रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) एक प्रक्रिया हो जसमा ग्यास मिश्रणको रासायनिक रासायनिक प्रतिक्रिया मार्फत सिलिकन वेफरको सतहमा ठोस फिल्म राख्नु समावेश छ। यो प्रक्रियालाई दबाब र अग्रदूत जस्ता विभिन्न रासायनिक प्रतिक्रिया अवस्थाहरूमा स्थापित विभिन्न उपकरण मोडेलहरूमा विभाजन गर्न सकिन्छ।
यी दुई उपकरणहरू कुन प्रक्रियाको लागि प्रयोग गरिन्छ?PECVD (प्लाज्मा एन्हान्स्ड) उपकरणहरू OX, नाइट्राइड, धातु तत्व गेट, र अमोर्फस कार्बन जस्ता प्रयोगमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। अर्कोतर्फ, LPCVD (लो पावर) सामान्यतया नाइट्राइड, पोली, र TEOS को लागि प्रयोग गरिन्छ।
सिद्धान्त के हो?PECVD प्रविधिले प्लाज्मा ऊर्जा र CVD लाई कम-तापमानको प्लाज्मा प्रयोग गरेर संयोजन गर्दछ जसले प्रक्रिया कक्षको क्याथोडमा ताजापन डिस्चार्ज प्रेरित गर्दछ। यसले नमूना सतहमा ठोस चलचित्र बनाउन रासायनिक र प्लाज्मा रासायनिक प्रतिक्रियालाई नियन्त्रण गर्न अनुमति दिन्छ। त्यस्तै गरी, LPCVD ले रिएक्टरमा रासायनिक प्रतिक्रिया ग्यासको चाप कम गर्न सञ्चालन गर्ने योजना बनाएको छ।
एआईलाई मानवीकरण गर्नुहोस्: CVD प्रविधिको क्षेत्रमा Humanize AI को प्रयोगले चलचित्र निक्षेपण प्रक्रियाको दक्षता र शुद्धतालाई धेरै बढाउन सक्छ। LEVEREJE AI एल्गोरिथ्मद्वारा, आयन प्यारामिटर, ग्यास प्रवाह दर, तापक्रम, र चलचित्र मोटाई जस्ता प्यारामिटरहरूको अनुगमन र समायोजनलाई राम्रो परिणामको लागि अनुकूलित गर्न सकिन्छ।
पोस्ट समय: अक्टोबर-२४-२०२४