ایس آئی سی ایپیٹیکسیل حصے

SiC ایپیٹیکسیل گروتھ کے لیے اعلی درجے کی CVD کوٹنگز

انتہائی تھرمل تناؤ (1500°C - 1700°C) کے تحت کام کرنے والے ہائی پاور سیمی کنڈکٹر ڈیوائس کے عمل کے لیے تیار کردہ، ہمارے CVD SiC اور TaC کوٹڈ سیاروں کے سسپٹرز، سیٹلائٹ ڈسک، اور گیس ڈیفلیکٹرز کو ایکسل کے لیے بنایا گیا ہے۔ ذرات کی پیداوار، سطح کے انحطاط، اور رد عمل والی گیس اینچنگ (H₂, SiH₄, C₃H∯) کو روکنے کے لیے ڈیزائن کیا گیا ہے، ہماری جدید کوٹنگز طویل آپریشنل لائف ٹائم، اعلیٰ ڈوپینٹ کنٹرول، اور فلم کی موٹائی کی اعلیٰ یکسانیت کو یقینی بناتی ہیں۔6 انچ اور 8 انچ SiC ایپیٹیکسیل ویفرز.

انتہائی اعلی درجہ حرارت کا استحکام

شدید H₂/silane کو کم کرنے والے ماحول میں 1700°C تک حرارتی طور پر مستحکم۔

گریڈینٹ CTE میچنگ

تیز رفتار تھرمل سائیکلوں کے دوران کوٹنگ ڈیلامینیشن، مائیکرو کریکنگ اور اسپلنگ کو ختم کرتا ہے۔

8 انچ ویفر اسکیل کی تیاری

اگلی نسل کے ہائی تھرو پٹ SiC Epi ری ایکٹرز (LPE، Aixtron، Nuflare) کے لیے موزوں CNC مشینی۔

تکنیکی پیرامیٹر تفصیلات کی قدر معیاری/ٹیسٹ کا طریقہ
کوٹنگ مواد کے اختیارات CVD SiC / ٹینٹلم کاربائیڈ (TaC) اعلی پاکیزگی ہرمیٹک پرت
بیس سبسٹریٹ پیوریفائیڈ آئسوسٹیٹک گریفائٹ بلک ناپاکی <5 پی پی ایم
تھرمل شاک مزاحمت ڈیلٹا T> 500°C ریمپ کی شرح کوئی کریکنگ / چھیلنا
سطح کی کھردری (Ra) ≤ 0.4 μm (آئینہ پالش) ویفر چپکنے اور ذرات کو روکتا ہے۔
واٹس ایپ آن لائن چیٹ!