A kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) egy olyan eljárás, amelynek során egy szilárd filmet helyeznek el egy szilíciumlap felületén egy gázkeverék kémiai reakciója révén. Ez az eljárás különféle berendezésmodellekre osztható, amelyeket különböző kémiai reakciókörülmények, például nyomás és prekurzor alapján állítanak elő.
Milyen eljáráshoz használják ezt a két eszközt?A PECVD (plazmával fokozott) berendezéseket széles körben használják olyan területeken, mint az OX, nitridek, fémes elemkapuk és amorf szén. Az LPCVD (kis teljesítményű) berendezéseket jellemzően nitridek, polietilének és TEOS-ok előállítására használják.
Mi az alapelv?A PECVD technológia a plazmaenergiát és a CVD-t ötvözi az alacsony hőmérsékletű plazma felhasználásával, hogy frissentartó kisülést idézzen elő az eljáráskamra katódjánál. Ez lehetővé teszi a kémiai és plazmakémiai reakció szabályozását, szilárd film kialakítását a minta felületén. Hasonlóképpen, az LPCVD-t a reaktorban a kémiai reakciógáz nyomásának csökkentésével tervezik működtetni.
humanizálja a mesterséges intelligenciátA Humanise AI használata a CVD technológia területén nagymértékben növelheti a filmleválasztási eljárás hatékonyságát és pontosságát. A mesterséges intelligencia algoritmusának segítségével optimalizálható az olyan paraméterek monitorozása és beállítása, mint az ionparaméter, a gázáramlási sebesség, a hőmérséklet és a filmvastagság a jobb eredmények elérése érdekében.
Közzététel ideje: 2024. október 24.