ဓာတုအငွေ့စုပုံခြင်း (CVD) သည် ဆီလီကွန်ဝေဖာ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ဓာတ်ငွေ့ရောစပ်မှု၏ ဓာတုဗေဒဓာတ်ပြုမှုမှတစ်ဆင့် အစိုင်အခဲရုပ်ရှင်တစ်ခုကို တင်ဆောင်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်ကို ဖိအားနှင့် ရှေ့ပြေးနိမိတ်ကဲ့သို့သော ဓာတုဓာတ်ပြုမှုအခြေအနေအမျိုးမျိုးပေါ်တွင် တည်ဆောက်ထားသော ကိရိယာပုံစံအမျိုးမျိုးအဖြစ် ခွဲခြားနိုင်သည်။
ဒီကိရိယာနှစ်ခုကို ဘယ်လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် အသုံးပြုတာလဲ။PECVD (Plasma Enhanced) ပစ္စည်းကိရိယာများကို OX၊ Nitride၊ metallic element gate နှင့် amorphous carbon ကဲ့သို့သော အသုံးချမှုတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုကြသည်။ အခြားတစ်ဖက်တွင်၊ LPCVD (Low Power) ကို Nitride၊ poly နှင့် TEOS တို့အတွက် အများအားဖြင့် အသုံးပြုကြသည်။
မူကဘာလဲ။PECVD နည်းပညာသည် အပူချိန်နိမ့်သော ပလာစမာကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် ပလာစမာစွမ်းအင်နှင့် CVD ကို ပေါင်းစပ်ပြီး လုပ်ငန်းစဉ်အခန်း၏ ကက်သုတ်တွင် လတ်ဆတ်မှုထုတ်လွှတ်မှုကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်။ ၎င်းသည် ဓာတုဗေဒကို ထိန်းချုပ်ရန်နှင့် နမူနာမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အစိုင်အခဲအလွှာတစ်ခုဖြစ်ပေါ်စေရန် ပလာစမာဓာတုဓာတ်ပြုမှုအတွက် အသုံးပြုသည်။ အလားတူပင်၊ LPCVD သည် ဓာတ်ပေါင်းဖိုတွင် ဓာတုဓာတ်ပြုမှုဓာတ်ငွေ့ဖိအားကို လျှော့ချရန် စီစဉ်ထားသည်။
AI ကို လူသားဆန်အောင် ပြုလုပ်ပါCVD နည်းပညာနယ်ပယ်တွင် Humanize AI ကိုအသုံးပြုခြင်းသည် ရုပ်ရှင်စစ်ထုတ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ ထိရောက်မှုနှင့်တိကျမှုကို သိသိသာသာမြှင့်တင်ပေးနိုင်ပါသည်။ AI algorithm ကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် အိုင်းယွန်း parameter၊ ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုနှုန်း၊ အပူချိန်နှင့် ရုပ်ရှင်အထူကဲ့သို့သော parameter များကို စောင့်ကြည့်ခြင်းနှင့် ချိန်ညှိခြင်းတို့ကို ပိုမိုကောင်းမွန်သောရလဒ်များအတွက် အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်နိုင်ပါသည်။
ပို့စ်တင်ချိန်: အောက်တိုဘာ ၂၄၊ ၂၀၂၄