Díríonn teicneolaíocht fótailitagrafaíochta go príomha ar chórais optúla a úsáid chun patrúin chiorcaid a nochtadh ar shliseáin sileacain. Bíonn tionchar díreach ag cruinneas an phróisis seo ar fheidhmíocht agus ar tháirgeacht chiorcaid chomhtháite. Mar cheann den trealamh is fearr le haghaidh monarú sceallóga, tá suas le na céadta mílte comhpháirteanna sa mheaisín litagrafaíochta. Éilíonn na comhpháirteanna optúla agus na comhpháirteanna laistigh den chóras litagrafaíochta cruinneas thar a bheith ard chun feidhmíocht agus cruinneas an chiorcaid a chinntiú.Criadóireacht SiCa úsáideadh ichucks vaiféiragus scátháin chearnacha ceirmeacha.
Chuck vaiféirIompraíonn agus bogann an chuck vaiféir sa mheaisín litagrafaíochta an vaiféar le linn an phróisis nochta. Tá ailíniú beacht idir an vaiféar agus an chuck riachtanach chun an patrún ar dhromchla an vaiféir a mhacasamhlú go cruinn.sceallóg SiCTá cáil ar chucks as a n-éadrom, a gcobhsaíocht ardtoiseach agus a gcomhéifeacht leathnúcháin theirmigh íseal, rud a fhéadann ualaí táimhe a laghdú agus éifeachtúlacht ghluaiseachta, cruinneas suímh agus cobhsaíocht a fheabhsú.
Scáthán cearnach ceirmeach Sa mheaisín litagrafaíochta, tá an sioncrónú gluaisne idir an chuck vaiféir agus céim an masc ríthábhachtach, rud a théann i bhfeidhm go díreach ar chruinneas agus ar thoradh na litagrafaíochta. Is cuid lárnach den chóras tomhais aiseolais suímh scanadh chuck vaiféir é an frithchaiteoir cearnach, agus tá a riachtanais ábhartha éadrom agus dian. Cé go bhfuil airíonna éadroma idéalacha ag criadóireacht sileacain charbaíde, tá sé dúshlánach comhpháirteanna den sórt sin a mhonarú. Faoi láthair, úsáideann monaróirí trealaimh chiorcaid chomhtháite idirnáisiúnta ábhair ar nós shilice comhleáite agus cordierite den chuid is mó. Mar sin féin, le dul chun cinn na teicneolaíochta, tá saineolaithe na Síne tar éis scátháin chearnacha ceirmeacha sileacain charbaíde mórmhéide, casta-chruthacha, an-éadroma, lán-iata agus comhpháirteanna optúla feidhmiúla eile a mhonarú le haghaidh meaisíní fótailitagrafaíochta. Tarchuireann an fóta-masc, ar a dtugtar an cró freisin, solas tríd an masc chun patrún a fhoirmiú ar an ábhar íogair don solas. Mar sin féin, nuair a ionradaíonn solas EUV an masc, astaíonn sé teas, ag ardú na teochta go 600 go 1000 céim Celsius, rud a d'fhéadfadh damáiste teirmeach a dhéanamh. Dá bhrí sin, is gnách go dtaisctear sraith de scannán SiC ar an fóta-masc. Cuireann go leor cuideachtaí eachtracha, amhail ASML, scannáin ar fáil anois a bhfuil tarchur os cionn 90% acu chun glanadh agus cigireacht a laghdú le linn úsáid an fhóta-mhaisc agus chun éifeachtúlacht agus toradh táirge meaisíní fótailitagrafaíochta EUV a fheabhsú.
