การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์คืออะไร

การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์นั้นเรียกกันทั่วไปว่า การเคลือบด้วยไอเคมี (CVD) การเคลือบด้วยไอเคมี (PVD) หรือการพ่นด้วยความร้อน การเคลือบเซรามิกซิลิกอนคาร์ไบด์นี้ช่วยเพิ่มคุณสมบัติพื้นผิวของวัสดุพิมพ์ต่างๆ โดยให้ความทนทานต่อการสึกหรอ ความเสถียรทางความร้อน และการป้องกันการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยม ซิลิกอนคาร์ไบด์เป็นที่รู้จักในด้านคุณสมบัติทางกายภาพและทางเคมีที่โดดเด่น รวมถึงจุดหลอมเหลวที่สูง (ประมาณ 2,700 ℃) ความแข็งเป็นพิเศษ (ระดับโมห์ส 9) ทนต่อการกัดกร่อนและออกซิเดชันได้ดีเยี่ยม และประสิทธิภาพการสึกกร่อนที่ยอดเยี่ยม

ประโยชน์หลักของการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ในการใช้งานอุตสาหกรรม

เนื่องจากคุณสมบัติเหล่านี้ การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์จึงถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในสาขาต่างๆ เช่น อวกาศ อุปกรณ์อาวุธ และการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์ ในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง โดยเฉพาะในช่วงอุณหภูมิ 1,800-2,000 องศาเซลเซียส การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์จะแสดงให้เห็นถึงความเสถียรทางความร้อนและความต้านทานการสึกกร่อนที่โดดเด่น ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานที่อุณหภูมิสูง อย่างไรก็ตาม ซิลิกอนคาร์ไบด์เพียงอย่างเดียวยังขาดความสมบูรณ์ของโครงสร้างที่จำเป็นสำหรับการใช้งานหลายประเภท ดังนั้นจึงมีการใช้วิธีการเคลือบเพื่อใช้ประโยชน์จากคุณสมบัติเฉพาะตัวของซิลิกอนคาร์ไบด์โดยไม่กระทบต่อความแข็งแรงของส่วนประกอบ ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ องค์ประกอบที่เคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ให้การปกป้องที่เชื่อถือได้และความเสถียรของประสิทธิภาพภายในอุปกรณ์ที่ใช้ในกระบวนการ MOCVD

วิธีการทั่วไปสำหรับการเตรียมการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์

Ⅰ● การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ด้วยไอเคมี (CVD)

วิธีนี้จะสร้างชั้นเคลือบ SiC โดยการวางสารตั้งต้นไว้ในห้องปฏิกิริยา ซึ่งเมทิลไตรคลอโรซิเลน (MTS) จะทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้น ภายใต้สภาวะที่ควบคุมได้ ซึ่งโดยทั่วไปคือ 950-1300°C และแรงดันลบ MTS จะสลายตัว และซิลิกอนคาร์ไบด์จะถูกสะสมบนพื้นผิว กระบวนการเคลือบ SiC แบบ CVD นี้ช่วยให้ได้ชั้นเคลือบที่หนาแน่นและสม่ำเสมอพร้อมการยึดเกาะที่ยอดเยี่ยม เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานที่มีความแม่นยำสูงในภาคส่วนเซมิคอนดักเตอร์และการบินและอวกาศ

Ⅱ● วิธีการแปลงสารตั้งต้น (การชุบสารโพลีเมอร์และไพโรไลซิส – PIP)

วิธีการพ่นเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ที่มีประสิทธิภาพอีกวิธีหนึ่งคือวิธีการแปลงสารตั้งต้น ซึ่งเกี่ยวข้องกับการจุ่มตัวอย่างที่ผ่านการบำบัดล่วงหน้าในสารละลายสารตั้งต้นเซรามิก หลังจากทำการดูดสูญญากาศในถังชุบและเพิ่มแรงดันให้กับสารเคลือบ ตัวอย่างจะถูกให้ความร้อน ทำให้เกิดการก่อตัวของสารเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์เมื่อเย็นตัวลง วิธีนี้เป็นที่นิยมสำหรับส่วนประกอบที่ต้องการความหนาของสารเคลือบที่สม่ำเสมอและทนต่อการสึกหรอได้ดี

คุณสมบัติทางกายภาพของการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์

สารเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์มีคุณสมบัติที่เหมาะสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรมที่ต้องใช้ความแม่นยำสูง คุณสมบัติเหล่านี้ได้แก่:

ค่าการนำความร้อน: 120-270 W/m·K
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน : 4.3 × 10^^(-6)/K (ที่ 20~800℃)
ค่าความต้านทานไฟฟ้า: 10^⁵– 10^⁶Ω·ซม.
ความแข็ง: ระดับโมห์ส 9

การประยุกต์ใช้การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์

ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์สำหรับ MOCVD และกระบวนการอุณหภูมิสูงอื่นๆ ช่วยปกป้องอุปกรณ์ที่สำคัญ เช่น เครื่องปฏิกรณ์และตัวรับ โดยให้ทั้งความทนทานต่ออุณหภูมิสูงและความเสถียร ในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศและการป้องกันประเทศ การเคลือบเซรามิกซิลิกอนคาร์ไบด์ใช้กับส่วนประกอบที่ต้องทนต่อแรงกระแทกความเร็วสูงและสภาพแวดล้อมที่กัดกร่อน นอกจากนี้ สีหรือการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ยังสามารถใช้กับอุปกรณ์ทางการแพทย์ที่ต้องการความทนทานภายใต้ขั้นตอนการทำให้ปราศจากเชื้อได้อีกด้วย

เหตุใดจึงควรเลือกการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์?

ด้วยประวัติที่พิสูจน์แล้วในการยืดอายุการใช้งานของส่วนประกอบ การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์จึงให้ความทนทานและความเสถียรของอุณหภูมิที่ไม่มีใครเทียบได้ ทำให้คุ้มต้นทุนสำหรับการใช้งานในระยะยาว ด้วยการเลือกใช้พื้นผิวเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ อุตสาหกรรมต่างๆ จะได้รับประโยชน์จากต้นทุนการบำรุงรักษาที่ลดลง ความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์ที่เพิ่มขึ้น และประสิทธิภาพการทำงานที่ดีขึ้น

เหตุใดจึงควรเลือก VET ENERGY?

VET ENERGY เป็นผู้ผลิตและโรงงานมืออาชีพด้านผลิตภัณฑ์เคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ในประเทศจีน ผลิตภัณฑ์เคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์หลัก ได้แก่ เครื่องทำความร้อนเคลือบเซรามิกซิลิกอนคาร์ไบด์การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ CVD ตัวรับ MOCVD, ตัวพากราไฟต์ MOCVD ที่มีการเคลือบ CVD SiC, ตัวพาฐานกราไฟท์เคลือบ SiC, กราไฟท์เคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์สำหรับเซมิคอนดักเตอร์การเคลือบ SiC/พื้นผิวเคลือบกราไฟท์/ถาดสำหรับเซมิคอนดักเตอร์, แม่พิมพ์เรือ CFC คอมโพสิตคาร์บอน-คาร์บอนเคลือบ CVD SiCVET ENERGY มุ่งมั่นที่จะนำเสนอเทคโนโลยีขั้นสูงและโซลูชันผลิตภัณฑ์สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เราหวังเป็นอย่างยิ่งว่าจะได้เป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน