Ìmọ̀ ẹ̀rọ Photolithography gbájú mọ́ lílo àwọn ètò optical láti fi àwọn ìlànà circuit hàn lórí àwọn wafer silicon. Ìpéye ilana yìí ní ipa lórí iṣẹ́ àti àṣeyọrí àwọn circuit tí a ti ṣepọ. Gẹ́gẹ́ bí ọ̀kan lára àwọn ohun èlò pàtàkì fún ṣíṣe chip, ẹ̀rọ lithography ní tó tó ẹgbẹẹgbẹ̀rún àwọn èròjà. Àwọn èròjà optical àti àwọn èròjà inú ètò lithography nílò ìṣedéédé gíga gan-an láti rí i dájú pé circuit ṣiṣẹ́ dáadáa àti pé ó péye.Àwọn ohun èlò amọ̀ SiCti lo ninuàwọn páálí waferàti àwọn dígí onígun mẹ́rin seramiki.
Pẹpẹ waferIgi wafer ti o wa ninu ẹrọ lithography n gbe wafer naa o si n gbe e kiri lakoko ilana ifihan. Itoju deede laarin wafer ati chuck ṣe pataki fun didaakọ apẹrẹ naa lori oju wafer naa ni deede.Wafer SiCÀwọn chucks ni a mọ̀ fún ìdúróṣinṣin wọn tó ga, ìdúróṣinṣin tó ga àti ìwọ̀n ìfàsẹ́yìn ooru tó kéré, èyí tó lè dín àwọn ẹrù inertial kù kí ó sì mú kí iṣẹ́ ìṣíṣẹ́ náà sunwọ̀n sí i, ìṣedéédé àti ìdúróṣinṣin rẹ̀.
Dígí onígun mẹ́rin seramiki Nínú ẹ̀rọ lithography, ìṣọ̀kan ìṣípo láàrín wafer chuck àti ìpele ìbòjú ṣe pàtàkì, èyí tí ó ní ipa taara lórí ìṣedéédé lithography àti ìyọrísí. Onígun mẹ́rin jẹ́ apá pàtàkì nínú ètò ìwọ̀n àyẹ̀wò chuck wafer chuck, àti pé àwọn ohun èlò rẹ̀ fúyẹ́ àti líle. Bó tilẹ̀ jẹ́ pé àwọn ohun èlò silicon carbide ní àwọn ànímọ́ fúyẹ́ tó dára, ṣíṣe irú àwọn èròjà bẹ́ẹ̀ jẹ́ ìpèníjà. Lọ́wọ́lọ́wọ́, àwọn olùpèsè ẹ̀rọ circuit aládàáni kárí ayé tó gbajúmọ̀ jùlọ máa ń lo àwọn ohun èlò bíi fused silica àti cordierite. Síbẹ̀síbẹ̀, pẹ̀lú ìlọsíwájú ìmọ̀ ẹ̀rọ, àwọn ògbóǹkangí ará China ti ṣe àṣeyọrí ṣíṣe àwọn dígí onígun mẹ́rin seramiki silikoni carbide tó tóbi, tó ní ìrísí tó díjú, tó fúyẹ́ gan-an, tó ní àwọn ohun èlò opitika mìíràn tó ń ṣiṣẹ́ fún àwọn ẹ̀rọ photolithography. Photomask, tí a tún mọ̀ sí aperture, ń tan ìmọ́lẹ̀ nípasẹ̀ ìbòjú láti ṣẹ̀dá àpẹẹrẹ lórí ohun èlò photosensitive. Ṣùgbọ́n, nígbà tí ìmọ́lẹ̀ EUV bá tan ìmọ́lẹ̀ sí ìbòjú náà, ó ń tú ooru jáde, ó ń gbé ìwọ̀n otútù sókè sí 600 sí 1000 degrees Celsius, èyí tí ó lè fa ìbàjẹ́ ooru. Nítorí náà, a sábà máa ń fi fíìmù SiC sí orí ìbòjú photomask. Ọ̀pọ̀lọpọ̀ ilé-iṣẹ́ àjèjì, bíi ASML, ló ń fúnni ní àwọn fíìmù tí ó ju 90% lọ láti dín ìwẹ̀nùmọ́ àti àyẹ̀wò kù nígbà tí a bá ń lo ìbòjú fọ́tò àti láti mú kí iṣẹ́ àti ìṣẹ́jade ọjà ti àwọn ẹ̀rọ fọ́tò fọ́tò EUV sunwọ̀n síi.
