Tubo del forno in carburo di silicio Tubo del reattore SiC

Tubo del forno in carburo di silicio Tubo del reattore SiC
Carburo di silicio ad elevata purezzatubo reattore in SiCSi tratta di un componente critico per alte temperature, realizzato in carburo di silicio (SiC) ad altissima purezza, specificamente progettato per ambienti di processo esigenti come quelli dei semiconduttori e del fotovoltaico. Sfruttando i vantaggi intrinseci del carburo di silicio (resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione ed elevata conduttività termica), questi componenti sono diventati un materiale di consumo fondamentale nella produzione avanzata, in sostituzione dei tradizionali tubi al quarzo o metallici.
VET Energy è specializzata nella progettazione e produzione di tubi in carburo di silicio (SiC) per applicazioni a semiconduttore ad alta temperatura e corrosive. Grazie a impianti di produzione all'avanguardia.
Grazie alle nostre tecnologie proprietarie di CVD e sinterizzazione, forniamo tubi che offrono un'eccellente stabilità termica, resistenza all'ossidazione e una lunga durata.

Vantaggi dei tubi in SiC di VET Energy:

Purezza ultraelevata:Prodotto mediante uno speciale processo di sinterizzazione, le impurità metalliche nocive (come Na, K, Fe e Al) vengono ridotte al livello di ppb.
Emissioni di gas estremamente basse:In ambienti ad alta temperatura e alto vuoto, il degassamento è di gran lunga inferiore a quello del quarzo, prevenendo efficacemente la contaminazione della camera di processo, garantendo la qualità intrinseca dei film sottili depositati o della crescita cristallina e migliorando significativamente la resa del prodotto (aspetto particolarmente critico per l'epitassia del SiC, la crescita del GaN e la produzione di silicio monocristallino di fascia alta).
Stabilità alle alte temperature:Sono possibili temperature di esercizio a lungo termine superiori a 1600 °C (ben al di sopra del punto di rammollimento del quarzo, pari a circa 1200 °C), e temperature a breve termine possono sopportare valori ancora più elevati (come 1800 °C), soddisfacendo i requisiti di altissima temperatura dei semiconduttori di terza generazione e dei processi di crescita dei cristalli.
Resistenza alla corrosione chimica:Altamente resistente a gas altamente corrosivi come HCl, Cl₂ e HF, nonché a silicio fuso e vapori metallici, mantiene l'integrità strutturale e la finitura superficiale in atmosfere complesse come CVD, diffusione, ossidazione e incisione, con una durata di vita di gran lunga superiore a quella dei tubi di quarzo per forni.
Eccellente conducibilità termica:La sua conduttività termica è decine di volte superiore a quella del quarzo, consentendo una distribuzione della temperatura del forno più rapida e uniforme e migliorando l'uniformità e la ripetibilità del processo. Ciò è particolarmente importante per la lavorazione di grandi superfici e di più wafer (ad esempio, forni a diffusione fotovoltaica e reattori MOCVD).
Stabilità dimensionale:Il suo coefficiente di dilatazione termica estremamente basso garantisce che il tubo del forno mantenga una geometria altamente stabile anche se sottoposto a ripetute e drastiche fluttuazioni di temperatura, prevenendo cedimenti della tenuta o concentrazioni di stress causate dalla dilatazione e contrazione termica.
Durata:La sua elevata durezza e resistenza conferiscono al tubo del forno eccellenti proprietà meccaniche, rendendolo resistente a deformazioni e danni.