunia se puna o le poloka CVD-SiC e maualuga le tulaga lelei, lea e masani ona maualuga le mama ma maualuga le mafiafia. E mafai ona saunia lenei mea e ala i le metotia o le faʻaputuina o le ausa kemikolo (CVD) i lalo o tulaga talafeagai o le tali atu.

2. Sauniuniga o le substrate: Filifili se substrate talafeagai e fai ma substrate mo le tuputupu aʻe o le SiC single crystal. O mea e masani ona faʻaaogaina e aofia ai le silicon carbide, silicon nitride, ma isi mea, ia e fetaui lelei ma le SiC single crystal o loʻo tuputupu aʻe.

3. Fa'avevela ma le fa'asu'i: Tu'u le poloka CVD-SiC ma le substrate i totonu o se ogaumu vevela maualuga ma saunia tulaga talafeagai o le fa'asu'i. O le fa'asu'i o lona uiga i le vevela maualuga, e suia sa'o le poloka block source mai le tulaga malo i le tulaga ausa, ona toe fa'aputu lea i luga o le substrate e fausia ai se tioata e tasi.

4. Puleaina o le vevela: I le taimi o le faagasologa o le sublimation, e manaʻomia ona pulea lelei le fesuiaʻiga o le vevela ma le tufatufaina atu o le vevela ina ia faʻalauiloa ai le sublimation o le poloka source ma le tuputupu aʻe o kristala taʻitasi. O le pulea lelei o le vevela e mafai ona ausia ai le tulaga lelei atoatoa o le kristala ma le fua faatatau o le tuputupu aʻe.

5. Puleaina o le ea: I le taimi o le faagasologa o le sublimation, e manaʻomia foʻi ona pulea le ea o le tali atu. O le kesi inert e maualuga le mama (e pei o le argon) e masani ona faʻaaogaina o se kesi feaveaʻi e faʻatumauina ai le mamafa talafeagai ma le mama ma puipuia ai le faʻaleagaina e mea leaga.

6. Tuputupu aʻe o le tioata e tasi: O le puna o le poloka CVD-SiC e ui atu i se suiga o le vaega o le ausa i le taimi o le faagasologa o le sublimation ma toe faʻaputu i luga o le fogaeleele e fausia ai se fausaga tioata e tasi. O le tuputupu aʻe vave o tioata SiC e mafai ona ausia e ala i tulaga talafeagai o le sublimation ma le puleaina o le suiga o le vevela.