رسوب شیمیایی بخار (CVD) روشی است که شامل قرار دادن یک لایه جامد روی سطح ویفر سیلیکونی از طریق واکنش شیمیایی مخلوط گاز است. این روش را میتوان به مدلهای تجهیزات متنوعی تقسیم کرد که بر اساس شرایط واکنش شیمیایی مختلف مانند فشار و پیش ماده ایجاد میشوند.
این دو دستگاه برای چه کاری استفاده میشوند؟تجهیزات PECVD (پلاسمای تقویتشده) بهطور گسترده در کاربردهایی مانند OX، نیترید، گیت عنصر فلزی و کربن آمورف استفاده میشوند. از سوی دیگر، LPCVD (کمتوان) معمولاً برای نیترید، پلی و TEOS استفاده میشود.
اصل چیست؟فناوری PECVD با استفاده از پلاسمای دمای پایین، انرژی پلاسما و CVD را با هم ترکیب میکند تا تخلیه تازگی را در کاتد محفظه فرآیند القا کند. این امر امکان کنترل واکنش شیمیایی و پلاسما را برای تشکیل یک لایه جامد روی سطح نمونه فراهم میکند. به طور مشابه، LPCVD نیز قرار است با کاهش فشار گاز واکنش شیمیایی در راکتور کار کند.
انسانیسازی هوش مصنوعیاستفاده از هوش مصنوعی Humanize در حوزه فناوری CVD میتواند کارایی و دقت فرآیند رسوبگذاری فیلم را تا حد زیادی افزایش دهد. با استفاده از الگوریتم هوش مصنوعی، میتوان نظارت و تنظیم پارامترهایی مانند پارامتر یون، سرعت جریان گاز، دما و ضخامت فیلم را برای نتایج بهتر بهینه کرد.
زمان ارسال: ۲۴ اکتبر ۲۰۲۴