Ìdásílẹ̀ ìgbóná kẹ́míkà (CVD) jẹ́ ìlànà kan tí ó ní fíìmù líle kan lórí ojú ohun èlò silicon wafer nípasẹ̀ ìhùwàsí kẹ́míkà kẹ́míkà ti àdàpọ̀ gaasi kan. A lè pín ìlànà yìí sí oríṣiríṣi ẹ̀rọ tí a gbé kalẹ̀ lórí onírúurú ipò ìhùwàsí kẹ́míkà bíi titẹ àti ohun tí ó ń ṣáájú.
Ilana wo ni a lo fun awọn ẹrọ meji wọnyi?Àwọn ohun èlò PECVD (Plasma Enhanced) ni a ń lò fún lílo àwọn ohun èlò bíi OX, Nitride, metallic element gate, àti amorphous carbon. Ní ọwọ́ kejì ẹ̀wẹ̀, a sábà máa ń lo LPCVD (Low Power) fún Nitride, poly, àti TEOS.
Kí ni ìlànà náà?Ìmọ̀ ẹ̀rọ PECVD ń so agbára plasma àti CVD pọ̀ nípa lílo plasma tí ó ní ìwọ̀n otútù kékeré láti fa ìtújáde tútù ní kathode ti yàrá ìtọ́jú náà. Èyí ń jẹ́ kí ìṣàkóṣo ìṣe kẹ́míkà àti plasma kẹ́míkà láti ṣẹ̀dá fíìmù líle lórí ojú àpẹẹrẹ náà. Bákan náà, LPCVD ń gbèrò láti ṣiṣẹ́ ní dín ìfúnpá gáàsì ìṣe kẹ́míkà kù nínú reactor náà.
ṣe AI ní ènìyàn: Lilo Humanize AI ninu aaye imọ-ẹrọ CVD le mu ṣiṣe ati deede ti ilana ifipamọ fiimu pọ si pupọ. Nipa algoridimu leverage AI, ibojuwo ati atunṣe ti paramita bii paramita ion, oṣuwọn sisan gaasi, iwọn otutu, ati sisanra fiimu le jẹ ki o dara julọ fun awọn abajade to dara julọ.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Kẹ̀wàá-24-2024