G5 G10 க்கான TaC பூச்சுடன் கூடிய வேஃபர் சசெப்டர்

VET எனர்ஜியின் சுயாதீனமாக உருவாக்கப்பட்ட CVD டான்டலம் கார்பைடு (TaC) பூச்சு வேஃபர் சஸ்செப்டர், குறைக்கடத்தி உற்பத்தி, LED எபிடாக்சியல் வேஃபர் வளர்ச்சி (MOCVD), படிக வளர்ச்சி உலை, உயர் வெப்பநிலை வெற்றிட வெப்ப சிகிச்சை போன்ற கடுமையான வேலை நிலைமைகளுக்காக வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளது. வேதியியல் நீராவி படிவு (CVD) தொழில்நுட்பத்தின் மூலம், கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறின் மேற்பரப்பில் ஒரு அடர்த்தியான மற்றும் சீரான டான்டலம் கார்பைடு பூச்சு உருவாகிறது, இது தட்டுக்கு மிக உயர்ந்த வெப்பநிலை நிலைத்தன்மையை (>3000℃), உருகிய உலோக அரிப்புக்கு எதிர்ப்பு, வெப்ப அதிர்ச்சி எதிர்ப்பு மற்றும் குறைந்த மாசு பண்புகளை வழங்குகிறது, இது சேவை வாழ்க்கையை கணிசமாக நீட்டிக்கிறது.

எங்கள் தொழில்நுட்ப நன்மைகள்:
1. மிக உயர்ந்த வெப்பநிலை நிலைத்தன்மை.
3880°C உருகுநிலை: டான்டலம் கார்பைடு பூச்சு 2500°C க்கு மேல் தொடர்ச்சியாகவும் நிலையாகவும் செயல்பட முடியும், இது வழக்கமான சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) பூச்சுகளின் 1200-1400°C சிதைவு வெப்பநிலையை விட மிக அதிகம்.
வெப்ப அதிர்ச்சி எதிர்ப்பு: பூச்சுகளின் வெப்ப விரிவாக்க குணகம் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறின் (6.6×10 -6 /K) வெப்ப விரிவாக்க குணகத்துடன் பொருந்துகிறது, மேலும் விரிசல் அல்லது விழுவதைத் தவிர்க்க 1000°C க்கும் அதிகமான வெப்பநிலை வேறுபாட்டுடன் விரைவான வெப்பநிலை உயர்வு மற்றும் வீழ்ச்சி சுழற்சிகளைத் தாங்கும்.
உயர் வெப்பநிலை இயந்திர பண்புகள்: பூச்சு கடினத்தன்மை 2000 HK (விக்கர்ஸ் கடினத்தன்மை) மற்றும் மீள் மாடுலஸ் 537 GPa ஐ அடைகிறது, மேலும் இது அதிக வெப்பநிலையிலும் சிறந்த கட்டமைப்பு வலிமையைப் பராமரிக்கிறது.

2. செயல்முறை தூய்மையை உறுதி செய்ய மிகவும் அரிப்பை எதிர்க்கும்.
சிறந்த எதிர்ப்பு: இது H₂, NH₃, SiH₄, HCl போன்ற அரிக்கும் வாயுக்கள் மற்றும் உருகிய உலோகங்கள் (எ.கா. Si, Ga) ஆகியவற்றிற்கு சிறந்த எதிர்ப்பைக் கொண்டுள்ளது, கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறை வினைத்திறன் சூழலில் இருந்து முழுமையாக தனிமைப்படுத்தி கார்பன் மாசுபாட்டைத் தவிர்க்கிறது.
குறைந்த அசுத்த இடம்பெயர்வு: மிக உயர்ந்த தூய்மை, நைட்ரஜன், ஆக்ஸிஜன் மற்றும் பிற அசுத்தங்கள் படிக அல்லது எபிடாக்சியல் அடுக்குக்கு இடம்பெயர்வதை திறம்பட தடுக்கிறது, நுண்குழாய்களின் குறைபாடு விகிதத்தை 50% க்கும் அதிகமாக குறைக்கிறது.

