No uniformitat del bombardeig iònic
Secgravatsol ser un procés que combina efectes físics i químics, en què el bombardeig iònic és un mètode important de gravat físic. Durant elprocés de gravat, l'angle d'incidència i la distribució d'energia dels ions poden ser desiguals.
Si l'angle d'incidència dels ions és diferent en diferents posicions de la paret lateral, l'efecte de gravat dels ions a la paret lateral també serà diferent. En zones amb angles d'incidència dels ions més grans, l'efecte de gravat dels ions a la paret lateral és més fort, cosa que farà que la paret lateral d'aquesta zona es gravi més, fent que es doblegui. A més, la distribució desigual de l'energia dels ions també produirà efectes similars. Els ions amb una energia més alta poden eliminar materials de manera més eficaç, donant lloc a resultats inconsistents.gravatgraus de la paret lateral en diferents posicions, cosa que al seu torn fa que la paret lateral es doblegui.
La influència de la fotoresistència
La fotorresina fa el paper d'una màscara en el gravat en sec, protegint les zones que no cal gravar. Tanmateix, la fotorresina també es veu afectada pel bombardeig de plasma i les reaccions químiques durant el procés de gravat, i el seu rendiment pot canviar.
Si el gruix de la fotorresina és desigual, la taxa de consum durant el procés de gravat és inconsistent o l'adhesió entre la fotorresina i el substrat és diferent en diferents llocs, això pot provocar una protecció desigual de les parets laterals durant el procés de gravat. Per exemple, les zones amb una fotorresina més fina o una adhesió més feble poden fer que el material subjacent es pugui gravar més fàcilment, fent que les parets laterals es dobleguin en aquests llocs.
Diferències en les propietats del material del substrat
El material del substrat gravat en si pot tenir propietats diferents, com ara diferents orientacions cristal·lines i concentracions de dopatge en diferents regions. Aquestes diferències afectaran la velocitat de gravat i la selectivitat del gravat.
Per exemple, en el silici cristal·lí, la disposició dels àtoms de silici en diferents orientacions cristal·lines és diferent, i la seva reactivitat i velocitat de gravat amb el gas de gravat també seran diferents. Durant el procés de gravat, les diferents velocitats de gravat causades per les diferències en les propietats del material faran que la profunditat de gravat de les parets laterals en diferents ubicacions sigui inconsistent, cosa que finalment portarà a la flexió de la paret lateral.
Factors relacionats amb l'equipament
El rendiment i l'estat de l'equip de gravat també tenen un impacte important en els resultats del gravat. Per exemple, problemes com la distribució desigual del plasma a la cambra de reacció i el desgast desigual de l'elèctrode poden provocar una distribució desigual de paràmetres com la densitat iònica i l'energia a la superfície de l'oblea durant el gravat.
A més, un control desigual de la temperatura de l'equip i petites fluctuacions en el flux de gas també poden afectar la uniformitat del gravat, provocant la flexió de la paret lateral.
Data de publicació: 03 de desembre de 2024