O le fa'aputuga o le ausa kemikolo (CVD) o se faiga e aofia ai le fa'aputuina o se ata tifaga mautu i luga o le fogāeleele o le silicon wafer e ala i se tali fa'akemikolo kemikolo o se paluga kesi. E mafai ona vaevaeina lenei faiga i ni fa'ata'ita'iga eseese o masini e fa'avae i luga o tulaga eseese o tali fa'akemikolo e pei o le mamafa ma le mea muamua.
O le ā le faiga e faʻaaogā ai nei masini e lua?E fa'aaogaina lautele masini PECVD (Plasma Enhanced) i galuega e pei o le OX, Nitride, metallic element gate, ma le amorphous carbon. I le isi itu, o le LPCVD (Low Power) e masani ona fa'aaogaina mo le Nitride, poly, ma le TEOS.
O le ā le mataupu silisili?O le tekinolosi PECVD e tu'ufa'atasia ai le malosiaga o le plasma ma le CVD e ala i le fa'aaogaina o le plasma maualalo le vevela e fa'aosofia ai le fa'asa'olotoina o le fou i le cathode o le potu fa'agasologa. O lenei mea e mafai ai ona pulea le tali atu o vaila'au ma le plasma e fausia ai se ata mafiafia i luga o le fogā'ele'ele o fa'ata'ita'iga. I se tulaga fa'apena, o le LPCVD ua fuafuaina e fa'agaoioia i le fa'aitiitia o le mamafa o le kesi o le tali atu o vaila'au i totonu o le reactor.
fa'atagata le AIO le faʻaaogaina o le Humanize AI i le matata o tekinolosi CVD e mafai ona faʻaleleia atili ai le lelei ma le saʻo o le faʻagasologa o le teuina o ata tifaga. I le faʻaaogaina o le algorithm AI, o le mataʻituina ma le fetuʻunaʻiga o parakalafa e pei o le parakalafa ion, le fua faatatau o le tafe o le kesi, le vevela, ma le mafiafia o ata tifaga e mafai ona faʻaleleia atili mo ni taunuuga sili atu.
Taimi na lafoina ai: Oke-24-2024