ഒന്നാമതായി, നമ്മൾ അറിയേണ്ടതുണ്ട്പി.ഇ.സി.വി.ഡി.(പ്ലാസ്മ എൻഹാൻസ്ഡ് കെമിക്കൽ വേപ്പർ ഡിപ്പോസിഷൻ). പദാർത്ഥ തന്മാത്രകളുടെ താപ ചലനത്തിന്റെ തീവ്രതയാണ് പ്ലാസ്മ. അവ തമ്മിലുള്ള കൂട്ടിയിടി വാതക തന്മാത്രകളെ അയോണീകരിക്കാൻ ഇടയാക്കും, കൂടാതെ പദാർത്ഥം സ്വതന്ത്രമായി ചലിക്കുന്ന പോസിറ്റീവ് അയോണുകൾ, ഇലക്ട്രോണുകൾ, പരസ്പരം പ്രതിപ്രവർത്തിക്കുന്ന ന്യൂട്രൽ കണികകൾ എന്നിവയുടെ മിശ്രിതമായി മാറും.
സിലിക്കൺ പ്രതലത്തിൽ പ്രകാശത്തിന്റെ പ്രതിഫലന നഷ്ട നിരക്ക് ഏകദേശം 35% വരെ ഉയർന്നതാണെന്ന് കണക്കാക്കപ്പെടുന്നു. ആന്റി-റിഫ്ലക്ഷൻ ഫിലിമിന് ബാറ്ററി സെല്ലിന്റെ സൗരോർജ്ജ പ്രകാശത്തിന്റെ ഉപയോഗ നിരക്ക് വളരെയധികം മെച്ചപ്പെടുത്താൻ കഴിയും, ഇത് ഫോട്ടോജനറേറ്റഡ് കറന്റ് സാന്ദ്രത വർദ്ധിപ്പിക്കാനും അതുവഴി പരിവർത്തന കാര്യക്ഷമത മെച്ചപ്പെടുത്താനും സഹായിക്കുന്നു. അതേസമയം, ഫിലിമിലെ ഹൈഡ്രജൻ ബാറ്ററി സെല്ലിന്റെ ഉപരിതലത്തെ നിഷ്ക്രിയമാക്കുന്നു, എമിറ്റർ ജംഗ്ഷന്റെ ഉപരിതല പുനഃസംയോജന നിരക്ക് കുറയ്ക്കുന്നു, ഡാർക്ക് കറന്റ് കുറയ്ക്കുന്നു, ഓപ്പൺ സർക്യൂട്ട് വോൾട്ടേജ് വർദ്ധിപ്പിക്കുന്നു, ഫോട്ടോഇലക്ട്രിക് പരിവർത്തന കാര്യക്ഷമത മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നു. ബേൺ-ത്രൂ പ്രക്രിയയിലെ ഉയർന്ന താപനില തൽക്ഷണ അനീലിംഗ് ചില Si-H, NH ബോണ്ടുകളെ തകർക്കുന്നു, കൂടാതെ സ്വതന്ത്രമാക്കിയ H ബാറ്ററിയുടെ നിഷ്ക്രിയത്വത്തെ കൂടുതൽ ശക്തിപ്പെടുത്തുന്നു.
ഫോട്ടോവോൾട്ടെയ്ക്-ഗ്രേഡ് സിലിക്കൺ വസ്തുക്കളിൽ അനിവാര്യമായും വലിയ അളവിൽ മാലിന്യങ്ങളും വൈകല്യങ്ങളും അടങ്ങിയിരിക്കുന്നതിനാൽ, സിലിക്കണിലെ ന്യൂനപക്ഷ കാരിയർ ആയുസ്സും വ്യാപന ദൈർഘ്യവും കുറയുന്നു, ഇത് ബാറ്ററിയുടെ പരിവർത്തന കാര്യക്ഷമതയിൽ കുറവുണ്ടാക്കുന്നു. H ന് സിലിക്കണിലെ വൈകല്യങ്ങളുമായോ മാലിന്യങ്ങളുമായോ പ്രതിപ്രവർത്തിക്കാൻ കഴിയും, അതുവഴി ബാൻഡ്ഗാപ്പിലെ എനർജി ബാൻഡ് വാലൻസ് ബാൻഡിലേക്കോ കണ്ടക്ഷൻ ബാൻഡിലേക്കോ മാറ്റാൻ കഴിയും.
