Epitassia del silicio monocristallino IC

Breve descrizione:


  • Luogo di origine:Cina
  • Struttura cristallina:fase FCCβ
  • Densità:3,21 g/cm;
  • Durezza:2500 Vickers;
  • Dimensione del grano:2~10 μm;
  • Purezza chimica:99,99995%;
  • Capacità termica:640 J·kg-1·K-1;
  • Temperatura di sublimazione:2700℃;
  • Forza flessoria:415 MPa (RT 4-Point);
  • Modulo di Young:430 GPa (piegamento a 4 punti, 1300℃);
  • Dilatazione termica (CTE):4,5 10-6K-1;
  • Conduttività termica:300 (W/mK);
  • Dettagli del prodotto

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    Descrizione del prodotto

    La nostra azienda offre servizi di rivestimento in SiC tramite metodo CVD sulla superficie di grafite, ceramica e altri materiali. In questo processo, speciali gas contenenti carbonio e silicio reagiscono ad alta temperatura per ottenere molecole di SiC ad elevata purezza, che si depositano sulla superficie dei materiali rivestiti, formando uno strato protettivo di SiC.

    Caratteristiche principali:

    1. Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura:

    La resistenza all'ossidazione rimane molto buona anche a temperature elevate, fino a 1600 °C.

    2. Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica da fase vapore in condizioni di clorazione ad alta temperatura.

    3. Resistenza all'erosione: elevata durezza, superficie compatta, particelle fini.

    4. Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sali e reagenti organici.

    Principali caratteristiche del rivestimento CVD-SIC

    Proprietà del SiC-CVD

    Struttura cristallina Fase β FCC
    Densità g/cm³ 3.21
    Durezza Durezza Vickers 2500
    Dimensione del grano μm 2~10
    Purezza chimica % 99,99995
    Capacità termica J·kg⁻¹·K⁻¹ 640
    Temperatura di sublimazione °C 2700
    Forza flessoria MPa (RT a 4 punti) 415
    Modulo di Young Gpa (piegamento a 4 punti, 1300℃) 430
    Dilatazione termica (CTE) 10-6K-1 4.5
    conducibilità termica (W/mK) 300

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