Hver er mikilvægasta stuðningstæknin fyrir hálfleiðara

Á undanförnum árum hefur notkun SiC efna í hálfleiðaraiðnaðinum smám saman aukist, sérstaklega í aflrafmagnsrafmagnstækjum, ljósleiðaratækjum og hátíðnibúnaði, þar sem notkun þeirra hefur orðið sífellt útbreiddari. SiC, með afar mikilli hörku, framúrskarandi hitastöðugleika og góðum rafmagnseiginleikum, hefur orðið mikilvægur valkostur við kísill (Si) efni í iðnaði. Hins vegar, til að ná fram skilvirkri og hágæða framleiðslu á SiC tækjum, auk þess að hafa strangar kröfur um framleiðsluferli SiC skífa, er ekki heldur hægt að hunsa skífustuðningstæknina. Í þessu ferli verður hlutverk SiC skífuhaldarans sérstaklega mikilvægt.

A SiC skífuhaldarier tæki sem er sérstaklega hannað til að styðja og festa SiC-skífur. Skífur þurfa að fara í gegnum margar aðferðir í framleiðsluferlinu á hálfleiðurum, þar á meðal efnafræðilega gufuútfellingu (CVD), þunnfilmuútfellingu, ljósritun, etsun o.s.frv. Öll þessi ferli krefjast nákvæmrar staðsetningar og stöðugs stuðnings skífanna. SiC-skífuhaldarinn er nákvæmlega hannaður til að veita stöðugan stuðning, sem tryggir að skífurnar færist ekki til, beygist eða afmyndist við þessi ferli. Vegna afar mikillar hörku og háhitaþols SiC-efnisins eru SiC-skífuhaldarar venjulega úr efnum með háa hitaþol og tæringarþol og þurfa að hafa góða varmaleiðni og efnafræðilegan stöðugleika.

Í framleiðsluferli hálfleiðara þarf venjulega að vinna SiC-skífur í umhverfi með miklum hita og miklum þrýstingi. Við þessar aðstæður eru skífur viðkvæmar fyrir áhrifum utanaðkomandi líkamlegra áhrifa, varmaþenslu og annarra þátta, sem leiðir til aflögunar, rispa eða mengunar á skífunum. Hlutverk SiC-skífuhaldarans er einmitt að koma í veg fyrir þessi vandamál með því að veita sterkan og stöðugan stuðningskraft.

Umsókn

• CVD (efnafræðileg gufuútfelling): Í CVD ferlinu getur það veitt nákvæma staðsetningarstuðning fyrir skífuna og tryggt jafna útfellingu filmunnar í andrúmsloftinu.
• Litografía og etsun: Það getur tryggt nákvæma röðun á skífunni, forðast offset og ósamhverf mynstur og tryggja nákvæmni etsáhrifanna.
• PVD: Í ferlum eins og PVD og spútrun er nauðsynlegt að veita góðan stuðning og einnig að geta þolað áhrif orkuríkra agna til að viðhalda stöðugri afköstum.
• Prófun og pökkun: Við prófanir og pökkun á hálfleiðurum, sérstaklega við prófanir á hátíðni- og aflmiklum tækjum, er krafist afar nákvæms stuðningskerfis.