কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন (CVD) একটি গুরুত্বপূর্ণ থিন ফিল্ম ডিপোজিশন প্রযুক্তি, যা প্রায়শই বিভিন্ন কার্যকরী ফিল্ম ও পাতলা স্তরের উপাদান প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয় এবং সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদনসহ অন্যান্য ক্ষেত্রে এর ব্যাপক ব্যবহার রয়েছে।
১. সিভিডির কার্যপ্রণালী
CVD প্রক্রিয়ায়, একটি গ্যাসীয় প্রিকার্সর (এক বা একাধিক গ্যাসীয় প্রিকার্সর যৌগ) সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠের সংস্পর্শে আনা হয় এবং একটি নির্দিষ্ট তাপমাত্রায় উত্তপ্ত করা হয়, যার ফলে রাসায়নিক বিক্রিয়া ঘটে এবং সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠে জমা হয়ে কাঙ্ক্ষিত ফিল্ম বা আবরণের স্তর তৈরি হয়। এই রাসায়নিক বিক্রিয়ার ফল হলো একটি কঠিন পদার্থ, যা সাধারণত কাঙ্ক্ষিত উপাদানের একটি যৌগ। যদি আমরা কোনো পৃষ্ঠে সিলিকন লাগাতে চাই, তাহলে আমরা প্রিকার্সর গ্যাস হিসেবে ট্রাইক্লোরোসিলেন (SiHCl3) ব্যবহার করতে পারি: SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl। সিলিকন যেকোনো উন্মুক্ত পৃষ্ঠে (অভ্যন্তরীণ এবং বাহ্যিক উভয়ই) লেগে যাবে, এবং ক্লোরিন ও হাইড্রোক্লোরিক অ্যাসিড গ্যাস চেম্বার থেকে নির্গত হবে।
২. সিভিডির শ্রেণিবিন্যাস
থার্মাল সিভিডি: প্রিকার্সর গ্যাসকে উত্তপ্ত করে বিয়োজিত করা হয় এবং সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে জমা করা হয়। প্লাজমা এনহ্যান্সড সিভিডি (পিইসিভিডি): বিক্রিয়ার হার বাড়াতে এবং জমা হওয়ার প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণ করতে থার্মাল সিভিডিতে প্লাজমা যোগ করা হয়। মেটাল অর্গানিক সিভিডি (এমওসিভিডি): প্রিকার্সর গ্যাস হিসেবে মেটাল অর্গানিক যৌগ ব্যবহার করে ধাতু এবং সেমিকন্ডাক্টরের পাতলা ফিল্ম তৈরি করা যায়, এবং এগুলো প্রায়শই এলইডি-র মতো ডিভাইস তৈরিতে ব্যবহৃত হয়।
৩. আবেদন
(1) সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন
সিলিসাইড ফিল্ম: অন্তরক স্তর, সাবস্ট্রেট, বিচ্ছিন্নকরণ স্তর ইত্যাদি প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয়। নাইট্রাইড ফিল্ম: সিলিকন নাইট্রাইড, অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড ইত্যাদি প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয়, যা এলইডি, পাওয়ার ডিভাইস ইত্যাদিতে ব্যবহৃত হয়। মেটাল ফিল্ম: পরিবাহী স্তর, ধাতব স্তর ইত্যাদি প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয়।
(2) প্রদর্শন প্রযুক্তি
আইটিও ফিল্ম: স্বচ্ছ পরিবাহী অক্সাইড ফিল্ম, যা সাধারণত ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে এবং টাচ স্ক্রিনে ব্যবহৃত হয়। কপার ফিল্ম: ডিসপ্লে ডিভাইসের কর্মক্ষমতা উন্নত করার জন্য প্যাকেজিং স্তর, পরিবাহী লাইন ইত্যাদি প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয়।
(3) অন্যান্য ক্ষেত্র
অপটিক্যাল কোটিং: এর মধ্যে রয়েছে অ্যান্টি-রিফ্লেক্টিভ কোটিং, অপটিক্যাল ফিল্টার ইত্যাদি। অ্যান্টি-করোশন কোটিং: যা মোটরগাড়ির যন্ত্রাংশ, মহাকাশযান যন্ত্রপাতি ইত্যাদিতে ব্যবহৃত হয়।
৪. সিভিডি প্রক্রিয়ার বৈশিষ্ট্য
বিক্রিয়ার গতি বাড়াতে উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশ ব্যবহার করা হয়। সাধারণত একটি ভ্যাকুয়াম পরিবেশে এটি করা হয়। পেইন্টিং করার আগে যন্ত্রাংশের পৃষ্ঠের দূষক অবশ্যই অপসারণ করতে হবে। যে সকল সাবস্ট্রেটে কোটিং করা যায়, সেগুলোর ক্ষেত্রে এই প্রক্রিয়ার সীমাবদ্ধতা থাকতে পারে, যেমন তাপমাত্রার সীমাবদ্ধতা বা বিক্রিয়াশীলতার সীমাবদ্ধতা। সিভিডি কোটিং যন্ত্রাংশের সমস্ত অংশ, যার মধ্যে থ্রেড, ব্লাইন্ড হোল এবং অভ্যন্তরীণ পৃষ্ঠ অন্তর্ভুক্ত, আবৃত করবে। এটি নির্দিষ্ট লক্ষ্য এলাকা মাস্ক করার ক্ষমতাকে সীমিত করতে পারে। ফিল্মের পুরুত্ব প্রক্রিয়া এবং উপাদানের অবস্থার দ্বারা সীমিত থাকে। এর আনুগত্য ক্ষমতা উৎকৃষ্ট।
৫. সিভিডি প্রযুক্তির সুবিধাসমূহ
সমরূপতা: বৃহৎ ক্ষেত্রফল বিশিষ্ট সাবস্ট্রেটের উপর সমরূপ প্রলেপ প্রদানে সক্ষম।
নিয়ন্ত্রণযোগ্যতা: প্রিকার্সর গ্যাসের প্রবাহ হার এবং তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণের মাধ্যমে অবক্ষেপণের হার ও ফিল্মের বৈশিষ্ট্যসমূহ সমন্বয় করা যায়।
বহুমুখীতা: ধাতু, অর্ধপরিবাহী, অক্সাইড ইত্যাদির মতো বিভিন্ন ধরণের উপাদানের প্রলেপ দেওয়ার জন্য উপযুক্ত।
পোস্ট করার সময়: মে-০৬-২০২৪