De eisen die de halfgeleiderindustrie stelt aan het materiaal grafiet zijn bijzonder hoog. De fijne deeltjesgrootte van grafiet heeft een hoge precisie, hoge temperatuurbestendigheid, hoge sterkte, klein verlies en andere voordelen, zoals: gesinterde grafietproducten in mallen.Omdat de grafietapparatuur die in de halfgeleiderindustrie wordt gebruikt (inclusief verwarmingselementen en hun gesinterde matrijzen) herhaaldelijke verwarmings- en koelprocessen moet kunnen weerstaan, is het om de levensduur van grafietapparatuur te verlengen doorgaans vereist dat de gebruikte grafietmaterialen stabiele prestaties leveren en bestand zijn tegen hitte en stoten.
01 Grafietaccessoires voor de groei van halfgeleiderkristallen
Alle processen die worden gebruikt voor de groei van halfgeleiderkristallen, werken onder hoge temperaturen en in een corrosieve omgeving. De hete zone van een kristalgroeioven is meestal uitgerust met hittebestendige en corrosiebestendige componenten van hoogzuiver grafiet, zoals een verwarmingselement, een kroes, een isolatiecilinder, een geleidecilinder, een elektrode, een kroeshouder, een elektrodemoer, enz.
Wij kunnen alle grafietonderdelen voor kristalproductieapparatuur produceren, die afzonderlijk of in sets kunnen worden geleverd, of grafietonderdelen op maat van verschillende afmetingen, geheel naar wens van de klant. De afmetingen van de producten kunnen ter plaatse worden gemeten en het asgehalte van het eindproduct kan worden verlaagd.dan 5 ppm.
02 Grafietaccessoires voor halfgeleiderepitaxie
Epitaxiaal proces verwijst naar de groei van een laag monokristallijn materiaal met dezelfde roosterstructuur als het substraat op het monokristallijne substraat. Bij epitaxiaal proces wordt de wafer op de grafietschijf geplaatst. De prestaties en kwaliteit van de grafietschijf spelen een cruciale rol in de kwaliteit van de epitaxiale laag van de wafer. Bij epitaxiale productie is veel ultrazuiver grafiet en een hoogzuivere grafietbasis met SIC-coating nodig.
De grafietbasis van ons bedrijf voor halfgeleider-epitaxie kent een breed scala aan toepassingen en is geschikt voor de meeste gangbare apparatuur in de industrie. Het materiaal is zeer zuiver, heeft een uniforme coating, een uitstekende levensduur en is zeer chemisch bestendig en thermisch stabiel.
03 Grafietaccessoires voor ionenimplantatie
Ionenimplantatie verwijst naar het proces waarbij de plasmabundel van boor, fosfor en arseen tot een bepaalde energie wordt versneld en vervolgens in de oppervlaktelaag van het wafermateriaal wordt geïnjecteerd om de materiaaleigenschappen van de oppervlaktelaag te veranderen. De componenten van het ionenimplantatieapparaat moeten gemaakt zijn van zeer zuivere materialen met een uitstekende hittebestendigheid, thermische geleidbaarheid, minimale corrosie door de ionenbundel en een laag gehalte aan onzuiverheden. Hoogzuiver grafiet voldoet aan de toepassingseisen en kan worden gebruikt voor de vluchtbuis, diverse sleuven, elektroden, elektrodeafdekkingen, leidingen, straalafsluitingen, enz. van ionenimplantatieapparatuur.
Wij leveren niet alleen grafietafscherming voor diverse ionenimplantatiemachines, maar ook hoogzuivere grafietelektroden en ionenbronnen met een hoge corrosiebestendigheid volgens diverse specificaties. Toepasbare modellen: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM en andere apparatuur. Daarnaast kunnen wij ook bijpassende keramische, wolfraam-, molybdeen- en aluminiumproducten en gecoate onderdelen leveren.
04 Grafietisolatiematerialen en andere
Thermische isolatiematerialen die in apparatuur voor de productie van halfgeleiders worden gebruikt, zijn onder andere hard grafietvilt, zacht vilt, grafietfolie, grafietpapier en grafiettouw.
Al onze grondstoffen zijn geïmporteerd grafiet, dat we kunnen snijden op maat, afgestemd op de wensen van de klant, of als geheel kunnen verkopen.
De koolstof-koolstofschaal wordt gebruikt als drager voor filmcoating in het productieproces van monokristallijn silicium en polykristallijn silicium zonnecellen. Het werkingsprincipe is als volgt: de siliciumchip wordt in de CFC-schaal geplaatst en naar de ovenbuis gestuurd om de filmcoating te verwerken.