1. PECVD തത്വം
PECVD സിസ്റ്റം എന്നത് ജനറേറ്ററുകളുടെ ഒരു പരമ്പരയാണ്, ഇത് ഉപയോഗിക്കുന്നത്PECVD ഗ്രാഫൈറ്റ് ബോട്ട് ഉയർന്ന ഫ്രീക്വൻസി പ്ലാസ്മ എക്സൈറ്ററുകളും. താഴ്ന്ന മർദ്ദത്തിലും ഉയർന്ന താപനിലയിലും പ്രതികരിക്കുന്നതിനായി പ്ലാസ്മ ജനറേറ്റർ കോട്ടിംഗ് പ്ലേറ്റിന്റെ മധ്യത്തിൽ നേരിട്ട് സ്ഥാപിച്ചിരിക്കുന്നു. ഉപയോഗിക്കുന്ന സജീവ വാതകങ്ങൾ സിലാൻ SiH4 ഉം അമോണിയ NH3 ഉം ആണ്. ഈ വാതകങ്ങൾ സിലാൻ വേഫറിൽ സംഭരിച്ചിരിക്കുന്ന സിലിക്കൺ നൈട്രൈഡിൽ പ്രവർത്തിക്കുന്നു. സിലാൻ അമോണിയയുമായുള്ള അനുപാതം മാറ്റുന്നതിലൂടെ വ്യത്യസ്ത റിഫ്രാക്റ്റീവ് സൂചികകൾ ലഭിക്കും. നിക്ഷേപ പ്രക്രിയയിൽ, വലിയ അളവിൽ ഹൈഡ്രജൻ ആറ്റങ്ങളും ഹൈഡ്രജൻ അയോണുകളും ഉത്പാദിപ്പിക്കപ്പെടുന്നു, ഇത് വേഫറിന്റെ ഹൈഡ്രജൻ നിഷ്ക്രിയത്വം വളരെ മികച്ചതാക്കുന്നു. ശൂന്യതയിലും 480 ഡിഗ്രി സെൽഷ്യസ് അന്തരീക്ഷ താപനിലയിലും, സിലിക്കൺ വേഫറിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ സിക്സ്നൈ പാളി പൂശുന്നു.PECVD ഗ്രാഫൈറ്റ് ബോട്ട്.
3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2
2. സി3എൻ4
Si3N4 ഫിലിമിന്റെ നിറം അതിന്റെ കനം അനുസരിച്ച് മാറുന്നു. സാധാരണയായി, അനുയോജ്യമായ കനം 75 നും 80 nm നും ഇടയിലാണ്, ഇത് കടും നീല നിറത്തിൽ കാണപ്പെടുന്നു. Si3N4 ഫിലിമിന്റെ അപവർത്തന സൂചിക 2.0 നും 2.5 നും ഇടയിലാണ് ഏറ്റവും നല്ലത്. അതിന്റെ അപവർത്തന സൂചിക അളക്കാൻ സാധാരണയായി ആൽക്കഹോൾ ഉപയോഗിക്കുന്നു.
മികച്ച ഉപരിതല പാസിവേഷൻ പ്രഭാവം, കാര്യക്ഷമമായ ഒപ്റ്റിക്കൽ ആന്റി-റിഫ്ലക്ഷൻ പ്രകടനം (കനം റിഫ്രാക്റ്റീവ് സൂചിക പൊരുത്തപ്പെടുത്തൽ), കുറഞ്ഞ താപനില പ്രക്രിയ (ചെലവ് ഫലപ്രദമായി കുറയ്ക്കുന്നു), ഉൽപാദിപ്പിക്കപ്പെടുന്ന H അയോണുകൾ സിലിക്കൺ വേഫർ ഉപരിതലത്തെ പാസിവേറ്റ് ചെയ്യുന്നു.
