Susceptor de Epitaxia MOCVD de Grafite Revestido com SiC do Fabricante Chinês

Descrição curta:

Pureza < 5 ppm
‣ Boa uniformidade de dopagem
‣ Alta densidade e adesão
‣ Boa resistência anticorrosiva e ao carbono

‣ Personalização profissional
‣ Prazo de entrega curto
‣ Fornecimento estável
‣ Controle de qualidade e melhoria contínua

Epitaxia de GaN em Safira(RGB/Mini/Micro LED);
Epitaxia de GaN em substrato de Si(UVC);
Epitaxia de GaN em substrato de Si(Dispositivo Eletrônico);
Epitaxia de Si em substrato de Si(Circuito integrado);
Epitaxia de SiC em substrato de SiC(Substrato);
Epitaxia de InP sobre InP

 


Detalhes do produto

Etiquetas de produtos

Susceptor MOCVD de alta qualidade para compra online na China

Susceptor MOCVD de alta qualidade

Um wafer precisa passar por várias etapas antes de estar pronto para uso em dispositivos eletrônicos. Um processo importante é a epitaxia de silício, na qual os wafers são transportados por susceptores de grafite. As propriedades e a qualidade dos susceptores têm um efeito crucial na qualidade da camada epitaxial do wafer.

Para fases de deposição de filmes finos, como epitaxia ou MOCVD, a VET fornece equipamentos de grafite ultrapura usados ​​para suportar substratos ou "wafers". No centro do processo, esses equipamentos, susceptores de epitaxia ou plataformas satélites para o MOCVD, são primeiramente submetidos ao ambiente de deposição:

● Alta temperatura.
● Alto vácuo.
● Utilização de precursores gasosos agressivos.
● Contaminação zero, ausência de descamação.
● Resistência a ácidos fortes durante as operações de limpeza

 

A VET Energy é a verdadeira fabricante de produtos personalizados de grafite e carboneto de silício com revestimento para a indústria de semicondutores e fotovoltaica. Nossa equipe técnica é formada por instituições de pesquisa nacionais de ponta e pode fornecer soluções de materiais mais profissionais para você.

Desenvolvemos continuamente processos avançados para fornecer materiais mais avançados e desenvolvemos uma tecnologia patenteada exclusiva, que pode tornar a ligação entre o revestimento e o substrato mais firme e menos propensa ao descolamento.

 

Características dos nossos produtos:

1. Resistência à oxidação em altas temperaturas de até 1700℃.
2. Alta pureza e uniformidade térmica
3. Excelente resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.

4. Alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
5. Maior vida útil e maior durabilidade

DCV SiC

Propriedades físicas básicas do SiC CVDrevestimento

Propriedade

Valor típico

Estrutura Cristalina

Fase β policristalina da FCC, principalmente orientação (111)

Densidade

3,21 g/cm³

Dureza

Dureza 2500 Vickers (carga de 500g)

Tamanho do grão

2~10μm

Pureza Química

99,99995%

Capacidade de calor

640 J·kg-1·K-1

Temperatura de sublimação

2700℃

Resistência à flexão

415 MPa RT 4 pontos

Módulo de Young

430 Gpa 4pt curva, 1300℃

Condutividade térmica

300 W·m-1·K-1

Expansão Térmica (CTE)

4,5×10-6K-1

DADOS SEM DO FILME SIC CVD

Análise completa dos elementos do filme CVD SIC

Sejam bem-vindos para visitar nossa fábrica e vamos conversar mais!

  Equipe de P&D de tecnologia de revestimento CVD SiC da VET Energy

Equipamento de processamento de revestimento de SiC CVD da VET Energy

Cooperação empresarial da VET Energy


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