O le tekinolosi o le Photolithography e taulaʻi tele i le faʻaaogaina o faiga faʻapitoa e faʻaalia ai mamanu o matagaluega i luga o wafers silicon. O le saʻo o lenei faiga e aʻafia ai le faʻatinoga ma le fua o matagaluega tuʻufaʻatasi. I le avea ai ma se tasi o meafaigaluega sili ona lelei mo le gaosiga o chips, o le masini lithography e aofia ai le faitau selau afe o vaega. O vaega faʻapitoa ma vaega i totonu o le faiga lithography e manaʻomia le saʻo maualuga e faʻamautinoa ai le faʻatinoga ma le saʻo o matagaluega.Omea SiCua fa'aaogaina ichucks waferma fa'ata fa'atafafā seramika.
Fa'aputuga uameaE tauave ma fa'agaoioi e le wafer chuck i le masini lithography le wafer i le taimi o le fa'agasologa o le fa'aalia. E taua tele le fa'atulagaina sa'o o le wafer ma le chuck mo le toe faia sa'o o le mamanu i luga o le fogāeleele o le wafer.SiC waferE lauiloa chucks i lo latou mama, maualuga le mautu o le fua ma le maualalo o le faʻalauteleina o le vevela, lea e mafai ona faʻaitiitia ai avega inertial ma faʻaleleia atili ai le lelei o le gaioiga, saʻo le tulaga ma le mautu.
Fa'ata fa'atafafā seramika I totonu o le masini fa'ata, e taua tele le fa'agasologa o gaioiga i le va o le wafer chuck ma le vaega o le ufimata, lea e a'afia sa'o ai le sa'o ma le fua o le lithography. O le fa'ata fa'atafafā o se vaega autū o le faiga e fuaina ai le tulaga o le wafer chuck scanning, ma e mama ma faigata ona mana'omia mea. E ui o keramika silicon carbide e iai uiga mama lelei, ae o le gaosiga o ia vaega e faigata. I le taimi nei, o lo'o fa'aaogaina e le au gaosi oloa fa'avaomalo ta'uta'ua mea e pei o le fused silica ma le cordierite. Peita'i, fa'atasi ai ma le alualu i luma o tekinolosi, ua ausia e tagata atamamai Saina le gaosiga o fa'ata fa'atafafā seramika silicon carbide tetele, foliga faigata, mama tele, ua tapunia atoa ma isi vaega opitika aoga mo masini fa'ata. O le photomask, e ta'ua fo'i o le aperture, e fa'asalalauina le malamalama e ala i le ufimata e fausia ai se mamanu i luga o mea e maaleale i le malamalama. Peita'i, a fa'asalalauina e le malamalama EUV le ufimata, e fa'asalalauina ai le vevela, ma si'itia ai le vevela i le 600 i le 1000 tikeri Celsius, lea e ono mafua ai le fa'aleagaina o le vevela. O le mea lea, e masani ona fa'apipi'i se vaega o le ata tifaga SiC i luga o le photomask. O le tele o kamupani mai fafo, e pei o le ASML, ua latou ofoina atu nei ni ata tifaga e sili atu i le 90% le transmittance e faʻaitiitia ai le faʻamamaina ma le siakiina i le taimi e faʻaaogaina ai le photomask ma faʻaleleia atili ai le lelei ma le gaosiga o masini EUV photolithography.
