SiCコーティンググラファイトMOCVDウェーハキャリア、SiCエピタキシー用グラファイトサセプター

簡単な説明:

半導体用途向けグラファイト基板へのSiCコーティングは、優れた純度と酸化雰囲気耐性を備えた部品を実現します。CVD SiCまたはCVI SiCは、シンプルな設計から複雑な設計まで、様々な形状のグラファイト基板に塗布できます。コーティングは様々な厚さで、また非常に大型の部品にも適用可能です。


  • 原産地:浙江省、中国 (本土)
  • モデル番号:モデル番号:
  • 化学組成:SiCコーティンググラファイト
  • 曲げ強度:470Mpa
  • 熱伝導率:300 W/mK
  • 品質:完璧
  • 関数:CVD-SiC
  • 応用:半導体/太陽光発電
  • 密度:3.21 g/cc
  • 熱膨張:4 10-6/K
  • 灰: 5ppm未満
  • サンプル:利用可能
  • HSコード:6903100000
  • 製品詳細

    製品タグ

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    製品説明

    当社のSiCコーティンググラファイトサセプターは、極めて高い純度、均一なコーティング、そして優れた耐用年数といった特長を備えています。また、高い耐薬品性と熱安定性も備えています。

    半導体用途のグラファイト基板の SiC コーティングにより、純度と酸化雰囲気に対する耐性に優れた部品が生成されます。
    CVD SiCまたはCVI SiCは、シンプルな設計から複雑な設計まで、様々な形状の部品のグラファイトに塗布できます。コーティングは様々な厚さで、また非常に大型の部品にも適用可能です。

    SiCコーティング/コーティングMOCVDサセプター

    特徴:
    · 優れた耐熱衝撃性
    · 優れた物理的耐衝撃性
    · 優れた耐薬品性
    · 超高純度
    · 複雑な形状でも利用可能
    · 酸化雰囲気下で使用可能

    応用:

    2

     

    ベースグラファイト材料の代表的な特性:

    見かけ密度: 1.85 g/cm3
    電気抵抗率: 11μΩm
    曲げ強度: 49 MPa(500kgf/cm2)
    ショア硬度: 58
    灰: 5ppm未満
    熱伝導率: 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

    炭素供給サセプター最新のエピタキシーリアクターすべてに対応するグラファイト部品とサセプターを提供しています。当社のポートフォリオには、応用ユニットおよびLPEユニット用のバレル型サセプター、LPE、CSD、およびGeminiユニット用のパンケーキ型サセプター、応用ユニットおよびASMユニット用のシングルウェーハ型サセプターが含まれます。SGLは、主要OEMとの強力なパートナーシップ、材料に関する専門知識、製造ノウハウを組み合わせることで、お客様のアプリケーションに最適な設計を提供します。

     


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