În ultimii ani, aplicarea materialelor SiC în industria semiconductorilor a crescut treptat, în special în electronica de putere, dispozitivele optoelectronice și echipamentele de înaltă frecvență, unde aplicarea lor a devenit din ce în ce mai răspândită. SiC, cu duritatea sa extrem de mare, stabilitatea termică excelentă și proprietățile electrice bune, a devenit o alternativă importantă la materialele de siliciu (Si) în industrie. Cu toate acestea, pentru a obține o producție eficientă și de înaltă calitate a dispozitivelor SiC, pe lângă cerințele stricte pentru procesul de fabricație a napolitanelor SiC, nici tehnologia de suport pentru napolitane nu poate fi ignorată. În acest proces, rolul suportului de napolitană SiC devine deosebit de important.
A Suport pentru napolitane SiCeste un dispozitiv special conceput pentru susținerea și fixarea napolitanelor de SiC. Napolitanele trebuie să treacă prin mai multe procese în procesul de fabricație a semiconductorilor, inclusiv depunere chimică în fază de vapori (CVD), depunere de peliculă subțire, fotolitografie, gravare etc. Toate aceste procese necesită o poziționare precisă și o susținere stabilă a napolitanelor. Suportul pentru napolitane de SiC este conceput cu precizie pentru a oferi o susținere stabilă, asigurându-se că napolitanele nu se deplasează, nu se îndoaie sau nu se deformează în timpul acestor procese. Datorită durității extrem de mari și rezistenței la temperaturi ridicate a materialului SiC, suporturile pentru napolitane de SiC sunt de obicei fabricate din materiale cu rezistență ridicată la temperaturi și coroziune și trebuie să aibă o bună conductivitate termică și stabilitate chimică.
În procesul de fabricație a semiconductorilor, napolitanele de SiC trebuie de obicei procesate într-un mediu cu temperatură și presiune ridicată. În aceste condiții de proces, napolitanele sunt predispuse la influența impacturilor fizice externe, a expansiunii termice și a altor factori, ceea ce duce la deformare, zgârieturi sau contaminarea napolitanelor. Rolul suportului de napolitană de SiC este tocmai de a preveni apariția acestor probleme, oferind o forță de susținere puternică și stabilă.
Aplicație
- CVD (Depunere chimică din vapori): În procesul CVD, se poate oferi un suport precis pentru poziționarea plachetei, asigurând depunerea uniformă a peliculei în atmosferă.
- Litografie și gravare: Poate asigura alinierea precisă a plachetei, evita modelele offset și asimetrice și garantează acuratețea efectului de gravare.
- PVD: În procese precum PVD și pulverizare, este necesar să se ofere un suport bun și, de asemenea, să se poată rezista la impactul particulelor de înaltă energie pentru a menține o performanță stabilă.
- Testare și ambalare: În timpul testării și ambalării dispozitivelor semiconductoare, în special în testarea dispozitivelor de înaltă frecvență și putere mare, este necesar un sistem de asistență extrem de precis.
Data publicării: 08 august 2025