Вимоги напівпровідникової промисловості до графітових матеріалів особливо високі, дрібні частинки графіту мають високу точність, високу термостійкість, високу міцність, малі втрати та інші переваги, такі як: спечені графітові вироби у формі.Оскільки графітове обладнання, що використовується в напівпровідниковій промисловості (включаючи нагрівачі та їх спечені матриці), повинно витримувати багаторазові процеси нагрівання та охолодження, для продовження терміну служби графітового обладнання зазвичай потрібно, щоб використовувані графітові матеріали мали стабільні характеристики та термостійкість до ударів.
01 Графітові аксесуари для вирощування напівпровідникових кристалів
Усі процеси, що використовуються для вирощування напівпровідникових кристалів, відбуваються в умовах високої температури та агресивного середовища. Гаряча зона печі для вирощування кристалів зазвичай оснащена термостійкими та корозійностійкими компонентами з високочистого графіту, такими як нагрівач, тигель, ізоляційний циліндр, напрямний циліндр, електрод, тримач тигля, гайка електрода тощо.
Ми можемо виготовити всі графітові деталі пристроїв для виробництва кристалів, які можуть постачатися окремо або в комплектах, або ж індивідуальні графітові деталі різних розмірів відповідно до вимог замовника. Розмір виробів можна виміряти на місці, а вміст золи в готових продуктах може бути меншим.ніж 5 ppm.
02 Графітові аксесуари для напівпровідникової епітаксії
Епітаксіальний процес стосується вирощування шару монокристалічного матеріалу з такою ж структурою решітки, як і підкладка, на монокристалічній підкладці. В епітаксіальному процесі пластина завантажується на графітовий диск. Продуктивність та якість графітового диска відіграють життєво важливу роль у якості епітаксіального шару пластини. У галузі епітаксіального виробництва потрібна велика кількість графіту надвисокої чистоти та графітової основи високої чистоти з покриттям SIC.
Графітова основа нашої компанії для напівпровідникової епітаксії має широкий спектр застосування, може відповідати більшості поширених у промисловості пристроїв, має високу чистоту, рівномірне покриття, відмінний термін служби, високу хімічну стійкість і термостабільність.
03 Графітові аксесуари для іонної імплантації
Іонна імплантація – це процес прискорення плазмового пучка бору, фосфору та миш'яку до певної енергії, а потім його введення в поверхневий шар матеріалу пластини для зміни властивостей поверхневого шару. Компоненти пристрою для іонної імплантації повинні бути виготовлені з високочистих матеріалів з відмінною термостійкістю, теплопровідністю, меншою корозією, спричиненою іонним пучком, та низьким вмістом домішок. Високочистий графіт відповідає вимогам застосування та може бути використаний для польотної труби, різних щілин, електродів, кришок електродів, трубопроводів, обмежувачів пучка тощо обладнання для іонної імплантації.
Ми можемо не лише забезпечити графітове захисне покриття для різних машин іонної імплантації, але й надати високочисті графітові електроди та джерела іонів з високою корозійною стійкістю різних специфікацій. Застосовувані моделі: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM та інше обладнання. Крім того, ми також можемо надати відповідні керамічні, вольфрамові, молібденові, алюмінієві вироби та деталі з покриттям.
04 Графітові ізоляційні матеріали та інші
Теплоізоляційні матеріали, що використовуються в обладнанні для виробництва напівпровідників, включають твердий графітовий фетр, м'який фетр, графітову фольгу, графітовий папір та графітовий канат.
Вся наша сировина - це імпортований графіт, який можна нарізати відповідно до конкретних розмірів вимог замовника або продати цілком.
Вуглецево-вуглецевий лоток використовується як носій для плівкового покриття у процесі виробництва сонячних монокристалічних кремнієвих та полікристалічних кремнієвих елементів. Принцип роботи такий: вставити кремнієвий чіп у лоток CFC та відправити його в трубу печі для обробки плівкового покриття.