Vasaina o le Plasmama O le Deposition Photomasks, e taʻua foʻi o crosshairs, e iai le galuega autū o le faʻasalalauina o le malamalama e ala i le ufimata ma faia se mamanu i luga o le mea e maaleale i le malamalama. Peitaʻi, a faʻasalalauina e le malamalama EUV (extreme ultraviolet) le photomask, e faʻasalalauina ai le vevela, ma siʻitia ai le vevela i le va o le 600 ma le 1000 tikeri Celsius, lea e ono mafua ai le faʻaleagaina o le vevela. O le mea lea, o se vaega o le silicon carbide (SiC) film e masani ona faʻapipiʻi i luga o le photomask e faʻaitiitia ai lenei faʻafitauli. I le taimi nei, o le tele o kamupani mai fafo, e pei o le ASML, ua amata ona tuʻuina atu ni ata tifaga e sili atu i le 90% le manino e faʻaitiitia ai le manaʻomia o le faʻamamaina ma le siakiina i le taimi o le faʻaaogaina o le photomask, ma faʻaleleia atili ai le lelei ma le gaosiga o oloa a masini EUV lithography. Plasma Etching maMama Fa'atatau o le Fa'aputugama isi I le gaosiga o semiconductor, o le faiga o le etching e faʻaaogaina ai vai poʻo kesi etchants (e pei o kesi o loʻo i ai le fluorine) ua faʻaionated i totonu o le plasma e faʻapopo ai le wafer ma aveese ma le filifili mea e le manaʻomia seʻia oʻo ina tumau pea le mamanu o le matagaluega manaʻomia i luga o lefalaoa manifinifiluga. I se faatusatusaga, o le teuina o ata manifinifi e tutusa ma le itu i tua o le etching, e faaaoga ai se metotia o le teuina e faaputu ai mea e taofia ai le vevela i le va o vaega uʻamea e fausia ai se ata manifinifi. Talu ai ona o faiga uma e lua e faaaogaina ai le tekinolosi plasma, e faigofie ona aafia ai potu ma vaega. O le mea lea, o vaega i totonu o masini e manaomia ona i ai le teteʻe lelei o le plasma, maualalo le tali atu i kasa etching fluorine, ma maualalo le conductivity. O vaega masani o masini etching ma le teuina, e pei o mama taulai, e masani ona faia i mea e pei o le silicon po o le quartz. Peitai, faatasi ai ma le alualu i luma o le miniaturization o le integrated circuit, o le manaoga ma le taua o faiga etching i le gaosiga o le integrated circuit ua faateleina. I le tulaga microscopic, o le saʻo o le silicon wafer etching e manaomia ai le plasma maualuga le malosi e ausia ai lautele laina laiti ma fausaga sili atu ona faigata o masini. O le mea lea, o le chemical vapor deposition (CVD) silicon carbide (SiC) ua faasolosolo malie ona avea ma mea e ufiufi ai mea e sili ona fiafia i ai mo masini etching ma le teuina faatasi ai ma ona meatotino faaletino ma vailaau sili ona lelei, maualuga le mama ma le tutusa. I le taimi nei, o vaega CVD silicon carbide i masini etching e aofia ai mama taulai, ulu taele kesi, fata ma mama pito. I masini e teu ai mea, e iai ufiufi o potu, ufi o potu maO mea fa'apipi'i graphite ua ufiufi i le SIC.
Ona o lona maualalo o le tali atu ma le conductivity i kasa chlorine ma fluorine etching,CVD silicon carbideua avea ma mea lelei atoatoa mo vaega e pei o mama taula'i i masini e fai ai le plasma etching.CVD silicon carbideO vaega i masini eli e aofia ai mama fa'atatau, ulu ta'ele kesi, fata, mama pito, ma isi mea. Se'i fai ma fa'ata'ita'iga mama fa'atatau, o vaega taua ia e tu'u i fafo o le wafer ma e feso'ota'i sa'o ma le wafer. I le fa'aogaina o le voltage i le mama, e fa'atatau le plasma e ala i le mama i luga o le wafer, ma fa'aleleia atili ai le tutusa o le faiga. I aso ua mavae, o mama fa'atatau e faia i le silicon po'o le quartz. Peita'i, a'o fa'atupula'ia le fa'aitiitiga o le integrated circuit, o le mana'oga ma le taua o faiga eli i le gaosiga o le integrated circuit o lo'o fa'aauau pea ona fa'atupula'ia. O lo'o fa'aauau pea ona fa'atupula'ia le mana'omia o le plasma eli ma le malosi, aemaise lava i masini eli capacitively coupled plasma (CCP), lea e mana'omia ai le malosi plasma maualuga. O se taunuuga, o lo'o fa'atupula'ia le fa'aaogaina o mama fa'atatau e faia i mea silicon carbide.
Taimi na lafoina ai: Oke-29-2024