Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это процедура, которая включает в себя нанесение твердой пленки на поверхность кремниевой пластины посредством химической реакции газовой смеси. Эту процедуру можно разделить на различные модели оборудования, установленные на различных условиях химической реакции, таких как давление и прекурсор.
Для какой процедуры используются эти два устройства?Оборудование PECVD (Plasma Enhanced) широко используется в таких приложениях, как OX, Nitride, затвор металлического элемента и аморфный углерод. С другой стороны, LPCVD (Low Power) обычно используется для Nitride, Poly и TEOS.
В чем принцип?Технология PECVD объединяет плазменную энергию и CVD, эксплуатируя низкотемпературную плазму для индуцирования свежего разряда на катоде процедурной камеры. Это позволяет контролировать химическую и плазмохимическую реакцию для формирования твердой пленки на поверхности образца. Аналогично, LPCVD планируется использовать при сниженном давлении газа химической реакции в реакторе.
очеловечить ИИ: Использование Humanize AI в области технологии CVD может значительно повысить эффективность и точность процедуры осаждения пленки. Используя алгоритм AI, можно оптимизировать мониторинг и регулировку таких параметров, как ионный параметр, скорость потока газа, температура и толщина пленки, для достижения лучших результатов.
Время публикации: 24-окт-2024