Persyaratan industri semikonduktor terhadap material grafit sangatlah tinggi, ukuran partikel grafit yang halus mempunyai presisi yang tinggi, ketahanan terhadap suhu tinggi, kekuatan tinggi, kehilangan yang kecil dan berbagai keunggulan lainnya, seperti: cetakan produk grafit yang disinter.Karena peralatan grafit yang digunakan dalam industri semikonduktor (termasuk pemanas dan cetakan sinternya) diharuskan mampu menahan proses pemanasan dan pendinginan yang berulang, untuk memperpanjang masa pakai peralatan grafit, biasanya diperlukan material grafit yang digunakan yang memiliki kinerja yang stabil dan fungsi benturan tahan panas.
01 Aksesori grafit untuk pertumbuhan kristal semikonduktor
Semua proses yang digunakan untuk menumbuhkan kristal semikonduktor beroperasi di bawah suhu tinggi dan lingkungan korosif. Zona panas tungku pertumbuhan kristal biasanya dilengkapi dengan komponen grafit kemurnian tinggi yang tahan panas dan tahan korosi, seperti pemanas, wadah peleburan, silinder isolasi, silinder pemandu, elektroda, dudukan wadah peleburan, mur elektroda, dll.
Kami dapat memproduksi semua bagian grafit dari perangkat produksi kristal, yang dapat dipasok secara individual atau dalam set, atau bagian grafit yang disesuaikan dengan berbagai ukuran sesuai dengan kebutuhan pelanggan. Ukuran produk dapat diukur di lokasi, dan kadar abu dari produk jadi dapat dikurangidari 5ppm.
02 Aksesori grafit untuk epitaksi semikonduktor
Proses epitaksial mengacu pada pertumbuhan lapisan material kristal tunggal dengan susunan kisi yang sama dengan substrat pada substrat kristal tunggal. Dalam proses epitaksial, wafer dimuat pada cakram grafit. Kinerja dan kualitas cakram grafit memainkan peran penting dalam kualitas lapisan epitaksial wafer. Dalam bidang produksi epitaksial, diperlukan banyak grafit dengan kemurnian sangat tinggi dan basis grafit dengan kemurnian tinggi dengan lapisan SIC.
Basis grafit perusahaan kami untuk epitaksi semikonduktor memiliki berbagai macam aplikasi, dapat mencocokkan sebagian besar peralatan yang umum digunakan dalam industri, dan memiliki kemurnian tinggi, lapisan seragam, masa pakai yang sangat baik, serta ketahanan kimia dan stabilitas termal yang tinggi.
03 Aksesori grafit untuk implantasi ion
Implantasi ion mengacu pada proses percepatan berkas plasma boron, fosfor, dan arsenik ke energi tertentu, lalu menyuntikkannya ke lapisan permukaan material wafer untuk mengubah sifat material lapisan permukaan. Komponen perangkat implantasi ion harus terbuat dari material dengan kemurnian tinggi dengan ketahanan panas yang sangat baik, konduktivitas termal, lebih sedikit korosi yang disebabkan oleh berkas ion, dan kandungan pengotor yang rendah. Grafit dengan kemurnian tinggi memenuhi persyaratan aplikasi, dan dapat digunakan untuk tabung terbang, berbagai celah, elektroda, penutup elektroda, saluran, terminator berkas, dll. dari peralatan implantasi ion.
Kami tidak hanya dapat menyediakan penutup pelindung grafit untuk berbagai mesin implantasi ion, tetapi juga menyediakan elektroda grafit dengan kemurnian tinggi dan sumber ion dengan ketahanan korosi tinggi dari berbagai spesifikasi. Model yang berlaku: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM, dan peralatan lainnya. Selain itu, kami juga dapat menyediakan produk keramik, tungsten, molibdenum, aluminium, dan komponen berlapis yang serasi.
04 Bahan isolasi grafit dan lainnya
Bahan isolasi termal yang digunakan dalam peralatan produksi semikonduktor meliputi kain keras grafit, kain lunak, lembaran grafit, kertas grafit, dan tali grafit.
Semua bahan baku kami adalah grafit impor, yang dapat dipotong sesuai dengan ukuran spesifik kebutuhan pelanggan atau dijual secara keseluruhan.
Baki karbon-karbon digunakan sebagai pembawa untuk pelapisan film dalam proses produksi sel surya silikon monokristalin dan sel silikon polikristalin. Prinsip kerjanya adalah: masukkan chip silikon ke dalam baki CFC dan kirimkan ke tabung tungku untuk memproses pelapisan film.
