CARA NGGAWE WAFER SILIKON
A waferIku irisan silikon sing kandelé kurang luwih 1 milimeter sing nduwèni permukaan sing rata banget amarga prosedur sing sacara teknis nuntut banget. Panggunaan sabanjuré nemtokaké prosedur pertumbuhan kristal endi sing kudu digunakaké. Ing proses Czochralski, contoné, silikon polikristalin dilebur lan kristal wiji tipis kaya pensil dicelupake ing silikon sing wis lebur. Kristal wiji banjur diputer lan ditarik munggah alon-alon. Asilé yaiku sawijining kolosus sing abot banget, yaiku monokristal. Bisa milih karakteristik listrik monokristal kanthi nambah unit cilik dopan kemurnian dhuwur. Kristal kasebut didoping miturut spesifikasi pelanggan banjur dipoles lan dipotong dadi irisan. Sawisé macem-macem langkah produksi tambahan, pelanggan nampa wafer sing wis ditemtokake ing kemasan khusus, sing ngidini pelanggan langsung nggunakake wafer kasebut ing jalur produksi.
PROSES CZOCHRALSKI
Saiki, sebagian gedhé saka monokristal silikon ditandur miturut proses Czochralski, sing nglibatake leleh silikon polikristalin kanthi kemurnian dhuwur ing wadhah kuarsa hipermurni lan nambahake dopan (biasane B, P, As, Sb). Kristal wiji monokristalin sing tipis dicelupake menyang silikon cair. Kristal CZ gedhe banjur berkembang saka kristal tipis iki. Pengaturan suhu lan aliran silikon cair sing tepat, rotasi kristal lan wadhah, uga kecepatan tarikan kristal ngasilake ingot silikon monokristalin sing berkualitas tinggi banget.
METODE ZONA FLOAT
Monokristal sing diprodhuksi miturut metode zona ngambang cocog kanggo digunakake ing komponen semikonduktor daya, kayata IGBT. Ingot silikon polikristalin silinder dipasang ing ndhuwur koil induksi. Medan elektromagnetik frekuensi radio mbantu nglelehke silikon saka bagean ngisor batang. Medan elektromagnetik ngatur aliran silikon liwat bolongan cilik ing koil induksi lan menyang monokristal sing ana ing ngisor (metode zona ngambang). Doping, biasane nganggo B utawa P, ditindakake kanthi nambahake zat gas.
Wektu kiriman: 7 Juni 2021