化学蒸着（CVD）技術の理解

化学気相成長法（CVD）は、混合ガスの化学反応を利用してシリコンウェーハの表面に固体膜を形成するプロセスです。このプロセスは、圧力や前駆体などの異なる化学反応条件に基づいて構築される様々な装置モデルに分類できます。

これら 2 つのデバイスはどのような手順で使用されますか?PECVD（プラズマ強化）装置は、OX、窒化物、金属元素ゲート、アモルファスカーボンなどの用途で広く使用されています。一方、LPCVD（低電力）装置は、主に窒化物、ポリシリコン、TEOSに使用されます。

原理は何ですか？PECVD技術は、低温プラズマを利用してプロセスチャンバーの陰極でフレッシュ放電を誘発することで、プラズマエネルギーとCVDを組み合わせます。これにより、化学反応とプラズマ化学反応を制御し、サンプル表面に固体膜を形成できます。同様に、LPCVDは、反応炉内の化学反応ガス圧力を低減して動作させるように設計されています。

AIを人間化するCVD技術分野におけるHumanize AIの活用は、膜堆積プロセスの効率と精度を大幅に向上させます。AIアルゴリズムを活用することで、イオンパラメータ、ガス流量、温度、膜厚といったパラメータの監視と調整を最適化し、より良い結果を得ることができます。