Earst fan alles moatte wy wittePECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Plasma is de fersterking fan 'e termyske beweging fan materiaalmolekulen. De botsing tusken har sil derfoar soargje dat de gasmolekulen ionisearre wurde, en it materiaal sil in mingsel wurde fan frij bewegende positive ioanen, elektroanen en neutrale dieltsjes dy't mei-inoar ynteraksje hawwe.
Der wurdt rûsd dat it refleksjeferlies fan ljocht op it silisiumoerflak sa heech is as sawat 35%. De anty-refleksjefilm kin de gebrûksgraad fan sinneljocht troch de batterijsel sterk ferbetterje, wat helpt om de fotogenerearre stroomtichtens te ferheegjen en sa de konverzje-effisjinsje te ferbetterjen. Tagelyk passivearret de wetterstof yn 'e film it oerflak fan' e batterijsel, ferminderet de oerflakrekombinaasjesnelheid fan 'e emitterferbining, ferminderet de tsjustere stroom, fergruttet de iepen circuitspanning en ferbetteret de fotoelektryske konverzje-effisjinsje. De direkte gloeiing by hege temperatuer yn it trochbaarnproses brekt guon Si-H- en NH3-bannen, en de frijmakke H2 fersterket de passivaasje fan 'e batterij fierder.
Omdat fotovoltaïske silisiummaterialen ûnûntkomber in grutte hoemannichte ûnreinheden en defekten befetsje, wurde de libbensdoer fan 'e minderheidsladingslading en diffúzjelingte yn silisium fermindere, wat resulteart yn in ôfname fan 'e konverzje-effisjinsje fan' e batterij. H₂ kin reagearje mei defekten of ûnreinheden yn silisium, wêrtroch't de enerzjybân yn 'e bângap oerdroegen wurdt nei de valensbân of geliedingsbân.
1. PECVD-prinsipe
It PECVD-systeem is in searje generators dy't gebrûk meitsje fanPECVD grafytboat en hege-frekwinsje plasma-eksiters. De plasmagenerator is direkt yn 'e midden fan' e coatingplaat ynstalleare om te reagearjen ûnder lege druk en ferhege temperatuer. De brûkte aktive gassen binne silaan SiH4 en ammoniak NH3. Dizze gassen wurkje yn op it silisiumnitride dat opslein is op 'e silisiumwafer. Ferskillende brekkingsyndeksen kinne wurde krigen troch de ferhâlding fan silaan ta ammoniak te feroarjen. Tidens it ôfsettingsproses wurdt in grutte hoemannichte wetterstofatomen en wetterstofionen generearre, wêrtroch't de wetterstofpassivaasje fan 'e wafer tige goed is. Yn in fakuüm en in omjouwingstemperatuer fan 480 graden Celsius wurdt in laach SixNy op it oerflak fan 'e silisiumwafer oanbrocht troch de ...PECVD grafytboat.
3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2
2. Si3N4
De kleur fan Si3N4-film feroaret mei de dikte. Yn 't algemien leit de ideale dikte tusken 75 en 80 nm, wat donkerblau liket. De brekingsyndeks fan Si3N4-film leit it bêste tusken 2.0 en 2.5. Alkohol wurdt meast brûkt om de brekingsyndeks te mjitten.
Uitstekend oerflakpassivaasje-effekt, effisjinte optyske anty-refleksjeprestaasjes (dikte-brekingsindeksoerienkomst), leechtemperatuerproses (effektyf kostenreduksje), en de generearre H2-ionen passivearje it oerflak fan it silisiumwafer.
3. Algemiene saken yn in coatingworkshop
Filmdikte:
De ôfsettingstiid is oars foar ferskillende filmdikten. De ôfsettingstiid moat passend ferhege of fermindere wurde neffens de kleur fan 'e coating. As de film wytich is, moat de ôfsettingstiid fermindere wurde. As it readich is, moat it passend ferhege wurde. Elke boat films moat folslein befêstige wurde, en defekte produkten meie net yn it folgjende proses streame. Bygelyks, as de coating min is, lykas kleurflekken en wettermerken, moatte de meast foarkommende oerflakwytmeitsjen, kleurferskillen en wite flekken op 'e produksjeline op 'e tiid opspoard wurde. It oerflakwytmeitsjen wurdt benammen feroarsake troch de dikke silisiumnitridefilm, dy't oanpast wurde kin troch de ôfsettingstiid fan 'e film oan te passen; it kleurferskil yn 'e film wurdt benammen feroarsake troch ferstopping fan it gaspaad, lekkage fan kwartsbuizen, mikrogolffalen, ensfh.; wite flekken wurde benammen feroarsake troch lytse swarte flekken yn it foarige proses. Monitoaring fan reflektiviteit, brekingsyndeks, ensfh., feiligens fan spesjale gassen, ensfh.
Wite plakken op it oerflak:
PECVD is in relatyf wichtich proses yn sinnesellen en in wichtige yndikator fan 'e effisjinsje fan 'e sinnesellen fan in bedriuw. It PECVD-proses is oer it algemien drok, en elke batch sellen moat wurde kontroleare. Der binne in protte coatingovenbuizen, en elke buis hat oer it algemien hûnderten sellen (ôfhinklik fan 'e apparatuer). Nei it feroarjen fan 'e prosesparameters is de ferifikaasjesyklus lang. Coatingtechnology is in technology dêr't de hiele fotovoltaïsche yndustry grut belang oan hechtet. De effisjinsje fan sinnesellen kin ferbettere wurde troch it ferbetterjen fan coatingtechnology. Yn 'e takomst kin oerflaktechnology fan sinnesellen in trochbraak wurde yn 'e teoretyske effisjinsje fan sinnesellen.
Pleatsingstiid: 23 desimber 2024