ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (CVD) ଏକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯେଉଁଥିରେ ଏକ ଗ୍ୟାସ ମିଶ୍ରଣର ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ସିଲିକନ୍ ୱାଫରର ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ କଠିନ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରାଯାଇଥାଏ। ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ଚାପ ଏବଂ ପୂର୍ବବର୍ତ୍ତୀ ଭଳି ବିଭିନ୍ନ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଅବସ୍ଥା ଉପରେ ସ୍ଥାପନ କରାଯାଇଥିବା ବିଭିନ୍ନ ଉପକରଣ ମଡେଲରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରିବ।
ଏହି ଦୁଇଟି ଉପକରଣ କେଉଁ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ?PECVD (ପ୍ଲାଜମା ଏନହାନ୍ସଡ୍) ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ OX, ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍, ଧାତୁ ଉପାଦାନ ଗେଟ୍ ଏବଂ ଆମୋରଫସ୍ କାର୍ବନ ଭଳି ପ୍ରୟୋଗରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ଅନ୍ୟପକ୍ଷରେ, LPCVD (ନିମ୍ନ ଶକ୍ତି) ସାଧାରଣତଃ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍, ପଲି ଏବଂ TEOS ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
ନୀତି କ’ଣ?PECVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ପ୍ରୋସିଜର ଚାମ୍ବରର କ୍ୟାଥୋଡରେ ସତେଜତା ନିର୍ଗତ କରିବା ପାଇଁ ନିମ୍ନ-ତାପମାନର ପ୍ଲାଜମାକୁ ବ୍ୟବହାର କରି ପ୍ଲାଜମା ଶକ୍ତି ଏବଂ CVDକୁ ମିଶ୍ରଣ କରେ। ଏହା ନମୁନା ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ କଠିନ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ ପାଇଁ ରାସାୟନିକ ଏବଂ ପ୍ଲାଜମା ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବାକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ। ସେହିପରି, LPCVD ରିଆକ୍ଟରରେ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସ ଚାପକୁ ହ୍ରାସ କରି କାର୍ଯ୍ୟ କରିବାକୁ ଯୋଜନା କରୁଛି।
AIକୁ ମାନବୀକରଣ କରନ୍ତୁ: CVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା କ୍ଷେତ୍ରରେ Humanize AI ର ବ୍ୟବହାର ମୁଭି ଜମା ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଦକ୍ଷତା ଏବଂ ସଠିକତାକୁ ବହୁ ପରିମାଣରେ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ। ଲିଭରେଜ୍ AI ଆଲଗୋରିଦମ ଦ୍ୱାରା, ଆୟନ ପାରାମିଟର, ଗ୍ୟାସ ପ୍ରବାହ ହାର, ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ମୁଭି ଘନତା ଭଳି ପାରାମିଟରର ମନିଟରିଂ ଏବଂ ଆଡଜଷ୍ଟମେଣ୍ଟକୁ ଉତ୍ତମ ଫଳାଫଳ ପାଇଁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରାଯାଇପାରିବ।
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଅକ୍ଟୋବର-୨୪-୨୦୨୪