Fabricant chinois de suscepteurs d'épitaxie MOCVD en graphite revêtu de SiC

Brève description :

Pureté < 5 ppm
‣ Bonne uniformité du dopage
‣ Haute densité et adhérence
‣ Bonne résistance à la corrosion et au carbone

‣ Personnalisation professionnelle
‣ Délai de livraison court
‣ Approvisionnement stable
‣ Contrôle qualité et amélioration continue

Épitaxie de GaN sur saphir(RVB/Mini/Micro LED) ;
Épitaxie de GaN sur substrat Si(UVC);
Épitaxie de GaN sur substrat Si(Appareil électronique);
Épitaxie de Si sur substrat de Si(Circuit intégré);
Épitaxie de SiC sur substrat de SiC(Substrat);
Épitaxie d'InP sur InP

 


Détails du produit

Étiquettes de produit

Suscepteur MOCVD de haute qualité, achat en ligne en Chine

Suscepteur MOCVD de haute qualité

Une plaquette doit franchir plusieurs étapes avant d'être prête à être utilisée dans des dispositifs électroniques. L'épitaxie du silicium est un procédé important, qui consiste à déposer les plaquettes sur des suscepteurs en graphite. Les propriétés et la qualité de ces suscepteurs ont un impact crucial sur la qualité de la couche épitaxiale de la plaquette.

Pour les phases de dépôt de couches minces telles que l'épitaxie ou le dépôt mécanique en phase vapeur (MOCVD), VET fournit des équipements en graphite ultra-pur servant de support aux substrats ou « wafers ». Au cœur du procédé, ces équipements, suscepteurs d'épitaxie ou plateformes satellites pour le dépôt mécanique en phase vapeur (MOCVD), sont d'abord soumis à l'environnement de dépôt :

● Haute température.
● Vide poussé.
● Utilisation de précurseurs gazeux agressifs.
● Zéro contamination, absence de pelage.
● Résistance aux acides forts lors des opérations de nettoyage

 

VET Energy est un fabricant de produits sur mesure en graphite et carbure de silicium avec revêtement pour l'industrie des semi-conducteurs et du photovoltaïque. Notre équipe technique, issue des meilleurs instituts de recherche nationaux, peut vous proposer des solutions de matériaux plus professionnelles.

Nous développons continuellement des procédés avancés pour fournir des matériaux plus avancés et avons mis au point une technologie brevetée exclusive, qui peut rendre la liaison entre le revêtement et le substrat plus étroite et moins sujette au détachement.

 

Caractéristiques de nos produits :

1. Résistance à l'oxydation à haute température jusqu'à 1700℃.
2. Haute pureté et uniformité thermique
3. Excellente résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

4. Dureté élevée, surface compacte, particules fines.
5. Durée de vie plus longue et plus durable

maladies cardiovasculaires SiC

Propriétés physiques de base du SiC CVDrevêtement

Propriété

Valeur typique

Structure cristalline

Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111)

Densité

3,21 g/cm³

Dureté

Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g)

granulométrie

2 à 10 μm

Pureté chimique

99,99995%

Capacité thermique

640 J·kg-1·K-1

Température de sublimation

2700℃

Résistance à la flexion

415 MPa RT 4 points

Module de Young

430 Gpa 4pt courbé, 1300℃

Conductivité thermique

300 W·m-1·K-1

Dilatation thermique (CTE)

4,5 × 10-6K-1

DONNÉES SEM DU FILM SIC CVD

Analyse des éléments complets du film CVD SIC

Nous vous invitons chaleureusement à visiter notre usine, discutons-en davantage !

  L'équipe de recherche et développement sur la technologie de revêtement CVD SiC de VET Energy

Équipement de traitement de revêtement CVD SiC de VET Energy

Coopération commerciale de VET Energy


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