रासायनिक बाष्प निक्षेपण (CVD) पातळ थर निक्षेपण तंत्रज्ञानाचा परिचय

केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (CVD) हे एक महत्त्वाचे थिन फिल्म डिपॉझिशन तंत्रज्ञान आहे, जे अनेकदा विविध फंक्शनल फिल्म्स आणि थिन-लेयर मटेरियल्स तयार करण्यासाठी वापरले जाते आणि सेमीकंडक्टर उत्पादन व इतर क्षेत्रांमध्ये याचा मोठ्या प्रमाणावर वापर होतो.

0

 

१. सीव्हीडीचे कार्यतत्त्व

सीव्हीडी (CVD) प्रक्रियेमध्ये, एक गॅस प्रीकर्सर (एक किंवा अधिक वायुरूप प्रीकर्सर संयुगे) सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागाच्या संपर्कात आणला जातो आणि एका विशिष्ट तापमानापर्यंत गरम केला जातो, ज्यामुळे रासायनिक अभिक्रिया घडून सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर इच्छित फिल्म किंवा कोटिंगचा थर तयार होतो. या रासायनिक अभिक्रियेचे उत्पादन एक घन पदार्थ असतो, जो सामान्यतः इच्छित पदार्थाचे संयुग असतो. जर आपल्याला सिलिकॉनला पृष्ठभागावर चिकटवायचे असेल, तर आपण प्रीकर्सर गॅस म्हणून ट्रायक्लोरोसिलिन (SiHCl3) वापरू शकतो: SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl. सिलिकॉन कोणत्याही उघड्या पृष्ठभागाला (आतील आणि बाहेरील दोन्ही) चिकटेल, आणि त्याचवेळी क्लोरीन व हायड्रोक्लोरिक ऍसिड वायू चेंबरमधून बाहेर टाकले जातील.

 

२. हृदयरोग वर्गीकरण

थर्मल सीव्हीडी: प्रीकर्सर वायूला उष्णता देऊन त्याचे विघटन केले जाते आणि सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर त्याचे निक्षेपण केले जाते. प्लाझ्मा एनहान्स्ड सीव्हीडी (पीईसीव्हीडी): अभिक्रियेचा वेग वाढवण्यासाठी आणि निक्षेपण प्रक्रियेवर नियंत्रण ठेवण्यासाठी थर्मल सीव्हीडीमध्ये प्लाझ्मा मिसळला जातो. मेटल ऑरगॅनिक सीव्हीडी (एमओसीव्हीडी): प्रीकर्सर वायू म्हणून मेटल ऑरगॅनिक संयुगे वापरून, धातू आणि सेमीकंडक्टरचे पातळ थर तयार केले जाऊ शकतात, आणि हे थर अनेकदा एलईडीसारख्या उपकरणांच्या निर्मितीमध्ये वापरले जातात.

 

३. अर्ज


(1) सेमीकंडक्टर उत्पादन

सिलिसाइड फिल्म: इन्सुलेटिंग थर, सबस्ट्रेट, आयसोलेशन थर इत्यादी तयार करण्यासाठी वापरली जाते. नायट्राइड फिल्म: सिलिकॉन नायट्राइड, ॲल्युमिनियम नायट्राइड इत्यादी तयार करण्यासाठी वापरली जाते, जी एलईडी, पॉवर डिव्हाइसेस इत्यादींमध्ये वापरली जाते. मेटल फिल्म: प्रवाहकीय थर, मेटॅलाइज्ड थर इत्यादी तयार करण्यासाठी वापरली जाते.

 

(2) डिस्प्ले तंत्रज्ञान

आयटीओ फिल्म: पारदर्शक प्रवाहकीय ऑक्साइड फिल्म, सामान्यतः फ्लॅट पॅनल डिस्प्ले आणि टच स्क्रीनमध्ये वापरली जाते. कॉपर फिल्म: डिस्प्ले उपकरणांची कार्यक्षमता सुधारण्यासाठी पॅकेजिंग थर, प्रवाहकीय रेषा इत्यादी तयार करण्यासाठी वापरली जाते.

 

(3) इतर क्षेत्रे

ऑप्टिकल कोटिंग्ज: यामध्ये अँटी-रिफ्लेक्टिव्ह कोटिंग्ज, ऑप्टिकल फिल्टर्स इत्यादींचा समावेश होतो. अँटी-कॉरोशन कोटिंग: याचा उपयोग ऑटोमोटिव्ह पार्ट्स, एरोस्पेस उपकरणे इत्यादींमध्ये होतो.

 

४. सीव्हीडी प्रक्रियेची वैशिष्ट्ये

प्रतिक्रियेचा वेग वाढवण्यासाठी उच्च तापमानाच्या वातावरणाचा वापर करा. सामान्यतः निर्वात वातावरणात केले जाते. रंग देण्यापूर्वी भागाच्या पृष्ठभागावरील अशुद्धी काढून टाकणे आवश्यक आहे. या प्रक्रियेमध्ये लेप लावता येणाऱ्या सब्सट्रेट्सवर मर्यादा असू शकतात, उदा. तापमान मर्यादा किंवा प्रतिक्रियाशीलतेच्या मर्यादा. सीव्हीडी कोटिंग भागाचे सर्व भाग, ज्यात थ्रेड्स, ब्लाइंड होल्स आणि अंतर्गत पृष्ठभाग यांचा समावेश आहे, व्यापेल. विशिष्ट लक्ष्यित भागांना मास्क करण्याच्या क्षमतेवर मर्यादा येऊ शकते. फिल्मची जाडी प्रक्रिया आणि सामग्रीच्या स्थितीनुसार मर्यादित असते. उत्कृष्ट आसंजन.

 

५. सीव्हीडी तंत्रज्ञानाचे फायदे

एकसमानता: मोठ्या क्षेत्राच्या सब्सट्रेटवर एकसमान निक्षेपण साध्य करण्यास सक्षम.

0

नियंत्रणक्षमता: पूर्वसूचक वायूचा प्रवाह दर आणि तापमान नियंत्रित करून निक्षेपण दर आणि फिल्मचे गुणधर्म समायोजित केले जाऊ शकतात.

बहुउपयोगिता: धातू, सेमीकंडक्टर, ऑक्साईड इत्यादी विविध पदार्थांच्या निक्षेपणासाठी उपयुक्त.


पोस्ट करण्याची वेळ: मे-०६-२०२४
व्हॉट्सॲपवर ऑनलाइन चॅट!