Ìfọ́ Plasmaàti Àwọn ohun èlò ìbòjú, tí a tún mọ̀ sí àwọn ohun èlò ìbòjú, ní iṣẹ́ pàtàkì láti tan ìmọ́lẹ̀ jáde nípasẹ̀ ìbòjú àti láti ṣe àpẹẹrẹ lórí ohun èlò ìbòjú. Síbẹ̀síbẹ̀, nígbà tí ìmọ́lẹ̀ EUV (ultra ultraviolet) bá tan ìmọ́lẹ̀ sí ìbòjú, ó máa ń tú ooru jáde, ó sì máa ń gbé iwọ̀n otútù sókè sí láàrín 600 àti 1000 degrees Celsius, èyí tí ó lè fa ìbàjẹ́ ooru. Nítorí náà, a sábà máa ń fi fíìmù silicon carbide (SiC) sí orí ìbòjú láti dín ìṣòro yìí kù. Lọ́wọ́lọ́wọ́, ọ̀pọ̀ ilé iṣẹ́ àjèjì, bíi ASML, ti bẹ̀rẹ̀ sí í pèsè àwọn fíìmù pẹ̀lú ìfarahàn tí ó ju 90% lọ láti dín àìní fún ìwẹ̀nùmọ́ àti àyẹ̀wò kù nígbà lílo ìbòjú, nípa bẹ́ẹ̀ ó ń mú kí iṣẹ́ àti ìṣẹ́jade ọjà ti àwọn ẹ̀rọ lithography EUV sunwọ̀n sí i. Ìfọ́nrán Plasma àtiOruka Idojukọ Ifisilẹàti àwọn mìíràn Nínú iṣẹ́ ìṣẹ̀dá semiconductor, ìlànà ìgé etching náà ń lo àwọn ohun èlò ìgé omi tàbí gáàsì (bíi àwọn gáàsì tí ó ní fluorine) tí a fi ion sínú plasma láti bomi pa wafer náà kí ó sì yọ àwọn ohun èlò tí a kò fẹ́ kúrò ní pàtó títí tí ìlànà ìyípo tí a fẹ́ fi wà lórí rẹ̀ yóò fi wà lórí rẹ̀.waferDada. Ni idakeji, fifi fiimu tinrin kun dabi apa ẹhin ti fifi nkan kun, ni lilo ọna ifipamọ lati ko awọn ohun elo idabobo jọ laarin awọn fẹlẹfẹlẹ irin lati ṣẹda fiimu tinrin kan. Niwọn igba ti awọn ilana mejeeji lo imọ-ẹrọ plasma, wọn ni ipa ibajẹ lori awọn yara ati awọn paati. Nitorinaa, awọn paati inu ẹrọ naa ni a nilo lati ni resistance plasma ti o dara, ifasẹyin kekere si awọn gaasi fifi nkan kun fluorine, ati agbara gbigbe kekere. Awọn paati ohun elo fifi nkan kun ati ifipamọ ibile, gẹgẹbi awọn oruka idojukọ, ni a maa n fi awọn ohun elo bii silicon tabi quartz ṣe. Sibẹsibẹ, pẹlu ilọsiwaju ti miniaturization Circuit ti a ti sopọ, ibeere ati pataki ti awọn ilana fifi nkan kun ni iṣelọpọ Circuit ti a ti sopọ mọ n pọ si. Ni ipele microscopic, fifi ohun kun si silicon wafer deede nilo plasma agbara giga lati ṣaṣeyọri awọn iwọn ila kekere ati awọn ẹya ẹrọ ti o nira diẹ sii. Nitorinaa, fifi ohun kun si kemikali (CVD) silicon carbide (SiC) ti di ohun elo ti a fẹran diẹdiẹ fun fifi ohun elo kun ati fifi nkan kun pẹlu awọn ohun-ini ti ara ati kemikali ti o tayọ, mimọ giga ati iṣọkan. Ni lọwọlọwọ, awọn paati CVD silicon carbide ninu ohun elo fifi nkan kun pẹlu awọn oruka idojukọ, awọn ori iwẹ gaasi, awọn atẹ ati awọn oruka eti. Nínú àwọn ohun èlò ìpamọ́, àwọn ìbòrí yàrá wà, àwọn ohun èlò ìbòrí yàrá àtiÀwọn ohun èlò ìṣàlẹ̀ graphite tí a fi SIC bo.
Nítorí pé ó ní ìṣiṣẹ́ díẹ̀ àti ìyípopadà sí àwọn gáàsì tí ń gé chlorine àti fluorine,CVD silikoni carbideti di ohun elo ti o dara julọ fun awọn paati bii awọn oruka idojukọ ninu awọn ohun elo fifọ plasma.CVD silikoni carbideÀwọn èròjà nínú ohun èlò ìfọṣọ ní àwọn òrùka ìfọṣọ, orí ìwẹ̀ gaasi, àwọn àwo, òrùka etí, àti bẹ́ẹ̀ bẹ́ẹ̀ lọ. Ẹ wo òrùka ìfọṣọ gẹ́gẹ́ bí àpẹẹrẹ, wọ́n jẹ́ àwọn èròjà pàtàkì tí a gbé síta wáfà náà tí wọ́n sì fara kan wáfà náà tààrà. Nípa lílo fólẹ́tì sí òrùka náà, a máa ń fi plasma náà sí orí òrùka náà, èyí tí ó ń mú kí ìṣọ̀kan iṣẹ́ náà sunwọ̀n sí i. Àṣà, a máa ń fi silicon tàbí quartz ṣe òrùka ìfọṣọ náà. Síbẹ̀síbẹ̀, bí ìpele ìfọṣọ náà ṣe ń tẹ̀síwájú, ìbéèrè àti pàtàkì àwọn ìlànà ìfọṣọ nínú iṣẹ́ ìṣẹ̀dá àyíká ìfọṣọ náà ń tẹ̀síwájú láti pọ̀ sí i. Agbára ìfọṣọ Plasma àti àwọn ohun tí a nílò láti fi agbára ìfọṣọ náà sí ń pọ̀ sí i, pàápàá jùlọ nínú ohun èlò ìfọṣọ plasma (CCP) tí a fi agbára ìfọṣọ náà ṣe, èyí tí ó nílò agbára plasma tí ó ga jù. Nítorí náà, lílo òrùka ìfọṣọ tí a fi àwọn ohun èlò silicon carbide ṣe ń pọ̀ sí i.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Kẹ̀wàá-29-2024