Avantajele speciale ale susceptorilor noștri de grafit acoperiți cu SiC includ puritate extrem de ridicată, acoperire omogenă și o durată de viață excelentă.De asemenea, au proprietăți de rezistență chimică ridicată și stabilitate termică.

Acoperirea cu SiC a substratului de grafit pentru aplicații de semiconductor produce o piesă cu puritate superioară și rezistență la atmosfera oxidantă.
CVD SiC sau CVI SiC este aplicat pe grafit de piese de design simple sau complexe.Acoperirea poate fi aplicată în grosimi diferite și pe piese foarte mari.

Caracteristici:
· Rezistență excelentă la șocuri termice
· Rezistență excelentă la șocuri fizice
· Rezistență chimică excelentă
· Puritate super ridicată
· Disponibilitate în formă complexă
· Utilizabil în atmosferă oxidantă

Aplicație:

Proprietăți tipice ale materialului grafit de bază:

Carbonul furnizează susceptori și componente de grafit pentru toate reactoarele de epitaxie actuale.Portofoliul nostru include susceptori de butoi pentru unități aplicate și LPE, susceptori de clătite pentru unitățile LPE, CSD și Gemini și susceptori cu un singur wafer pentru unități aplicate și ASM. Prin combinarea parteneriatelor puternice cu producători de top, expertiză în materiale și know-how în producție, SGL oferă designul optim pentru aplicația dvs.