Epitaxia de silicio monocristalino para circuitos integrados

Breve descripción:


  • Lugar de origen:Porcelana
  • Estructura cristalina:Fase FCCβ
  • Densidad :3,21 g/cm;
  • Dureza:2500 Vickers;
  • Tamaño del grano:2~10 μm;
  • Pureza química:99,99995%;
  • Capacidad calorífica:640 J·kg⁻¹·K⁻¹;
  • Temperatura de sublimación:2700℃;
  • Fuerza flexural:415 MPa (RT de 4 puntos);
  • Módulo de Young:430 GPa (flexión de 4 puntos, 1300 ℃);
  • Expansión térmica (CTE):4.5 10-6K-1;
  • Conductividad térmica:300 (W/MK);
  • Detalles del producto

    Etiquetas de producto

    Descripción del Producto

    Nuestra empresa ofrece servicios de recubrimiento de SiC mediante el método CVD sobre la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, las cuales se depositan sobre la superficie de los materiales recubiertos, formando una capa protectora de SiC.

    Características principales:

    1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:

    La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena incluso a temperaturas tan altas como 1600 °C.

    2. Alta pureza: fabricado mediante deposición química de vapor bajo condiciones de cloración a alta temperatura.

    3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.

    4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sales y reactivos orgánicos.

    Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC

    Propiedades de SiC-CVD

    Estructura cristalina Fase β de la FCC
    Densidad g/cm³ 3.21
    Dureza Dureza Vickers 2500
    Tamaño del grano μm 2~10
    Pureza química % 99.99995
    Capacidad calorífica J·kg⁻¹·K⁻¹ 640
    Temperatura de sublimación 2700
    Fuerza flexural MPa (RT de 4 puntos) 415
    Módulo de Young GPa (flexión de 4 puntos, 1300 ℃) 430
    Expansión térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
    Conductividad térmica (W/mK) 300

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