3. செயல்முறை நிலைத்தன்மையை மேம்படுத்த நானோ-நிலை துல்லியம்
பூச்சு சீரான தன்மை: தடிமன் சகிப்புத்தன்மை≤±5%, மேற்பரப்பு தட்டையானது நானோமீட்டர் அளவை அடைகிறது, செதில் அல்லது படிக வளர்ச்சி அளவுருக்களின் உயர் நிலைத்தன்மையை உறுதி செய்கிறது, வெப்ப சீரான தன்மை பிழை<1%.
பரிமாண துல்லியம்: ±0.05மிமீ சகிப்புத்தன்மை தனிப்பயனாக்கத்தை ஆதரிக்கிறது, 4-இன்ச் முதல் 12-இன்ச் செதில்களுக்கு ஏற்றவாறு மாற்றியமைக்கிறது மற்றும் உயர்-துல்லிய உபகரண இடைமுகங்களின் தேவைகளைப் பூர்த்தி செய்கிறது.

4. நீடித்து உழைக்கும் தன்மை மற்றும் நீடித்து உழைக்கும் தன்மை, ஒட்டுமொத்த செலவுகளைக் குறைத்தல்
பிணைப்பு வலிமை: பூச்சுக்கும் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுக்கும் இடையிலான பிணைப்பு வலிமை ≥5 MPa ஆகும், அரிப்பு மற்றும் தேய்மானத்தை எதிர்க்கும், மேலும் சேவை வாழ்க்கை 3 மடங்குக்கும் அதிகமாக நீட்டிக்கப்படுகிறது.

இயந்திர இணக்கத்தன்மை
CVD, MOCVD, ALD, LPE போன்ற முக்கிய எபிடாக்சியல் மற்றும் படிக வளர்ச்சி உபகரணங்களுக்கு ஏற்றது, இது SiC படிக வளர்ச்சி (PVT முறை), GaN எபிடாக்ஸி, AlN அடி மூலக்கூறு தயாரிப்பு மற்றும் பிற காட்சிகளை உள்ளடக்கியது.
தட்டையான, குழிவான, குவிந்த போன்ற பல்வேறு சஸ்பெப்டர் வடிவங்களை நாங்கள் வழங்குகிறோம். தடிமன் (5-50 மிமீ) மற்றும் பொருத்துதல் துளை அமைப்பை குழி கட்டமைப்பிற்கு ஏற்ப சரிசெய்யலாம், இதனால் உபகரணங்களுடன் தடையற்ற இணக்கத்தன்மையை அடைய முடியும்.

முக்கிய பயன்பாடுகள்:
SiC படிக வளர்ச்சி: PVT முறையில், பூச்சு வெப்ப புல விநியோகத்தை மேம்படுத்தலாம், விளிம்பு குறைபாடுகளைக் குறைக்கலாம் மற்றும் படிகத்தின் பயனுள்ள வளர்ச்சிப் பகுதியை 95% க்கும் அதிகமாக அதிகரிக்கலாம்.
GaN எபிடாக்ஸி: MOCVD செயல்பாட்டில், சஸ்பெப்டர் வெப்ப சீரான தன்மை பிழை <1% ஆகும், மேலும் எபிடாக்சியல் அடுக்கு தடிமன் நிலைத்தன்மை ±2% ஐ அடைகிறது.
AlN அடி மூலக்கூறு தயாரிப்பு: அதிக வெப்பநிலை (>2000°C) அமினேஷன் வினையில், TaC பூச்சு கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறை முழுமையாக தனிமைப்படுத்தி, கார்பன் மாசுபாட்டைத் தவிர்க்கவும், AlN படிகத்தின் தூய்மையை மேம்படுத்தவும் முடியும்.