Pertama sekali, kita perlu tahuPECVD(Pemendapan Wap Kimia Dipertingkatkan Plasma). Plasma ialah peningkatan gerakan haba molekul bahan. Perlanggaran antara mereka akan menyebabkan molekul gas terionisasi, dan bahan tersebut akan menjadi campuran ion positif, elektron dan zarah neutral yang bergerak bebas yang berinteraksi antara satu sama lain.
Dianggarkan bahawa kadar kehilangan pantulan cahaya pada permukaan silikon adalah setinggi kira-kira 35%. Filem anti-pantulan boleh meningkatkan kadar penggunaan cahaya suria oleh sel bateri dengan ketara, yang membantu meningkatkan ketumpatan arus fotojana dan seterusnya meningkatkan kecekapan penukaran. Pada masa yang sama, hidrogen dalam filem memasifkan permukaan sel bateri, mengurangkan kadar penggabungan semula permukaan simpang pemancar, mengurangkan arus gelap, meningkatkan voltan litar terbuka, dan meningkatkan kecekapan penukaran fotoelektrik. Penyepuhlindapan segera suhu tinggi dalam proses pembakaran memecahkan beberapa ikatan Si-H dan NH, dan H yang dibebaskan menguatkan lagi pemasifan bateri.
Oleh kerana bahan silikon gred fotovoltaik pasti mengandungi sejumlah besar bendasing dan kecacatan, jangka hayat pembawa minoriti dan panjang resapan dalam silikon berkurangan, mengakibatkan penurunan kecekapan penukaran bateri. H boleh bertindak balas dengan kecacatan atau bendasing dalam silikon, sekali gus memindahkan jalur tenaga dalam jurang jalur ke dalam jalur valens atau jalur konduksi.
1. Prinsip PECVD
Sistem PECVD ialah satu siri penjana yang menggunakanBot grafit PECVD dan penguja plasma frekuensi tinggi. Penjana plasma dipasang terus di tengah plat salutan untuk bertindak balas di bawah tekanan rendah dan suhu tinggi. Gas aktif yang digunakan ialah silana SiH4 dan ammonia NH3. Gas-gas ini bertindak balas terhadap silikon nitrida yang disimpan pada wafer silikon. Indeks biasan yang berbeza boleh diperoleh dengan mengubah nisbah silana kepada ammonia. Semasa proses pemendapan, sejumlah besar atom hidrogen dan ion hidrogen dihasilkan, menjadikan pasifasi hidrogen wafer sangat baik. Dalam vakum dan suhu ambien 480 darjah Celsius, lapisan SixNy disalut pada permukaan wafer silikon dengan mengalirkanBot grafit PECVD.
3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2
2. Si3N4
Warna filem Si3N4 berubah mengikut ketebalannya. Secara amnya, ketebalan ideal adalah antara 75 dan 80 nm, yang kelihatan biru tua. Indeks biasan filem Si3N4 adalah antara 2.0 dan 2.5. Alkohol biasanya digunakan untuk mengukur indeks biasannya.
Kesan pasifasi permukaan yang sangat baik, prestasi anti-pantulan optik yang cekap (pemadanan indeks biasan ketebalan), proses suhu rendah (mengurangkan kos dengan berkesan), dan ion H yang dihasilkan memasifkan permukaan wafer silikon.
3. Perkara biasa dalam bengkel salutan
Ketebalan filem:
Masa pemendapan adalah berbeza untuk ketebalan filem yang berbeza. Masa pemendapan harus ditingkatkan atau dikurangkan dengan sewajarnya mengikut warna salutan. Jika filem berwarna keputihan, masa pemendapan harus dikurangkan. Jika ia berwarna kemerahan, ia harus ditingkatkan dengan sewajarnya. Setiap bot filem harus disahkan sepenuhnya, dan produk yang rosak tidak dibenarkan mengalir ke dalam proses seterusnya. Contohnya, jika salutan kurang baik, seperti bintik warna dan tera air, pemutihan permukaan yang paling biasa, perbezaan warna, dan bintik putih pada barisan pengeluaran harus dikesan tepat pada masanya. Pemutihan permukaan terutamanya disebabkan oleh filem silikon nitrida tebal, yang boleh dilaraskan dengan melaraskan masa pemendapan filem; filem perbezaan warna terutamanya disebabkan oleh penyumbatan laluan gas, kebocoran tiub kuarza, kegagalan gelombang mikro, dan sebagainya; bintik putih terutamanya disebabkan oleh bintik hitam kecil dalam proses sebelumnya. Pemantauan pantulan, indeks biasan, dan sebagainya, keselamatan gas khas, dan sebagainya.
Bintik putih di permukaan:
PECVD merupakan proses yang agak penting dalam sel suria dan merupakan petunjuk penting bagi kecekapan sel suria sesebuah syarikat. Proses PECVD secara amnya sibuk, dan setiap kelompok sel perlu dipantau. Terdapat banyak tiub relau salutan, dan setiap tiub secara amnya mempunyai beratus-ratus sel (bergantung pada peralatan). Selepas menukar parameter proses, kitaran pengesahan adalah panjang. Teknologi salutan ialah teknologi yang sangat diutamakan oleh seluruh industri fotovoltaik. Kecekapan sel suria boleh dipertingkatkan dengan menambah baik teknologi salutan. Pada masa hadapan, teknologi permukaan sel suria mungkin menjadi satu kejayaan dalam kecekapan teori sel suria.
Masa siaran: 23 Dis-2024