Greanadh Plasmaagus is é príomhfheidhm na bhFótamascanna Taiscthe, ar a dtugtar crosairí freisin, solas a tharchur tríd an masc agus patrún a chruthú ar an ábhar fótaisintéiseach. Mar sin féin, nuair a ionradaíonn solas EUV (ultraivialait mhór) an fótamaisc, astaíonn sé teas, ag ardú an teocht go dtí idir 600 agus 1000 céim Celsius, rud a d'fhéadfadh damáiste teirmeach a dhéanamh. Dá bhrí sin, is gnách go ndéantar sraith de scannán sileacain charbíde (SiC) a thaisceadh ar an bhfótamaisc chun an fhadhb seo a mhaolú. Faoi láthair, tá go leor cuideachtaí eachtracha, amhail ASML, tosaithe ag soláthar scannán a bhfuil trédhearcacht níos mó ná 90% acu chun an gá atá le glanadh agus cigireacht a laghdú le linn úsáid an fhótamaisc, rud a fheabhsaíonn éifeachtúlacht agus toradh táirge meaisíní litagrafaíochta EUV. Greanadh Plasma agusFáinne Fócais Taisctheagus eile I ndéantúsaíocht leathsheoltóra, úsáideann an próiseas greanta greanadóirí leachtacha nó gáis (amhail gáis ina bhfuil fluairín) ianaithe i bplasma chun an sceallóg a bhuamáil agus ábhair nach dteastaíonn a bhaint go roghnach go dtí go bhfanann an patrún ciorcaid atá ag teastáil ar anvaiféaldromchla. I gcodarsnacht leis sin, tá taisceadh scannáin tanaí cosúil le taobh eile an ghreantála, ag baint úsáide as modh taisceadh chun ábhair inslithe a chruachadh idir sraitheanna miotail chun scannán tanaí a fhoirmiú. Ós rud é go n-úsáideann an dá phróiseas teicneolaíocht plasma, bíonn siad seans maith go mbeidh éifeachtaí creimneacha acu ar sheomraí agus ar chomhpháirteanna. Dá bhrí sin, ní mór go mbeadh friotaíocht mhaith plasma, imoibríocht íseal le gáis ghreantála fluairín, agus seoltacht íseal ag na comhpháirteanna taobh istigh den trealamh. De ghnáth, déantar comhpháirteanna traidisiúnta trealaimh ghreantála agus taisceadh, amhail fáinní fócais, as ábhair amhail sileacan nó grianchloch. Mar sin féin, le dul chun cinn miondealú ciorcad comhtháite, tá an t-éileamh agus an tábhacht a bhaineann le próisis ghreantála i ndéantúsaíocht chiorcad comhtháite ag méadú. Ag an leibhéal micreascópach, éilíonn greanadh beacht sceallóga sileacain plasma ardfhuinnimh chun leithead líne níos lú agus struchtúir gléasanna níos casta a bhaint amach. Dá bhrí sin, tá cairbíd sileacain (SiC) de réir a chéile mar an t-ábhar sciath is fearr le haghaidh trealaimh ghreantála agus taisceadh lena airíonna fisiceacha agus ceimiceacha den scoth, íonacht ard agus aonfhoirmeacht. Faoi láthair, áirítear fáinní fócais, cinn cithfholcadáin gáis, tráidirí agus fáinní imeall i measc na gcomhpháirteanna cairbíd sileacain CVD i dtrealamh ghreantála. I dtrealamh taisceadh, tá clúdaigh seomra, líneálacha seomra agusFoshraitheanna graifíte atá brataithe le SIC.
Mar gheall ar a imoibríocht agus a sheoltacht íseal le gáis ghreanta clóirín agus fluairín,Carbód sileacain CVDtá sé ina ábhar idéalach do chomhpháirteanna ar nós fáinní fócais i dtrealamh greanadh plasma.Carbód sileacain CVDI measc na gcomhpháirteanna i dtrealamh greanta tá fáinní fócais, cinn cithfholcadáin gáis, tráidirí, fáinní imeall, etc. Glac na fáinní fócais mar shampla, is comhpháirteanna tábhachtacha iad atá suite lasmuigh den scealp agus i dteagmháil dhíreach leis an scealp. Trí voltas a chur i bhfeidhm ar an bhfáinne, dírítear an plasma tríd an bhfáinne ar an scealp, rud a fheabhsaíonn aonfhoirmeacht an phróisis. Go traidisiúnta, déantar fáinní fócais as sileacan nó grianchloch. Mar sin féin, de réir mar a théann miondealú ciorcad comhtháite chun cinn, leanann an t-éileamh agus an tábhacht a bhaineann le próisis greanta i ndéantúsaíocht ciorcad comhtháite ag méadú. Leanann riachtanais chumhachta agus fuinnimh greanta plasma ag ardú, go háirithe i dtrealamh greanta plasma cúpláilte go toilleasach (CCP), a éilíonn fuinneamh plasma níos airde. Mar thoradh air sin, tá úsáid fáinní fócais déanta as ábhair charbaíde sileacain ag méadú.
Am an phoist: 29 Deireadh Fómhair 2024