3. കോട്ടിംഗ് വർക്ക്ഷോപ്പിലെ പൊതുവായ കാര്യങ്ങൾ
ഫിലിം കനം:
വ്യത്യസ്ത ഫിലിം കനം അനുസരിച്ച് നിക്ഷേപ സമയം വ്യത്യസ്തമായിരിക്കും. കോട്ടിംഗിന്റെ നിറത്തിനനുസരിച്ച് നിക്ഷേപ സമയം ഉചിതമായി വർദ്ധിപ്പിക്കുകയോ കുറയ്ക്കുകയോ ചെയ്യണം. ഫിലിം വെളുത്തതാണെങ്കിൽ, നിക്ഷേപ സമയം കുറയ്ക്കണം. അത് ചുവപ്പ് നിറമാണെങ്കിൽ, അത് ഉചിതമായി വർദ്ധിപ്പിക്കണം. ഓരോ ബോട്ട് ഫിലിമുകളും പൂർണ്ണമായും സ്ഥിരീകരിക്കണം, കൂടാതെ കേടായ ഉൽപ്പന്നങ്ങൾ അടുത്ത പ്രക്രിയയിലേക്ക് ഒഴുകാൻ അനുവദിക്കരുത്. ഉദാഹരണത്തിന്, കളർ സ്പോട്ടുകൾ, വാട്ടർമാർക്കുകൾ തുടങ്ങിയ കോട്ടിംഗ് മോശമാണെങ്കിൽ, ഏറ്റവും സാധാരണമായ ഉപരിതല വെളുപ്പിക്കൽ, നിറവ്യത്യാസം, പ്രൊഡക്ഷൻ ലൈനിലെ വെളുത്ത പാടുകൾ എന്നിവ സമയബന്ധിതമായി തിരഞ്ഞെടുക്കണം. കട്ടിയുള്ള സിലിക്കൺ നൈട്രൈഡ് ഫിലിം മൂലമാണ് ഉപരിതല വെളുപ്പിക്കൽ പ്രധാനമായും സംഭവിക്കുന്നത്, ഫിലിം ഡിപ്പോസിഷൻ സമയം ക്രമീകരിച്ചുകൊണ്ട് ഇത് ക്രമീകരിക്കാൻ കഴിയും; ഗ്യാസ് പാത്ത് ബ്ലോക്ക്, ക്വാർട്സ് ട്യൂബ് ചോർച്ച, മൈക്രോവേവ് പരാജയം മുതലായവ മൂലമാണ് വർണ്ണ വ്യത്യാസ ഫിലിം പ്രധാനമായും ഉണ്ടാകുന്നത്; വെളുത്ത പാടുകൾ പ്രധാനമായും മുൻ പ്രക്രിയയിലെ ചെറിയ കറുത്ത പാടുകൾ മൂലമാണ് ഉണ്ടാകുന്നത്. പ്രതിഫലനക്ഷമത, റിഫ്രാക്റ്റീവ് സൂചിക മുതലായവയുടെ നിരീക്ഷണം, പ്രത്യേക വാതകങ്ങളുടെ സുരക്ഷ മുതലായവ.
ഉപരിതലത്തിൽ വെളുത്ത പാടുകൾ:
സോളാർ സെല്ലുകളിൽ താരതമ്യേന പ്രധാനപ്പെട്ട ഒരു പ്രക്രിയയാണ് PECVD, കൂടാതെ ഒരു കമ്പനിയുടെ സോളാർ സെല്ലുകളുടെ കാര്യക്ഷമതയുടെ ഒരു പ്രധാന സൂചകവുമാണ്. PECVD പ്രക്രിയ പൊതുവെ തിരക്കേറിയതാണ്, കൂടാതെ ഓരോ ബാച്ച് സെല്ലുകളും നിരീക്ഷിക്കേണ്ടതുണ്ട്. നിരവധി കോട്ടിംഗ് ഫർണസ് ട്യൂബുകൾ ഉണ്ട്, ഓരോ ട്യൂബിലും സാധാരണയായി നൂറുകണക്കിന് സെല്ലുകൾ ഉണ്ട് (ഉപകരണങ്ങളെ ആശ്രയിച്ച്). പ്രോസസ് പാരാമീറ്ററുകൾ മാറ്റിയ ശേഷം, സ്ഥിരീകരണ ചക്രം ദൈർഘ്യമേറിയതാണ്. മുഴുവൻ ഫോട്ടോവോൾട്ടെയ്ക് വ്യവസായവും വലിയ പ്രാധാന്യം നൽകുന്ന ഒരു സാങ്കേതികവിദ്യയാണ് കോട്ടിംഗ് സാങ്കേതികവിദ്യ. കോട്ടിംഗ് സാങ്കേതികവിദ്യ മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നതിലൂടെ സോളാർ സെല്ലുകളുടെ കാര്യക്ഷമത മെച്ചപ്പെടുത്താൻ കഴിയും. ഭാവിയിൽ, സോളാർ സെല്ലുകളുടെ സൈദ്ധാന്തിക കാര്യക്ഷമതയിൽ സോളാർ സെൽ ഉപരിതല സാങ്കേതികവിദ്യ ഒരു വഴിത്തിരിവായി മാറിയേക്കാം.
പോസ്റ്റ് സമയം: ഡിസംബർ-23-2024