A félvezető ipar grafitanyag-követelményei különösen magasak. A grafit finom szemcseméretű termékei nagy pontossággal, magas hőmérséklettel szemben támasztott ellenállással, nagy szilárdsággal és kis veszteséggel rendelkeznek, például szinterezett grafittermékek formázhatók.Mivel a félvezetőiparban használt grafitberendezéseknek (beleértve a fűtőtesteket és szinterezett szerszámaikat) ismételt fűtési és hűtési folyamatoknak kell ellenállniuk, a grafitberendezések élettartamának meghosszabbítása érdekében általában elvárás, hogy a felhasznált grafitanyagok stabil teljesítményt és hőálló ütésállóságot biztosítsanak.
01 Grafit kiegészítők félvezető kristálynövesztéshez
A félvezető kristályok növesztéséhez használt összes eljárás magas hőmérsékleten és korrozív környezetben működik. A kristálynövesztő kemence forró zónája általában hőálló és korrózióálló, nagy tisztaságú grafit alkatrészekkel van felszerelve, mint például fűtőelem, olvasztótégely, szigetelőhenger, vezetőhenger, elektróda, olvasztótégelytartó, elektródaanya stb.
Kristálygyártó berendezések grafit alkatrészeinek gyártását vállaljuk, melyeket egyedileg vagy készletben is szállítunk, illetve az ügyfél igényei szerint különböző méretű, egyedi grafit alkatrészeket is tudunk készíteni. A termékek mérete a helyszínen mérhető, a késztermékek hamutartalma pedig kisebb lehet.mint 5 ppm.
02 Grafit kiegészítők félvezető epitaxiához
Az epitaxiális eljárás egy olyan egykristályos anyagréteg növesztését jelenti az egykristályos hordozón, amelynek rácselrendezése megegyezik a hordozóéval. Az epitaxiális eljárás során a lapkát grafitkorongra helyezik. A grafitkorong teljesítménye és minősége létfontosságú szerepet játszik a lapka epitaxiális rétegének minőségében. Az epitaxiális gyártás területén nagy mennyiségű ultra-nagy tisztaságú grafitra és SIC-bevonatú, nagy tisztaságú grafitallapra van szükség.
Cégünk félvezető epitaxiához használt grafitbázisa széles körű alkalmazási lehetőségekkel rendelkezik, az iparágban általánosan használt berendezések többségével kompatibilis, nagy tisztaságú, egyenletes bevonattal, kiváló élettartammal, valamint magas kémiai ellenállással és hőstabilitással rendelkezik.
03 Grafit kiegészítők ionimplantációhoz
Az ionimplantáció a bór, foszfor és arzén plazmanyalábjának egy bizonyos energiára történő felgyorsításának, majd a lapkaanyag felületi rétegébe történő befecskendezésének folyamatát jelenti, hogy megváltoztassák a felületi réteg anyagtulajdonságait. Az ionimplantációs eszköz alkatrészeinek nagy tisztaságú, kiváló hőállóságú, hővezető, az ionnyaláb által okozott kisebb korrózióval és alacsony szennyeződés-tartalommal rendelkező anyagokból kell készülniük. A nagy tisztaságú grafit megfelel az alkalmazási követelményeknek, és felhasználható az ionimplantációs berendezések repülőcsöveihez, különféle réseihez, elektródáihoz, elektródaburkolataihoz, vezetékeihez, nyalábterminátoraihoz stb.
Nemcsak grafit árnyékoló bevonatot tudunk biztosítani különféle ionimplantációs gépekhez, hanem nagy tisztaságú grafitelektródákat és ionforrásokat is, amelyek magas korrózióállósággal rendelkeznek, különféle specifikációkkal. Alkalmazható modellek: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM és egyéb berendezések. Ezenkívül megfelelő kerámia, volfrám, molibdén, alumínium termékeket és bevonatos alkatrészeket is tudunk biztosítani.
04 Grafit szigetelőanyagok és egyéb
A félvezetőgyártó berendezésekben használt hőszigetelő anyagok közé tartozik a grafit keményfilc, a puhafilc, a grafitfólia, a grafitpapír és a grafitkötél.
Minden alapanyagunk importált grafit, amelyet az ügyfél igényei szerint vághatunk, vagy egészben értékesíthetünk.
A szén-szén tálcát hordozóként használják a filmbevonathoz a monokristályos szilícium és polikristályos szilícium napelemek gyártási folyamatában. A működési elv a következő: a szilíciumchipet behelyezik a CFC tálcába, és a kemencecsőbe küldik a filmbevonat feldolgozásához.
